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신경세포의 생존율 향상을 위한 뉴런칩의 기판 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015125240
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 신경세포의 생존율 향상을 위한 뉴런칩의 기판에 관한 것으로, 보다 상세히는, 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane)(이하, PDMS라 함)과 경화제가 뉴런칩에서의 신경세포 생존율을 향상시키기 위한 최적 비율을 이루는 뉴런칩의 기판에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 세포부착성 물질을 사용하지 않으면서, 폴리디메틸실록산(PDMS)과 경화제가 뉴런칩에서의 신경세포 생존율을 향상시키기 위한 최적 비율을 이루는 뉴런칩의 기판에 관한 것이다. 본 발명의 뉴런칩의 기판의 제조방법은, 1) PDMS 대 경화제를 10:1 중량 비율로 혼합하여 PDMS 기판을 성형하는 단계; 2) 상기 1)에서 얻어진 PDMS 기판의 표면을 친수성으로 만들기 위해 O2 Plasma처리하는 단계; 3) 상기 2)에서 얻어진 PDMS 기판을 멸균 처리하는 단계; 4) 상기 3)에서 얻어진 PDMS 기판들에 신경 세포를 배양하는 단계;를 포함하여 이루어지며, 상기 4) 에서 신경 세포를 배양하는 단계는, 배양 1일째는 pm5%+5% 배지를 사용하여 배양하고, 배양 2일째에는 Ara-c를 이용하여 아교세포의 생장을 억제하고, 배양 3일째는 배지를 Neural Basal Medium으로 교체하여, 3일마다 배지를 교체해주며 12일까지 세포 배양하는 단계를 포함한다. 뉴런칩, 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane), 경화제, 중량비율, 세포 부착성 물질
Int. CL C12N 5/07 (2010.01) C12M 3/00 (2006.01)
CPC C12M 23/20(2013.01) C12M 23/20(2013.01) C12M 23/20(2013.01)
출원번호/일자 1020080080102 (2008.08.14)
출원인 연세대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1017270-0000 (2011.02.17)
공개번호/일자 10-2010-0021268 (2010.02.24) 문서열기
공고번호/일자 (20110228) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.08.14)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정효일 대한민국 서울 서초구
2 김주한 대한민국 경기 용인시 수지구
3 이종은 대한민국 서울특별시 서초구
4 김재영 대한민국 서울특별시 양천구
5 김재환 대한민국 인천광역시 부평구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 민혜정 대한민국 서울특별시 송파구 오금로 **, ***호(방이동, 잠실리시온)(스텔라국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 연세대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 서대문구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.08.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0583641-98
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2009.08.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2009.09.11 수리 (Accepted) 9-1-2009-0050066-86
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0328404-19
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2010.09.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0595130-53
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.10.29 수리 (Accepted) 1-1-2010-0703883-60
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.10.29 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0703907-78
8 등록결정서
Decision to grant		 2010.11.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0522447-78
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.12.15 수리 (Accepted) 4-1-2011-5252006-10
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.04.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5062749-37
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.06.24 수리 (Accepted) 4-1-2013-5088566-87
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.09.25 수리 (Accepted) 4-1-2014-5114224-78
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
뉴런칩의 기판의 제조방법에 있어서, 1) 폴리디메틸실록산(PDMS) 100중량부에 대하여 경화제를 10 내지 20 중량부로 혼합하여 PDMS 기판을 성형하는 단계; 2) 상기 1)에서 얻어진 PDMS 기판의 표면을 친수성으로 만들기 위해 O2 프라즈마(Plasma)처리하는 단계; 3) 상기 2)에서 얻어진 PDMS 기판을 멸균 처리하는 단계; 4) 상기 3)에서 얻어진 PDMS 기판들의 표면을 세포부착성물질로 코팅하는 단계; 5) 상기 4)에서 얻어진 PDMS 기판들에 신경 세포를 배양하는 단계; 를 포함하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
2 2
뉴런칩의 기판의 제조방법에 있어서, 1) 폴리디메틸실록산(PDMS) 100중량부에 대하여 경화제를 10 내지 20 중량부로 혼합하여 PDMS 기판을 성형하는 단계; 2) 상기 1)에서 얻어진 PDMS 기판의 표면을 친수성으로 만들기 위해 O2 Plasma처리하는 단계; 3) 상기 2)에서 얻어진 PDMS 기판을 멸균 처리하는 단계; 4) 상기 3)에서 얻어진 PDMS 기판들에 신경 세포를 배양하는 단계; 를 포함하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
3 3
제1항 또는 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 3)에서 멸균 처리하는 단계는, 에탄올로 1 시간 동안 처리하고 UV(자외선)에 30분 동안 노출시키는 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 UV(자외선)에 30분 동안 노출시킨 후, 5~10분정도의 MS equilibrium(기판표면 안정화)을 하는 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 세포부착성물질은 폴리-D 라이신(poly-D lysine)인 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 세포부착성물질은 500mM poly-D-lysine 와 1M Laminine의 혼합액인 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
7 7
제1항 또는 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 신경 세포는, 일차대뇌피질 신경세포, 일차해마 신경세포, 일차선조 신경세포 중의 하나인 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
8 8
제1항 또는 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 신경 세포의 세포 농도(세포 밀도)는 각각 24
9 9
제1항에 있어서, 상기 5) 에서 신경 세포를 배양하는 단계는 배양 1일째 pm5%+5% 배지(우태혈청(FBS)과 말혈청(Equine serum)이 배지볼륨의 각 5%를 차지하는 배지)를 사용하여 배양하고, 배양 2일째에는 Ara-c(Cytarabine)를 이용하여 아교세포의 생장을 억제하고, 배양 3일째, 배지를 Neural Basal Medium으로 교체하여 3일마다 배지를 교체해주며 12일까지 세포 배양하는 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
10 10
제2항에 있어서, 상기 4) 에서 신경 세포를 배양하는 단계는 배양 1일째는 pm5%+5% 배지(우태혈청(FBS)과 말혈청(Equine serum)이 배지볼륨의 각 5%를 차지하는 배지)를 사용하여 배양하고, 배양 2일째에는 Ara-c(Cytarabine)를 이용하여 아교세포의 생장을 억제하고, 배양 3일째는 배지를 Neural Basal Medium으로 교체하여, 3일마다 배지를 교체해주며 12일까지 세포 배양하는 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
11 11
제1항 또는 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 1)에서 PDMS 기판을 성형할 때, 상기 PDMS 기판은 3차원 PDMS 피라미드 구조 배열을 이루는 것을 특징으로 하는 뉴런칩의 기판의 제조방법
12 12
제1항의 방법으로 제조된 뉴런칩의 기판
13 13
제2항의 방법으로 제조된 뉴런칩의 기판
14 14
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15 15
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16 16
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17 17
삭제
18 18
삭제
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 산업자원부 연세대학교 산학협력단 시스템집적반도체기술개발 CMOS 정보보안 모듈 CMOS-뉴런칩 SOC