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평행광을 조사하는 광원부;상기 평행광이 입사되는 것으로, 복수의 슬릿이 형성된 하나의 회절 격자;상기 하나의 회절 격자로부터의 회절빔이, 비균일한 굴절률을 가지는 축 대칭 형상의 피검체를 지나며 형성하는 회절 패턴을 기록하는 회절 패턴 기록부;상기 회절 패턴 기록부에 기록된 회절 패턴의 0차 피크 위치와 1차 피크 위치 사이의 간격으로부터 피검체의 굴절률 분포를 연산하는 연산부;를 포함하는 굴절률 분포 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 회절 격자는 상기 복수의 슬릿들이 상기 피검체의 축과 수직인 방향을 따라 배열된 형태인 굴절률 분포 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 피검체는 굴절률 매칭 오일 내에 배치되는 굴절률 분포 측정 장치
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제1항에 있어서,상기 회절 격자와 상기 피검체를 상기 피검체의 축에 수직인 방향으로 움직이기 위한 구동부를 더 포함하는 굴절률 분포 측정 장치
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제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 회절 패턴 기록부는회절 패턴을 촬영하는 촬영부;촬영된 회절 패턴으로부터 상기 간격을 추출하는 데이터 분석부;를 포함하여 구성되는 굴절률 분포 측정 장치
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제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,상기 연산부는,상기 피검체의 축으로부터의 거리에 따른 굴절률 변화를 포물선 형태로 가정하고, 근축 근사에 의해 필요한 계수를 연산하는 굴절률 분포 측정 장치
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제6항에 있어서,상기 연산부는,상기 피검체의 굴절률 분포 n(r)을, 굴절률 대칭축으로부터의 거리 r, 굴절률 대칭축 상에서의 굴절률을 nc라 할 때, 미지의 계수 A를 사용한 하기 식의 형태로 가정하고, 상기 측정된 간격으로부터 상기 피검체의 초점거리를 알아내고, 근축 근사(paraxial approximation)로부터 미지 계수 A 값을 결정하는 것을 특징으로 하는 굴절률 분포 측정 장치
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