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하기 일반식 1 또는 2의 아연-함유 자성 나노 입자 2~1000개들이 하나의 입자로 뭉쳐져 있는 클러스터를 포함하는 아연-함유 자성 나노 입자-기반 자성 분리용 조성물: 일반식 1ZnfMa-fOb (0003c#f003c#8, 0003c#a≤16, 0003c#b≤8, 0003c#f/(a-f)003c#10, M은 자성을 띠는 금속 원자 또는 상기 금속 원자들의 합금); 일반식 2 ZngMc-gM’dOe (0003c#g003c#8, 0003c#c≤16, 0003c#d≤16, 0003c#e≤8, 0003c#g/{(c-g)+d}003c#10, M은 자성을 띠는 금속 원자 또는 상기 금속 원자들의 합금이고; M’은 1족 원소, 2족 원소, 12족 원소, 13족 원소, 14족 원소, 15족 원소, 전이 금속 원소, 란탄족 원소 및 악티늄족 원소로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소)
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제 1 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자-기반 자성 분리용 조성물은 자기장 생성 수단을 추가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 일반식 2의 M’은 Li, Na, K, Rb, Cs, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Ra, Ge, Ga, Bi, In, Si, Ge, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Pd, Ag, Cd, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Hg, 란탄족 원소 및 악티늄족 원소로 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 원소인 것을 특징으로 자성 분리용 조성물
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4
제 1 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자는 다음 일반식 3으로 표시되는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물: 일반식 3ZnkM”h-kFeiOj (0003c#k003c#8, 0003c#h≤16, 0003c#i≤8, 0003c#j≤8, 0003c#k/{(h-k)+i}003c#10, M”은 자성을 띠는 금속 원자 또는 상기 금속 원자들의 합금)
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5 |
5
제 4 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자는 다음 일반식 4 또는 5로 표시되는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물: 일반식 4ZnqFel-qOm (0003c#q003c#8,0003c#l≤8, 0003c#m≤8, 0003c#q/(l-q)003c#10)일반식 5ZnrMnn-rFeoOp (0003c#r003c#8, 0003c#n≤8, 0003c#o≤8, 0003c#p≤8, 0003c#r/{(n-r)+o}003c#10)
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6
제 1 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자에서 아연과 다른 금속의 비율이 화학양론적으로 0
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자의 클러스터는, 상기 아연 함유 자성 나노 입자들이 서로 인력에 의해 결합되어 있거나, 유무기 담체로 둘러싸여 있는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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9
제 1 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자는 타겟물질에 대해 결합 친화도를 가지는 결합제(binding agent)가 표면에 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 9 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자 클러스터의 표면은 나노 입자의 수용화를 위한 수용성 다작용기 리간드가 코팅되어 있는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 10 항에 있어서, 상기 수용성 다작용기 유기 리간드는 무기질 나노 입자 표면에 결합하는 부착영역(LI)을 포함하는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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12
제 11 항에 있어서, 상기 부착영역은 나노 입자 표면에 이온 결합, 공유 결합, 수소 결합 및 배위 결합에서 구성된 군으로부터 선택되는 1종 이상의 결합에 의해 결합되는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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13
제 10 항에 있어서, 상기 수용성 다작용기 리간드는 분석물(analyte)에 대해 결합 친화도를 가지는 결합제(binding agent)를 결합시키기 위한 결합제 결합 영역(LⅡ), 또는 수용성 다작용기 리간드 사이의 교차연결을 위한 교차연결영역(LⅢ), 또는 상기 결합제 결합 영역(LⅡ)과 교차연결 영역(LⅢ)을 동시에 포함하는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 11 항에 있어서, 상기 부착영역(LI)은 -CHO, -COOH, -NH2, -SH, -CONH2, -PO3H, -OPO4H, -SO3H, -OSO3H, -N3, -NR3OH(R=CnH2n+1, 0≤n≤16), -OH, -SS-, -NO2, -CHO, -COX(X = F, Cl, Br, I), -COOCO-, -CONH-, -CN 및 탄소 수 2개 이상의 탄화수소로 구성된 군으로부터 선택되는 작용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 13 항에 있어서, 상기 결합제 결합 영역(LⅡ)은 -CHO, -SH, -COOH, -NH2, -OH, -PO3H, -PO4H2, -SO3H, -OSO3H, -NR3+X-(R= CnHm 0≤n≤16, 0≤m≤34, X = OH, Cl, 또는 Br), NR4+X-(R= CnHm 0≤n≤16, 0≤m≤34, X = OH, Cl, Br), -N3, -SCOCH3, -SCN, -NCS, -NCO, -CN, -F, -Cl, -I, -Br, 에폭시기, -ONO2, -PO(OH)2, -C=NNH2, -HC=CH- 및 -C=C-으로 구성된 군으로부터 선택되는 작용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 13 항에 있어서, 상기 교차연결영역(LⅢ)은 -SH, -CHO, -COOH, -NH2, -OH, -PO3H, -PO4H2, -SO3H, -OSO3H, -NR3+X-(R= CnHm 0≤n≤16, 0≤m≤34, X = OH, Cl, or Br), NR4+X-(R= CnHm 0≤n≤16, 0≤m≤34, X = OH, Cl, Br), -N3, -SCOCH3, -SCN, -NCS, -NCO, -CN, -F, -Cl, -I, -Br, 에폭시기, -ONO2, -PO(OH)2, -C=NNH2, -HC=CH- 및 -C=C-로 구성된 군으로부터 선택되는 작용기를 포함하는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 10 항에 있어서, 상기 수용성 다작용기 리간드는 화학 단분자, 고분자, 양친성 리간드, 탄수화물, 펩타이드, 단백질, 핵산 또는 지질을 포함하는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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제 10 항에 있어서, 상기 아연-함유 자성 나노 입자 클러스터는 수용성 다작용기 유기 리간드로 표면 코팅 되어 있고 타겟물질에 대해 결합 친화도를 가지는 결합제(binding agent)가 결합제 결합 영역(LⅡ)을 통하여 결합되어 있는 것을 특징으로 하는 자성 분리용 조성물
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