1 |
1
유전층; 및상기 유전층 내에 나노 블록이 복수 개의 층으로 적층된 복수 개의 나노 블록층;을 포함하고, 상기 복수 개의 나노 블록층 각각은 서로 이격되게 배열된 두 개의 나노 블록을 포함하고, 상기 복수 개의 나노 블록층이 순서대로 적층되는 빔 포커싱 장치
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
제 1항에 있어서,상기 두 개의 나노 블록 사이의 간격은 0보다 크고 2㎛ 이하의 범위를 가지는 빔 포커싱 장치
|
4 |
4
제 1항에 있어서, 상기 나노 블록은 금속으로 형성된 빔 포커싱 장치
|
5 |
5
제 4항에 있어서, 상기 나노 블록은 Au, Ag, Pt, Cu, Al, Ti, Ni로 이루어진 그룹으로부터 선택된 적어도 하나로 이루어진 빔 포커싱 장치
|
6 |
6
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 나노 블록과 유전층의 계면에서 표면 플라즈몬 폴라리톤이 발생되는 빔 포커싱 장치
|
7 |
7
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 나노 블록은 0보다 크고 500nm 이하의 폭을 가지는 빔 포커싱 장치
|
8 |
8
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 나노 블록은 0보다 크고 100nm 이하의 두께를 가지는 빔 포커싱 장치
|
9 |
9
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수 개의 나노 블록층 중 이웃하는 나노 블록층에 있는 나노 블록들 사이의 층간 간격은 나노 블록의 두께보다 큰 빔 포커싱 장치
|
10 |
10
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수 개의 나노 블록층 중 이웃하는 나노 블록층에 있는 나노 블록들 사이의 층간 간격은 0보다 크고 500nm 이하의 범위를 가지는 빔 포커싱 장치
|
11 |
11
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수 개의 나노 블록층의 각 층에 있는 두 개의 블록 사이의 간격이 점점 증가하거나 감소하는 빔 포커싱 장치
|
12 |
12
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수 개의 나노 블록층의 각 층에 있는 두 개의 블록 사이의 간격이 일정한 빔 포커싱 장치
|
13 |
13
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수 개의 나노 블록층에 있는 나노 블록들이 일렬로 배열된 빔 포커싱 장치
|
14 |
14
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수 개의 나노 블록층 사이의 층간 간격을 변화시켜 빔 포커싱 초점 거리를 조절하는 빔 포커싱 장치
|
15 |
15
제 1항, 제 3항, 제 4항 또는 제 5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 유전층은 글라스, SiO2, 또는 Si3N4로 형성되는 빔 포커싱 장치
|