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Sc, Y, Ti, Zr, Hf, La, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Fe, Co, Rh, Pd, Pt, Cu, Er, Yb, Lu, Nd, Sm, Eu 또는 Gd를 적어도 일영역 포함하고 있는 단체 또는 화합물 금속기판을 챔버에 위치시키는 단계; 상기 챔버에 규소 화합물 또는 게르마늄 화합물 중에서 선택되는 적어도 어느 하나의 기체를 충전하여 상기 기체와 금속기판의 반응을 위한 촉매를 발생시키는 단계; 및상기 금속기판상에서 규소, 게르마늄 또는 규소-게르마늄 화합물 와이어를 성장시키는 단계;를 포함하도록 함으로써, 이종의 촉매 및 전극물질 없이도 상기 금속 기판상에서 나노 와이어가 성장될 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 와이어는 봉상 또는 침상인 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 와이어의 적어도 일부는, N 타입 물질, P 타입 물질 또는 전이금속 중 적어도 어느 하나에 의해 도핑되는 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 기판은 와이어 단부의 적어도 일부면과 접촉되어 있는 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속기판과 상기 와이어는 오믹 컨택(ohmic contact)인 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서,상기 촉매를 발생시키는 단계는, 수소 분위기 하에서 이루어지는 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 촉매는, 금속 기판의 물질과 동일한 물질인 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 챔버의 내부 온도는 700℃ ~ 1200℃의 온도범위인 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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9
제 1 항에 있어서, 상기 규소 화합물 기체는 SiH4, SiCl4 중 어느 하나이며, 게르마늄 화합물 기체는 GeH4, GeCl4 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체의 제조방법
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제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항의 방법에 의하여 제조되어, 금속기판과 동일한 물질의 전극과 촉매를 갖는 것을 특징으로 하는 나노 와이어 반도체
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