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리소그래피 장치 및 리소그래피 방법

  • 기술번호 : KST2015128703
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 리소그래피 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 리소그래피 장치는 입사광을 단일의 편광방향을 갖는 제1편광으로 변환하는 편광필터; 상기 제1편광의 투과율을 조절하여 제2편광으로 변환하도록 서로 다른 방향의 편광축을 가지는 복수개의 편광패턴과, 상기 복수개의 편광패턴 중 적어도 하나와 동일 층 상에서 이웃하게 배치되며 상기 제1편광을 차단하는 차광패턴으로 구성되는 포토 마스크;를 포함하고, 상기 편광패턴 또는 차광패턴은 상기 편광축의 방향을 길이방향으로 하는 다수의 스트라이프 격자로 형성되며, 상기 다수의 스트라이프 격자들은 30nm 내지 300nm 범위의 일정한 피치(pitch)를 가지고 상호 이격되며, 상기 포토 마스크에서 투과율이 조절된 광을 조사함으로써 상기 포토 레지스트를 패터닝하는 것을 특징으로 한다.이에 의하여, 재현성 있는 패터닝을 구현할 수 있는 리소그래피 장치가 제공된다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC G03F 7/2006(2013.01) G03F 7/2006(2013.01) G03F 7/2006(2013.01) G03F 7/2006(2013.01) G03F 7/2006(2013.01) G03F 7/2006(2013.01)
출원번호/일자 1020100026291 (2010.03.24)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1037899-0000 (2011.05.24)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20110530) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.03.24)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장성환 대한민국 대전광역시 유성구
2 김재구 대한민국 대전광역시 유성구
3 유영은 대한민국 대전광역시 유성구
4 제태진 대한민국 대전광역시 서구
5 조성학 대한민국 대전광역시 서구
6 황경현 대한민국 서울특별시 강남구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 나승택 대한민국 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소)
2 조영현 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.03.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0186415-88
2 [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2010.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0531444-06
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2010.09.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2010.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2010-0059717-79
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2010.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0475416-71
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.11.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0772462-58
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2010-0772387-21
8 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.02.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0091369-51
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.03.08 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0167118-77
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.03.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0167107-75
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
13 등록결정서
Decision to grant		 2011.05.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0246035-19
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
1 1
입사광을 단일의 편광방향을 갖는 제1편광으로 변환하는 편광필터; 상기 제1편광의 투과율을 조절하여 제2편광으로 변환하도록 서로 다른 방향의 편광축을 가지는 복수개의 편광패턴과, 상기 복수개의 편광패턴 중 적어도 하나와 동일 층 상에서 이웃하게 배치되며 상기 제1편광을 차단하는 차광패턴으로 구성되는 포토 마스크;를 포함하고, 상기 편광패턴 또는 차광패턴은 상기 편광축의 방향을 길이방향으로 하는 다수의 스트라이프 격자로 형성되며, 상기 다수의 스트라이프 격자들은 30nm 내지 300nm 범위의 일정한 피치(pitch)를 가지고 상호 이격되며, 상기 포토 마스크에서 투과율이 조절된 광을 조사함으로써 상기 포토 레지스트를 패터닝하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서,상기 어느 하나의 편광패턴은 이웃하는 편광패턴과 인접하게 형성되는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치
5 5
제4항에 있어서,상기 제2편광에 포함되는 서로 다른 광분포에 의해 발생되는 경계면을 매끄럽게 변환하기 위한 디퓨저(diffuser)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 리소그래피 장치
6 6
삭제
7 7
삭제
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20130003035 US 미국 FAMILY
2 WO2011118983 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY
3 WO2011118983 WO 세계지적재산권기구(WIPO) FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2013003035 US 미국 DOCDBFAMILY
2 WO2011118983 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
3 WO2011118983 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 한국기계연구원 전략기술개발사업(MM9960) / 2010년 주요사업(NK155G) 기능성 초정밀 핵심 요소부품 제조 초정밀 금형 기반기술 개발(MM9960) / 나노기반연속생산시스템핵심요소기술(NK155G)