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간섭 리소그래피 장치

  • 기술번호 : KST2015128740
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 간섭 리소그래피 장치가 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 광원부와, 빔분할부와, 제 1 반사미러를 포함하되, 상기 광원부는 상기 빔분할부로 빔을 조사하고, 상기 빔분할부는 상기 빔을 제 1 빔과 제 2 빔으로 분광하여 상기 제 2 빔을 상기 제 1 반사미러로 반사시키는 빔스플리터와, 상기 제 1 빔을 기판으로 반사시키는 제 2 반사미러와, 상기 빔스플리터 및 상기 제 2 반사미러가 고정되는 홀더부를 포함하며, 상기 제 1 반사미러는 상기 제 2 빔을 상기 기판으로 반사시켜 상기 기판상에 반복적인 선형패턴을 형성하되, 상기 홀더부는 회전 가능하도록 형성되어, 상기 홀더부의 회전을 통해 상기 제 1 빔이 상기 기판에 입사되는 제 1 입사각과 상기 제 2 빔이 상기 기판에 입사되는 제 2 입사각을 동시에 조절 가능한 간섭 리소그래피 장치가 제공될 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01) H01L 21/0275(2013.01)
출원번호/일자 1020100097147 (2010.10.06)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1225031-0000 (2013.01.16)
공개번호/일자 10-2012-0035558 (2012.04.16) 문서열기
공고번호/일자 (20130122) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호 1020120144630;
심사청구여부/일자 Y (2010.10.06)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임형준 대한민국 대전광역시 유성구
2 김기홍 대한민국 대전광역시 유성구
3 이재종 대한민국 대전광역시 유성구
4 최기봉 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남충우 대한민국 서울 강남구 언주로 ***, *층(역삼동, 광진빌딩)(알렉스국제특허법률사무소)
2 노철호 대한민국 경기도 성남시 분당구 판교역로 ***, 에스동 ***호(삼평동,에이치스퀘어)(특허법인도담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.10.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0644324-42
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.08.25 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0073046-15
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.09.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0529144-92
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.11.17 수리 (Accepted) 1-1-2011-0908396-78
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.11.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0908390-05
9 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2012.04.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0219886-47
10 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2012.06.18 수리 (Accepted) 1-1-2012-0480960-37
11 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2012.06.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0502517-30
12 보정요구서
Request for Amendment		 2012.06.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0078856-16
13 수수료 반환 안내서
Notification of Return of Official Fee		 2012.07.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0082644-83
14 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2012.07.16 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-0567430-13
15 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.07.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0567449-80
16 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2012.11.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0678305-31
17 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)		 2012.12.12 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2012-1034587-49
18 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application		 2012.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2012-1034553-08
19 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2012.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2012-1034624-41
20 등록결정서
Decision to Grant Registration		 2013.01.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0004952-11
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
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번호 청구항
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광원부와, 빔분할부와, 제 1 반사미러를 포함하되,상기 광원부는 상기 빔분할부로 빔을 조사하고,상기 빔분할부는 상기 빔을 제 1 빔과 제 2 빔으로 분광하여 상기 제 2 빔을 상기 제 1 반사미러로 반사시키는 빔스플리터와, 상기 제 1 빔을 기판으로 반사시키는 제 2 반사미러와, 상기 빔스플리터 및 상기 제 2 반사미러가 고정되는 홀더부를 포함하며,상기 제 1 반사미러는 상기 제 2 빔을 상기 기판으로 반사시켜 상기 기판상에 반복적인 선형패턴을 형성하되,상기 홀더부는 회전 가능하도록 형성되어, 상기 홀더부의 회전을 통해 상기 제 1 빔이 상기 기판에 입사되는 제 1 입사각과 상기 제 2 빔이 상기 기판에 입사되는 제 2 입사각을 동시에 조절 가능한 간섭 리소그래피 장치
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1 KR101352030 KR 대한민국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 나노융합생산시스템연구본부 한국기계연구원 2010년 주요사업-기관고유 나노기반연속생산시스템 핵심요소기술