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표시 장치용 차광층 및 이의 형성 방법

  • 기술번호 : KST2015128890
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 잉크 번짐 현상을 억제하여 서브 픽셀들의 패턴 정밀도를 높이고 서브 픽셀들의 혼색을 방지할 수 있는 표시 장치용 차광층 및 이의 형성 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표시 장치용 차광층의 형성 방법은, 서브 픽셀 영역들에 대응하는 양각부들 및 양각부들 사이로 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하는 단계, 차광층 형성 물질을 기판 위와 임프린트 몰드의 양각부들 사이 중 어느 한 곳에 도포하는 단계, 및 임프린트 몰드로 기판을 가압 후 분리하여 베이스층과 미세 돌출부들을 동시에 형성하는 단계를 포함한다. 잉크젯, 차광층, 서브픽셀, 발광층, 컬러필터, 임프린트, 몰드, 베이스층, 돌출부
Int. CL G02F 1/1335 (2006.01) G02F 1/13 (2006.01)
CPC G02F 1/133512(2013.01)G02F 1/133512(2013.01)
출원번호/일자 1020090075428 (2009.08.14)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1074077-0000 (2011.10.10)
공개번호/일자 10-2011-0017779 (2011.02.22) 문서열기
공고번호/일자 (20111017) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2009.08.14)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최대근 대한민국 대전 유성구
2 이기중 대한민국 대전 서구
3 정준호 대한민국 대전 유성구
4 최준혁 대한민국 대전광역시 유성구
5 김기돈 대한민국 서울 송파구
6 이지혜 대한민국 대전 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 팬코리아특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, 역삼***빌딩 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2009.08.14 수리 (Accepted) 1-1-2009-0498582-54
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.01.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0009819-49
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.03.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0151342-79
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2011-0151341-23
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069919-31
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2011.04.08 수리 (Accepted) 4-1-2011-5069914-14
7 등록결정서
Decision to grant		 2011.09.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0564193-84
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 위에 형성되며, 서브 픽셀 영역들을 구획하는 베이스층; 및 상기 베이스층의 표면에 형성되며, 소수성을 발현하는 미세 돌출부들 을 포함하고, 상기 미세 돌출부들 각각은, 상기 베이스층과 접하며 마이크로 스케일의 폭을 가지는 제1 돌출부; 및 상기 제1 돌출부와 접하며 나노 스케일의 폭을 가지는 제2 돌출부들 을 포함하는 표시 장치용 차광층
2 2
제1항에 있어서, 상기 제1 돌출부는 1㎛ 내지 20㎛의 폭을 가지며, 상기 제2 미세 돌출부들 각각은 50nm 내지 1㎛의 폭을 가지는 표시 장치용 차광층
3 3
제2항에 있어서, 상기 제1 돌출부와 상기 제2 돌출부들 각각은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되는 표시 장치용 차광층
4 4
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 차광층; 및 상기 차광층에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치하는 컬러 필터들 을 포함하는 액정 표시 장치
5 5
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 차광층; 및 상기 차광층에 의해 구획된 서브 픽셀 영역들에 위치하는 유기 발광층들 을 포함하는 유기 발광 표시 장치
6 6
표시 장치용 차광층 형성에 사용되는 임프린트 몰드에 있어서, 상기 임프린트 몰드는 상기 표시 장치의 서브 픽셀 영역들에 대응하여 돌출된 양각부들 및 상기 양각부들 사이에 형성된 미세 오목부들을 포함하여 상기 차광층의 임프린트 또는 전사 과정에서 상기 차광층이 상기 양각부들 사이에 대응하여 위치하는 베이스층 및 상기 베이스층 위로 상기 미세 오목부들에 대응하는 미세 돌출부들을 형성하도록 하는 표시 장치의 차광층 형성용 임프린트 몰드
7 7
제6항에 있어서, 상기 미세 오목부들 각각은, 마이크로 스케일의 폭을 가지는 제1 오목부; 및 상기 제1 오목부에 형성되며, 나노 스케일의 폭을 가지는 제2 오목부들 을 포함하는 표시 장치의 차광층 형성용 임프린트 몰드
8 8
삭제
9 9
기판 위에 서브 픽셀 영역들을 구획하는 베이스층을 형성하는 단계; 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하고, 상기 베이스층의 형성 물질과 다른 돌출부 형성 물질로 상기 미세 오목부들을 채우는 단계; 및 상기 임프린트 몰드로 상기 베이스층을 가압 후 분리하여 상기 베이스층 위로 상기 돌출부 형성 물질을 전사시킴으로써 미세 돌출부들을 형성하는 단계 를 포함하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법
10 10
서브 픽셀 영역들에 대응하여 돌출된 양각부들 및 상기 양각부들 사이로 미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하는 단계; 차광층 형성 물질을 기판 위와 상기 임프린트 몰드의 상기 양각부들 사이 중 어느 한 곳에 도포하는 단계; 및 상기 임프린트 몰드로 상기 기판을 가압 후 분리하여 베이스층과 미세 돌출부들을 동시에 형성하는 단계 를 포함하며, 상기 베이스층은 상기 양각부들에 의해 상기 서브 픽셀 영역들을 제외한 나머지 영역에 대응하여 위치하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법
11 11
미세 오목부들이 형성된 임프린트 몰드를 준비하는 단계; 자외선 경화형 차광층 형성 물질을 기판 위 전체와 상기 미세 오목부들이 형성된 상기 임프린트 몰드의 일면 중 어느 한 곳에 도포하는 단계; 상기 임프린트 몰드로 상기 기판을 가압 후 분리하여 상기 기판 위 전체에 베이스층과 미세 돌출부들을 동시에 형성하는 단계; 상기 베이스층 및 상기 미세 돌출부들 중 서브 픽셀 영역들을 제외한 나머지 영역을 자외선으로 경화시키는 단계; 및 상기 베이스층 및 상기 미세 돌출부들 중 미경화 영역을 제거하는 단계 를 포함하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법
12 12
삭제
13 13
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미세 오목부들 각각은 50nm 내지 20㎛의 폭을 가지며, 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되는 표시 장치용 차광층의 형성 방법
14 14
제9항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 미세 오목부들 각각은, 마이크로 스케일의 폭을 가지는 제1 오목부; 및 상기 제1 오목부에 형성되며, 나노 스케일의 폭을 가지는 제2 오목부들 을 포함하는 표시 장치용 차광층의 형성 방법
15 15
제14항에 있어서, 상기 제1 오목부와 상기 제2 오목부들 각각은 기둥, 일자형 벽, 격자형 벽 중 어느 하나의 모양으로 형성되고, 상기 제1 오목부는 1㎛ 내지 20㎛의 폭을 가지며, 상기 제2 오목부들 각각은 50nm 내지 1㎛의 폭을 가지는 표시 장치용 차광층의 형성 방법
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1 교육과학기술부 한국기계연구원 21세기 프론티어-나노메카트로닉스 기술개발사업 나노임프린트 공정기술 개발