요약 | 본 발명은 전극 표면에서 전반사 및 광도파로 효과로 인해 손실되는 광의 추출 효율을 향상시킬 수 있는 유기 발광 소자를 실현한다는 것으로, 이를 위하여 본 발명은, 기판 상에 제 1 전극, 유기물층 및 제 2 전극이 순차 적층되는 구조를 갖는 종래의 유기 발광 소자와는 달리, 기판과 제 1 전극 사이에 요철 형상의 미세 패턴을 갖는 나노 구조체를 형성하여, 전반사와 광 도파로 모드로 인해 손실되는 광을 기판 외부로 추출함으로써 외부 양자 효율이 향상된 유기 발광 소자를 실현할 수 있으며, 또한 시야각에 따른 광 추출 패턴과 색 변화를 개선할 수 있는 것이다. |
---|---|
Int. CL | H05B 33/22 (2006.01.01) H05B 33/26 (2006.01.01) H01L 51/50 (2006.01.01) B82Y 20/00 (2017.01.01) |
CPC | H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) H01L 51/5203(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020080136593 (2008.12.30) |
출원인 | 서울대학교산학협력단 |
등록번호/일자 | 10-1029299-0000 (2011.04.07) |
공개번호/일자 | 10-2010-0078354 (2010.07.08) 문서열기 |
공고번호/일자 | (20110418) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2008.12.30) |
심사청구항수 | 16 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
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1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 김장주 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
2 | 김형준 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
3 | 조환희 | 대한민국 | 서울특별시 마포구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 제일특허법인(유) | 대한민국 | 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩) |
2 | 김원준 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 마방로 ** (양재동, 동원F&B빌딩)(제일특허법인(유)) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2008.12.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0903626-20 |
2 | 보정요구서 Request for Amendment |
2009.01.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2009-0003578-99 |
3 | [출원서등 보정]보정서 [Amendment to Patent Application, etc.] Amendment |
2009.01.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0034861-38 |
4 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2009.04.08 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0211505-52 |
5 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2010.01.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
6 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2010.02.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0009562-83 |
7 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.02.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0087154-68 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.04.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0270087-09 |
9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.04.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0270086-53 |
10 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2010.08.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0383702-44 |
11 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2010.10.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0697779-22 |
12 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief) |
2010.11.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0770117-75 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2010.12.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0877798-67 |
14 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2010.12.30 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0877800-72 |
15 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.03.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0147918-64 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
20 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 기판과, 상기 기판 상에 열 또는 광 경화 공정으로 형성된 비주기성을 갖는 요철 형상의 유기물 미세 패턴을 갖는 나노 구조체와, 상기 나노 구조체 상에 형성된 제 1 전극과, 상기 제 1 전극 상에 형성된 유기물층과, 상기 유기물층 상에 형성된 제 2 전극 을 포함하는 유기 발광 소자 |
2 |
2 제 1 항에 있어서, 상기 유기 발광 소자는, 상기 나노 구조체와 제 1 전극 사이에 상기 유기물 미세 패턴을 평탄화시키는 평탄화층 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
3 |
3 제 2 항에 있어서, 상기 평탄화층은, 상기 나노 구조체의 굴절률과 다른 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
4 |
4 삭제 |
5 |
5 삭제 |
6 |
6 삭제 |
7 |
7 삭제 |
8 |
8 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기물 미세 패턴은, 원형 또는 다각형 모양의 기둥 형상인 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
9 |
9 제 8 항에 있어서, 상기 기둥 형상의 측벽 기울기는, 35 내지 90°의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
10 |
10 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기물 미세 패턴은, 패턴의 크기가 일정하고, 패턴간의 간격이 다른 형상인 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
11 |
11 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기물 미세 패턴은, 패턴 중심간의 거리가 일정하고, 패턴의 크기가 다른 형상인 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
12 |
12 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 유기물 미세 패턴은, 패턴간의 간격과 그 크기가 각각 다른 형상인 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자 |
13 |
13 기판 상에 비주기적인 위치 또는 서로 다른 크기를 갖는 유기물의 나노 구조체를 열 또는 광 경화 공정으로 형성하는 과정과, 상기 나노 구조체 상에 제 1 전극, 유기물층 및 제2전극을 순차 형성하는 과정 을 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
14 |
14 기판 상에 열 또는 광 경화성의 유기물로 된 나노 구조 물질을 형성하는 과정과, 비주기성을 갖는 요철 형상의 나노 패턴이 형성된 몰드의 패턴면을 상기 나노 구조 물질에 가압 접촉시켜 상기 나노 구조 물질을 나노 구조체 형상으로 변형시키는 과정과, 상기 기판으로부터 상기 몰드를 분리시킴으로써, 비주기성을 갖는 요철 형상의 미세 패턴을 갖는 나노 구조체를 형성하는 과정과, 상기 나노 구조체 상에 제 1 전극, 유기물층 및 제 2 전극을 순차 형성하는 과정 을 포함하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
15 |
15 제 14 항에 있어서, 상기 제조 방법은, 상기 나노 구조체를 형성한 후 상기 미세 패턴을 평탄화시키는 평탄화층을 형성하는 과정 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
16 |
16 제 15 항에 있어서, 상기 평탄화층은, 스퍼터링법, 증착법, 증착 중합법, 전자 빔 증착법, 플라즈마 증착법, 화화기상 증착법, 졸젤법, 스핀 코팅법, 잉크젯법, 오프셋 인쇄법 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
17 |
17 제 16 항에 있어서, 상기 평탄화층은, 상기 나노 구조체의 굴절률과 다른 굴절률을 갖는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
18 |
18 삭제 |
19 |
19 삭제 |
20 |
20 삭제 |
21 |
21 삭제 |
22 |
22 제 14 항에 있어서, 상기 나노 구조 물질은, 스핀 코팅법, 진공 증착법, 도포법, 잉크젯법, 오프셋 인쇄법 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
23 |
23 삭제 |
24 |
24 제 14 항에 있어서, 상기 나노 구조체에 형성된 미세 패턴은, 원형 또는 다각형 모양의 기둥 형상인 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
25 |
25 제 24 항에 있어서, 상기 기둥 형상의 측벽 기울기는, 35 내지 90°의 범위를 갖는 것을 특징으로 하는 유기 발광 소자의 제조 방법 |
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지정국 정보가 없습니다 |
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순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
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1 | US08692237 | US | 미국 | FAMILY |
2 | US20110266577 | US | 미국 | FAMILY |
3 | WO2010077070 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
4 | WO2010077070 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | FAMILY |
순번 | 패밀리번호 | 국가코드 | 국가명 | 종류 |
---|---|---|---|---|
1 | US2011266577 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
2 | US8692237 | US | 미국 | DOCDBFAMILY |
3 | WO2010077070 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
4 | WO2010077070 | WO | 세계지적재산권기구(WIPO) | DOCDBFAMILY |
순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 교육과학기술부 | 한국기계연구원 | 나노메카트로닉스기술개발사업 | 나노 임프린트 공정 기술 |
특허 등록번호 | 10-1029299-0000 |
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표시번호 | 사항 |
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1 |
출원 연월일 : 20081230 출원 번호 : 1020080136593 공고 연월일 : 20110418 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20110317 청구범위의 항수 : 16 유별 : H05B 33/22 발명의 명칭 : 유기 발광 소자 및 그 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 334,500 원 | 2011년 04월 08일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2014년 03월 28일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 274,400 원 | 2015년 02월 26일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 274,400 원 | 2016년 01월 28일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 495,600 원 | 2017년 04월 03일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 354,000 원 | 2018년 04월 06일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 354,000 원 | 2019년 04월 02일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 560,000 원 | 2020년 04월 01일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2008.12.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2008-0903626-20 |
2 | 보정요구서 | 2009.01.15 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 1-5-2009-0003578-99 |
3 | [출원서등 보정]보정서 | 2009.01.20 | 수리 (Accepted) | 1-1-2009-0034861-38 |
4 | [명세서등 보정]보정서 | 2009.04.08 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2009-0211505-52 |
5 | 선행기술조사의뢰서 | 2010.01.08 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
6 | 선행기술조사보고서 | 2010.02.11 | 수리 (Accepted) | 9-1-2010-0009562-83 |
7 | 의견제출통지서 | 2010.02.26 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0087154-68 |
8 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.04.26 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0270087-09 |
9 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.04.26 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0270086-53 |
10 | 의견제출통지서 | 2010.08.31 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2010-0383702-44 |
11 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2010.10.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0697779-22 |
12 | [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 | 2010.11.25 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0770117-75 |
13 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2010.12.30 | 수리 (Accepted) | 1-1-2010-0877798-67 |
14 | [명세서등 보정]보정서 | 2010.12.30 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2010-0877800-72 |
15 | 등록결정서 | 2011.03.17 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0147918-64 |
16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2011.09.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2011-5195109-43 |
17 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
18 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
19 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
20 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
21 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
22 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
기술정보가 없습니다 |
---|
과제고유번호 | 1345162546 |
---|---|
세부과제번호 | 14-2008-01-001-00 |
연구과제명 | 나노임프린트 공정기술개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200804~201203 |
기여율 | 1 |
연구개발단계명 | 개발연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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