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컴퓨터를 이용하여 패턴 이미지를 형성하는 패턴 형성 단계;
포토레지스트가 도포된 피노광체의 표면에 프로젝터를 이용하여 상기 패턴 이미지를 표시하는 패턴 표시 단계;
상기 패턴 이미지의 위치를 상기 컴퓨터로 조정하여 상기 피노광체의 표면에 상기 패턴 이미지를 정렬시키는 패턴 정렬 단계; 및
상기 패턴 이미지가 상기 피노광체의 표면에 정렬되면, 상기 프로젝터가 상기 피노광체의 표면에 상기 패턴 이미지의 형상으로 자외선을 투영하는 패턴 노광 단계;
를 포함하는 미세전기기계 시스템의 노광 방법
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제1항에 있어서,
상기 패턴 표시 단계와 상기 패턴 노광 단계 사이에 실시되고, 상기 프로젝터와 상기 피노광체의 거리 및 상기 프로젝터의 초점을 조절하여 상기 피노광체의 표면 넓이에 따라 상기 패턴 이미지의 크기를 조절하는 패턴 조절 단계;
를 더 포함하는 미세전기기계 시스템의 노광 방법
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3
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 패턴 형성 단계에서는 상기 피노광체의 표면 형상에 따라 상기 패턴 이미지를 2차원 또는 3차원 형상으로 형성하는 미세전기기계 시스템의 노광 방법
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4
제3항에 있어서,
상기 패턴 이미지는 상기 패턴 노광 단계에서 패턴의 변화가 없는 단일 이미지로 형성된 미세전기기계 시스템의 노광 방법
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5
제3항에 있어서,
상기 패턴 이미지는 상기 패턴 노광 단계에서 패턴의 변화가 있는 동영상 이미지로 형성된 미세전기기계 시스템의 노광 방법
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6
제5항에 있어서,
상기 패턴 이미지는 상기 패턴의 위치와 형상을 단계적 또는 연속적으로 변화시키도록 형성된 미세전기기계 시스템의 노광 방법
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7
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 패턴 노광 단계의 이전 단계에서는 상기 프로젝터가 상기 피노광체의 표면에 자외선 이외의 광선으로 상기 패턴 이미지를 표시하고,
상기 패턴 노광 단계에서는 상기 프로젝터가 상기 피노광체의 표면에 자외선을 포함하는 광선으로 상기 패턴 이미지를 표시하는 미세전기기계 시스템의 노광 방법
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8
포토레지스트를 도포한 피노광체가 배치되는 스테이지;
상기 피노광체의 표면에 패턴 이미지의 영상을 표시하는 프로젝터;
상기 패턴 이미지를 생성하여 상기 프로젝터에 제공하고, 상기 프로젝터에 제공되는 상기 패턴 이미지의 위치를 변경하여 상기 피노광체의 표면에 표시되는 상기 패턴 이미지를 정렬하는 컴퓨터; 및
상기 프로젝터와 상기 피노광체 사이에 배치되며, 상기 패턴 이미지의 정렬시 상기 프로젝터에서 상기 피노광체로 조사되는 자외선을 차단하고, 상기 피노광체의 노광시 상기 자외선의 차단을 해제하는 자외선 필터;
를 포함하는 미세전기기계 시스템의 노광 장치
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제8항에 있어서,
상기 스테이지 또는 상기 프로젝터 중 적어도 하나는, 상기 피노광체의 표면 넓이에 따라 상기 패턴 이미지의 크기를 조절할 수 있도록 이동 가능하게 배치된 미세전기기계 시스템의 노광 장치
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제9항에 있어서,
상기 프로젝터는,
상기 피노광체의 표면을 향해 상기 패턴 이미지를 비추는 영사부가 형성된 프로젝터 본체; 및
상기 프로젝터 본체의 영사부에 구비되고, 상기 피노광체의 표면 넓이에 따라 상기 패턴 이미지의 크기를 조절하도록 상기 영사부의 초점을 조정하는 렌즈 기구;
를 구비한 미세전기기계 시스템의 노광 장치
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제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 컴퓨터는 상기 피노광체의 노광시 상기 패턴 이미지의 패턴 형상이 변경되도록 상기 패턴 이미지를 동영상 이미지로 형성하는 미세전기기계 시스템의 노광 장치
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제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 컴퓨터는 상기 피노광체의 표면 형상에 따라 상기 패턴 이미지를 2차원 또는 3차원 형상으로 생성하는 미세전기기계 시스템의 노광 장치
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