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실린더에 포토 레지스트층(photo resist layer)을 형성하는 포토 레지스트층 형성 단계;
레이저를 상기 포토 레지스트층에 조사하여 노광하는 포토 레지스트층 노광 단계;
상기 포토 레지스트층에서 노광된 부분 또는 노광되지 않은 부분을 제거하는 포토 레지스트층 현상 단계; 및
상기 실린더에 미세 패턴을 형성하는 실린더 식각 단계;
를 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제1항에 있어서,
상기 포토 레지스트층 형성 단계는 상기 실린더를 회전시키면서 상기 실린더에 감광액을 도포하는 단계를 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제2항에 있어서,
상기 소프트 베이킹하는 단계는 상기 실린더를 오븐(oven)에서 소프트 경화(soft-baking)하는 단계를 더 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제3항에 있어서,
상기 소프트 경화하는 단계는 상기 실린더를 회전시키면서 상기 포토 레지스트층을 경화시키는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제1항에 있어서,
상기 포토 레지스트층 현상 단계는 노광된 상기 포토 레지스트층을 현상액이 담긴 수조에서 현상하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제1항에 있어서,
상기 실린더 식각 단계는 현상된 상기 포토 레지스트층을 오븐에서 하드 경화하는 단계를 더 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제1항에 있어서,
상기 실린더는 몸체와 몸체의 외면에 형성된 식각층을 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제7항에 있어서,
상기 실린더 식각 단계는 상기 실린더를 식각액이 담긴 수조에서 상기 식각층을 식각하여 상기 식각층에 패턴을 형성하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제1항에 있어서,
상기 포토 레지스트층 형성 단계 이전에 플라즈마 또는 코로나를 이용하여 상기 실린더의 표면을 친수성으로 처리하는 단계를 더 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제1항에 있어서,
상기 포토 레지스트층 형성 단계는 감광성 필름(DFR; Dry Film Phtoresist)을 상기 실린더에 부착하는 단계를 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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감광성 필름에 패턴을 형성하는 감광성 필름 패터닝 단계;
실린더에 상기 감광성 필름을 부착하는 단계;
상기 감광성 필름을 이루는 포토 레지스트층에서 노광된 부분 또는 노광되지 않은 부분을 제거하는 포토 레지스트층 현상 단계; 및
상기 실린더에 패턴을 형성하는 실린더 식각 단계;
를 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제11항에 있어서,
상기 감광성 필름 패터닝 단계는 포토마스크를 설치한 상태에서 상기 감광성 필름을 노광하여 패터닝하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제12항에 있어서,
상기 감광성 필름 패터닝 단계는 상기 감광성 필름을 평면 상에서 상기 감광성 필름을 패터닝하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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제11항에 있어서,
상기 감광성 필름에 부착된 보호막을 제거하는 단계를 더 포함하는 미세 패턴을 갖는 실린더의 제조 방법
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