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공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며 저압 플라즈마를 생성하여 상기 공정 챔버에서 배출되는 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기에 있어서,내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하는 절연체;상기 절연체의 일단에 연결되는 접지 전극; 및상기 절연체의 다른 일단에 연결되고 무선 주파수(RF) 전원부로부터 무선 주파수의 구동 전압을 인가받는 구동 전극을 포함하며,상기 구동 전극의 내면은,상기 플라즈마 생성 공간을 더 형성하고 상기 플라즈마 생성 공간에 노출되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 절연체는,오염 물질의 흐름 방향에서 상기 구동 전극의 전방에 연결되는 제1 절연체, 및상기 구동 전극의 후방에 연결되는 제2 절연체를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 접지 전극은,상기 제1 절연체의 전방에 연결되는 제1 접지 전극, 및상기 제2 절연체의 후방에 연결되는 제2 접지 전극을 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 제1 접지 전극, 상기 제1 절연체, 상기 구동 전극, 상기 제2 절연체 및 상기 제2 접지 전극은,동일 직경을 가지는 원통으로 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 제1 절연체, 상기 구동 전극 및 상기 제2 절연체는동일 직경을 가지는 원통으로 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제5항에 있어서,상기 제1 접지 전극은,상기 제1 절연체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부, 및상기 균일 직경부와 상기 제1 절연체의 전단을 연결하며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 확대되는 가변 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제6항에 있어서,상기 제2 접지 전극은,상기 제2 절연체의 후단을 연결하며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 축소되는 가변 직경부, 및상기 가변 직경부에 연결되고 상기 제2 절연체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 제1 접지 전극, 상기 제1 절연체, 상기 구동 전극 및 상기 제2 절연체는동일 직경을 가지는 원통으로 형성되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 제2 접지 전극은,상기 제2 절연체의 후단을 연결하며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 축소되는 가변 직경부, 및상기 가변 직경부에 연결되고 상기 제2 절연체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 제2 접지 전극은,상기 제2 절연체의 후단에 고정되고 상기 상기 제2 절연체와 동일 직경으로 형성되는 대경부, 및상기 대경부에 연결되어 상기 대경부보다 작은 직경을 가진 소경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제10항에 있어서,상기 제2 접지 전극은,오염 물질의 흐름 방향에 수직 방향으로 형성되어 상기 대경부와 상기 소경부를 연결하는 측벽부를 더 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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