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가공물의 저면에 냉각 부재가 형성된 냉각 가공물을 형성하는 냉각 가공물 형성 장치,상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 성에층 형성 장치,상기 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 상기 성에층 및상기 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 레이저 발생 장치,상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 세정하는 세정 장치를 포함하고,상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 세정 장치의 세정액에 담구어 상기 냉각 부재를 기화시켜 발생시킨 버블이 상기 미세 홀 내부의 파티클을 제거하는 레이저 가공 시스템
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제1항에서, 상기 냉각 가공물 형성 장치는상기 가공물의 표면을 흡착하는 진공척,상기 가공물의 저면에 위치하는 냉각 가스를 압축하여 상기 가공물의 저면에 냉각 부재를 형성하는 압축 피스톤을 포함하는 레이저 가공 시스템
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제1항에서,상기 냉각 부재는 고체 드라이 아이스인 레이저 가공 시스템
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제1항에서,상기 성에층 형성 장치는상기 냉각 가공물이 탑재되며 상기 냉각 가공물의 표면만 노출되는 고정 지그,상기 고정 지그 내부에 위치하며 상기 냉각 가공물을 지지하는 지지판,상기 고정 지그와 상기 지지판 사이에 설치되는 완충 부재를 포함하는 레이저 가공 시스템
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제4항에서,상기 고정 지그는 단열재로 만들어지는 레이저 가공 시스템
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제1항에서,상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 상기 세정 장치의 세정액에 담구는 레이저 가공 시스템
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가공물의 저면에 냉각 부재가 형성된 냉각 가공물을 형성하는 단계,상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 단계,상기 성에층이 형성된 냉각 가공물에 레이저 빔을 조사하여 상기 성에층 및 상기 냉각 가공물에 미세 홀을 형성하는 단계,상기 미세 홀이 형성된 냉각 가공물을 뒤집어서 세정 장치의 세정액에 담구어 상기 냉각 부재를 기화시켜 발생시킨 버블이 상기 미세 홀 내부의 파티클을 제거하는 단계를 포함하는 레이저 가공 방법
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제8항에서,상기 가공물의 저면에 위치하는 냉각 가스를 압축하여 상기 가공물의 저면에 냉각 부재를 형성하는 레이저 가공 방법
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제9항에서,상기 냉각 가스는 이산화탄소(CO2)와 불소 계열 가스의 혼합 가스인 레이저 가공 방법
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제9항에서,상기 냉각 가스는 이산화탄소(CO2)와 산소(O2)의 혼합 가스인 레이저 가공 방법
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제10항 또는 제11항에서,상기 냉각 가스는 나프탈렌, 안트라센, 또는 테트라센 중에서 선택된 어느 하나의 첨가제를 포함하는 레이저 가공 방법
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제9항에서,단열재로 만들어진 고정 지그에 탑재된 상기 냉각 가공물의 표면을 노출시켜 시간 경과에 따라 상기 냉각 가공물의 표면에 성에층을 형성하는 레이저 가공 방법
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제8항에서,상기 레이저 빔을 이용하여 상기 냉각 부재에 미세 홀을 형성하여 상기 냉각 부재의 파티클이 상기 가공물 및 성에층의 미세 홀을 통해 분출되게 하는 레이저 가공 방법
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제8항에서,상기 냉각 부재를 기화시키는 동시에 상기 성에층을 액화시켜 상기 성에층에 비산된 파티클을 제거하는 레이저 가공 방법
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