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공정 챔버와 연결된 진공 펌프에 설치되어 진공 펌프에 적층된 분말들을 세정하기 위한 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기에 있어서,내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하고, 상기 진공 펌프에 직접 부착되어 상기 플라즈마 생성 공간이 상기 진공 펌프의 내부와 연통되도록 하며, 내부에서 생성된 플라즈마를 상기 진공 펌프의 펌핑 압력을 이용하여 제트의 형태로 상기 진공 펌프에 분사하는 플라즈마 반응관을 포함하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응관의 내부로 세정 가스를 공급하는 가스 공급관을 더 포함하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 세정 가스는 CF4, C2F6, NF3, SF6, O2, 및 H2로 이루어진 군에서 선택된 적어도 하나의 물질을 포함하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 가스 공급관은 서로 다른 세정 가스를 저장하는 복수의 가스 공급부 및 유량 제어부와 연결되어 상기 세정 가스의 성분 비와 유량을 제어하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응관의 외주면에 설치된 유도 코일; 및상기 유도 코일에 전력을 공급하는 전원부를 더 포함하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응관의 외주면에서 상호 이격 배치된 제1 및 제2 전극;상기 제1 및 제2 전극에 전력을 공급하는 전원부를 더 포함하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제4항 또는 제5항에 있어서,상기 플라즈마 반응관은 유전체 튜브로 제조되는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 반응관은 애노드 전극으로 기능하고,상기 플라즈마 반응관의 내부에 설치된 캐소드 전극; 및상기 플라즈마 반응관과 상기 캐소드 전극에 전력을 공급하는 전원부를 더 포함하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제5항, 제6항, 및 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 전원부는 교류(AC), 직류(DC), 무선주파수(RF), 및 극초단파(microwave) 중 어느 하나의 방식으로 구동하는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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공정 챔버와 연결된 진공 펌프에 설치되어 진공 펌프에 적층된 분말들을 세정하기 위한 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기에 있어서,상기 진공 펌프의 내부 공간과 연결된 플라즈마 생성 공간을 형성하며, 내부에서 생성된 플라즈마를 상기 진공 펌프의 펌핑 압력을 이용하여 제트의 형태로 상기 진공 펌프에 제공하는 두 개 이상의 플라즈마 반응관을 포함하고,상기 두 개 이상의 플라즈마 반응관은 상기 진공 펌프의 외측에서 서로간 거리를 두고 설치되는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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제10항에 있어서,상기 두 개 이상의 플라즈마 반응관은 같은 방식으로 플라즈마를 생성하는 같은 종류의 반응관으로 구성되는 진공 펌프용 원거리 플라즈마 반응기
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