요약 | 본 발명은 자성을 이용한 가변몰드 제작방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 자성을 이용한 가변몰드 제작방법은 자성을 가지는 기판을 준비하는 기판준비단계; 베이스 상에 내부로 함몰되는 함몰영역을 형성하는 함몰영역 형성단계; 상기 기판을 상기 베이스 상에 정렬하는 정렬단계; 상기 기판의 일부가 상기 함몰영역 내부로 유인되어 휘도록 상기 기판에 자력을 인가함으로써 상기 기판 상에 오목한 형태의 오목패턴을 형성하는 오목패턴 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 자성을 이용하여 곡률 가변형의 몰드를 용이하게 제작할 수 있는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법이 제공된다. |
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Int. CL | B29C 33/42 (2006.01) B29C 33/38 (2006.01) |
CPC | B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) B29C 33/40(2013.01) |
출원번호/일자 | 1020110039616 (2011.04.27) |
출원인 | 한국기계연구원 |
등록번호/일자 | 10-1097285-0000 (2011.12.15) |
공개번호/일자 | |
공고번호/일자 | (20111221) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 등록 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | 신규 |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (2011.04.27) |
심사청구항수 | 16 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 장성환 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
2 | 윤재성 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
3 | 최두선 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
4 | 조성학 | 대한민국 | 대전광역시 서구 |
5 | 황경현 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 나승택 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 양재천로**길 **, *층 (양재동, 대화빌딩)(무일국제특허법률사무소) |
2 | 조영현 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 논현로 ***(도곡동, 은하수빌딩) *층(특허사무소시선) |
번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
---|---|---|---|
1 | 한국기계연구원 | 대한민국 | 대전광역시 유성구 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.04.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0313916-21 |
2 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.05.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0371351-84 |
3 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Preferential Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination) |
2011.05.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0371329-89 |
4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2011.07.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0374945-55 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2011.09.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0688192-66 |
6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2011.09.02 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0688229-67 |
7 | 등록결정서 Decision to grant |
2011.11.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0646961-33 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
번호 | 청구항 |
---|---|
1 |
1 자성을 가지는 기판을 준비하는 기판준비단계;베이스 상에 내부로 함몰되는 함몰영역을 형성하는 함몰영역 형성단계;상기 기판을 상기 베이스 상에 정렬하는 정렬단계;상기 기판의 일부가 상기 함몰영역 내부로 유인되어 휘도록 상기 기판에 자력을 인가함으로써 상기 기판 상에 오목한 형태의 오목패턴을 형성하는 오목패턴 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
2 |
2 제1항에 있어서,상기 오목패턴 형성단계에서 상기 베이스와 상기 기판을 상호 접합하는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
3 |
3 제2항에 있어서,상기 기판준비단계는 강자성 입자와 고분자 수지가 포함되어 혼합되는 혼합재를 마련하는 혼합재 마련단계; 상기 혼합재를 기판몰드에 충진하는 충진단계; 상기 혼합재를 경화하여 기판을 성형하는 경화단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작 방법 |
4 |
4 제3항에 있어서,상기 경화단계는 상기 강자성 입자가 자중(自重)에 의하여 중력방향으로 이동되도록 상기 혼합재를 경화하는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
5 |
5 제3항에 있어서,상기 경화단계는 상기 강자성 입자가 어느 하나의 방향으로 이동되어 상기 혼합재가 경화되도록 자성체를 배치하는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
6 |
6 제3항에 있어서,상기 오목패턴 형성단계는 상기 베이스의 상기 함몰영역이 형성되는 반대편에 자성을 가지는 자력부를 배치하는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
7 |
7 제6항에 있어서,상기 함몰영역은 상호 이격되는 한 쌍의 제1면 사이에서 내부로 단차지게 형성되는 제2면 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
8 |
8 제7항에 있어서,상기 기판에 형성되는 오목패턴의 곡률(curvature)은 상기 기판에 포함되는 강자성 입자의 밀도, 상기 자력부의 세기, 상기 함몰영역의 형상, 상기 자력부와 상기 기판의 거리, 상기 한 쌍의 제1면간의 이격거리 중 적어도 하나에 의하여 결정되는 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
9 |
9 제3항에 있어서,상기 혼합재는 경화 후에 강도, 전기 전도도, 열 전도성, 광자효율 중 적어도 어느 하나의 특성이 향상되도록 첨가물이 더 포함되는 것을 특징으로 하는 가변몰드 제작방법 |
10 |
10 제9항에 있어서,상기 첨가물은 탄소나노튜브, 탄소섬유, 유리섬유, 은나노 입자, 금나노 입자 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
11 |
11 제3항에 있어서,상기 고분자 수지는 유연한(flexible) 재질인 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
12 |
12 제11항에 있어서,상기 고분자 수지는 폴리디메틸실록산(PDMS:polydimethylsiloxane) 또는 폴리테트라플루로에틸린(PTFE:polytetrafluroethylene) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
13 |
13 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항의 자성을 이용한 가변몰드 제작방법에 의하여 형성되는 오목패턴을 몰드로 하여 상기 오목패턴에 경화성 수지를 주입하는 주입단계;상기 경화성 수지를 경화하여 볼록패턴을 형성하는 볼록패턴 형성단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법 |
14 |
14 제13항에 있어서,상기 경화성 수지는 열경화성 수지 또는 광경화성 수지 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴 형성방법 |
15 |
15 제14항에 있어서,상기 주입단계는 경화 후에 강도, 전기 전도도, 열 전도성, 광자효율 중 적어도 어느 하나의 특성이 향상되도록 강화제를 첨가하는 것을 특징으로 하는 가변몰드 제작방법 |
16 |
16 제15항에 있어서,상기 첨가제는 탄소나노튜브, 탄소섬유, 유리섬유, 은나노 입자, 금나노 입자 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 |
지정국 정보가 없습니다 |
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패밀리정보가 없습니다 |
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순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
---|---|---|---|---|
1 | 교육과학기술부 | 한국기계연구원 | 교과부-국가연구개발사업(II) | 촉각의 인터페이스를 위한 복합 공정기술 개발 |
2 | 지식경제부 | 한국기계연구원 | 주요사업-기관고유 | 고효율 포토닉스 부품 생산 핵심시스템 개발 |
공개전문 정보가 없습니다 |
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특허 등록번호 | 10-1097285-0000 |
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표시번호 | 사항 |
---|---|
1 |
출원 연월일 : 20110427 출원 번호 : 1020110039616 공고 연월일 : 20111221 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20111103 청구범위의 항수 : 16 유별 : B29C 33/38 발명의 명칭 : 자성을 이용한 가변몰드 제작방법 및 이를 이용한 패턴 형성방법 존속기간(예정)만료일 : |
순위번호 | 사항 |
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1 |
(권리자) 한국기계연구원 대전광역시 유성구... |
제 1 - 3 년분 | 금 액 | 334,500 원 | 2011년 12월 15일 | 납입 |
제 4 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2014년 09월 17일 | 납입 |
제 5 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2015년 09월 09일 | 납입 |
제 6 년분 | 금 액 | 392,000 원 | 2016년 09월 12일 | 납입 |
제 7 년분 | 금 액 | 495,600 원 | 2017년 09월 07일 | 납입 |
제 8 년분 | 금 액 | 354,000 원 | 2018년 09월 07일 | 납입 |
제 9 년분 | 금 액 | 354,000 원 | 2019년 09월 09일 | 납입 |
제 10 년분 | 금 액 | 560,000 원 | 2020년 09월 11일 | 납입 |
번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
---|---|---|---|---|
1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.04.27 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0313916-21 |
2 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.05.18 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0371351-84 |
3 | [우선심사신청]심사청구(우선심사신청)서 | 2011.05.18 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0371329-89 |
4 | 의견제출통지서 | 2011.07.05 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0374945-55 |
5 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2011.09.02 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0688192-66 |
6 | [명세서등 보정]보정서 | 2011.09.02 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2011-0688229-67 |
7 | 등록결정서 | 2011.11.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2011-0646961-33 |
8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2017.11.28 | 수리 (Accepted) | 4-1-2017-5193093-72 |
기술정보가 없습니다 |
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과제고유번호 | 1345157378 |
---|---|
세부과제번호 | 2010-50223 |
연구과제명 | 휴먼인터페이스를 위한 촉각센서 및 제시기술 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 한국표준과학연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200907~201406 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 기초연구 |
6T분류명 | IT(정보기술) |
과제고유번호 | 1415118438 |
---|---|
세부과제번호 | NK162H |
연구과제명 | 고효율 포토닉스 부품 생산 핵심시스템 개발 |
성과구분 | 출원 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 산업기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 201101~201112 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1345149281 |
---|---|
세부과제번호 | 2006-0051992 |
연구과제명 | 신기능 하이브리드 표면소재 응용연구 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 교육과학기술부 |
연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
연구주관기관명 | 부산대학교 산학협력단 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 200606~201302 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
과제고유번호 | 1415118438 |
---|---|
세부과제번호 | NK162H |
연구과제명 | 고효율 포토닉스 부품 생산 핵심시스템 개발 |
성과구분 | 등록 |
부처명 | 지식경제부 |
연구관리전문기관명 | 산업기술연구회 |
연구주관기관명 | 한국기계연구원 |
성과제출연도 | 2011 |
연구기간 | 201101~201112 |
기여율 | 0.5 |
연구개발단계명 | 응용연구 |
6T분류명 | NT(나노기술) |
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