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간섭 리소그래피 장치

  • 기술번호 : KST2015130061
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 간섭 리소그래피 장치가 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 광원부와, 프리즘과, 제 1 반사미러를 포함하되, 상기 광원부는, 상기 프리즘으로 빔을 조사하고, 상기 프리즘은, 상기 빔을 제 1 빔과 제 2 빔으로 분광하여, 상기 제 2 빔을 상기 제 1 반사미러로 반사시키고, 상기 제 1 빔을 기판으로 반사시키며, 상기 제 1 반사미러는, 상기 제 2 빔을 상기 기판으로 반사시켜 상기 기판상에 반복적인 선형패턴을 형성하되, 상기 프리즘은, 삼각형 형태의 제 1 프리즘과 평행사변형 형태의 제 2 프리즘이 일체로 형성된 삼각형-평행사변형 일체형 프리즘을 포함하고, 회전 가능하도록 형성되며, 상기 프리즘의 회전을 통해 상기 제 1 빔이 상기 기판에 입사되는 제 1 입사각과 상기 제 2 빔이 상기 기판에 입사되는 제 2 입사각을 동시에 조절 가능한 간섭 리소그래피 장치가 제공될 수 있다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01) H01L 21/0274(2013.01)
출원번호/일자 1020120144630 (2012.12.12)
출원인 한국기계연구원
등록번호/일자 10-1352030-0000 (2014.01.09)
공개번호/일자 10-2013-0007519 (2013.01.18) 문서열기
공고번호/일자 (20140116) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자 10-2010-0097147 (2010.10.06)
관련 출원번호 1020100097147
심사청구여부/일자 Y (2012.12.12)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임형준 대한민국 대전광역시 유성구
2 김기홍 대한민국 대전 서구
3 이재종 대한민국 대전 유성구
4 최기봉 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 남충우 대한민국 서울 강남구 언주로 ***, *층(역삼동, 광진빌딩)(알렉스국제특허법률사무소)
2 노철호 대한민국 경기도 성남시 분당구 판교역로 ***, 에스동 ***호(삼평동,에이치스퀘어)(특허법인도담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국기계연구원 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [분할출원]특허출원서
[Divisional Application] Patent Application
2012.12.12 수리 (Accepted) 1-1-2012-1034553-08
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.12.14 수리 (Accepted) 1-1-2012-1041004-18
3 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2012.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-1088873-02
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.02.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0104954-25
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.04.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0323292-98
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2013.05.15 수리 (Accepted) 1-1-2013-0428132-86
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2013-0532876-98
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.06.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0532847-74
9 등록결정서
Decision to grant
2013.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0696995-60
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.11.28 수리 (Accepted) 4-1-2017-5193093-72
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
프리즘(120)으로 빔(10)을 조사하는, 광원부(110);삼각형 형태의 제 1 프리즘(121)과 평행사변형 형태의 제 2 프리즘(122)이 일체로 형성되며, 상기 제 2 프리즘(122)의 제 1 면(122a)이 상기 빔(10)을 제 1 빔(11) 및 제 2 빔(12)으로 분광하여 상기 제 2 빔(12)을 제 1 반사미러(130)로 반사시키고, 상기 제 2 프리즘(122)의 제 2 면(122b)이 상기 제 1 빔(11)을 제 1 입사각(θ1)으로 기판(20)에 반사시키도록 형성되는, 프리즘(120); 및상기 제 2 빔(12)을 상기 제 1 입사각(θ1)과 동일한 제 2 입사각(θ2)으로 상기 기판(20)에 반사시켜, 상기 기판(20) 상에 반복적인 선형패턴(21)을 형성하는, 제 1 반사미러(130);를 포함하되,상기 프리즘(120)은 상기 빔(10)이 상기 제 1 면(122a)에 입사되는 각도를 조절 가능하도록 회전 가능하게 형성되고, 상기 제 1 반사미러(130)는 상기 프리즘(120)에 대응하여 동일하게 회전되도록 형성되어,상기 프리즘(120)의 회전을 통해 상기 선형패턴(21)의 주기(P) 조절이 가능한 것을 특징으로 하는, 간섭 리소그래피 장치
2 2
청구항 1에 있어서,상기 제 2 프리즘(122)의 상기 제 1 면(122a)은,적어도 일부가 코팅 처리되어, 상기 빔(10)의 일부인 상기 제 2 빔(12)을 상기 제 1 반사미러(130)로 반사시키고, 상기 빔(10)의 나머지인 상기 제 1 빔(11)을 상기 제 2 프리즘(122)의 상기 제 2 면(122b)으로 투과시키되,상기 빔(10)의 투과율이 50%로 코팅 처리되어, 상기 제 1 빔(11) 및 상기 제 2 빔(12)이 동일한 광도(光度)를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는, 간섭 리소그래피 장치
3 3
청구항 1에 있어서,상기 제 2 프리즘(122)의 상기 제 2 면(122b)은,적어도 일부가 코팅 처리되어, 상기 제 1 빔(11)을 상기 기판(20)으로 전반사(全反射)시키도록 형성된 것을 특징으로 하는, 간섭 리소그래피 장치
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 KR101225031 KR 대한민국 FAMILY

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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 나노융합생산시스템연구본부 한국기계연구원 2010년 주요사업-기관고유 나노기반연속생산시스템 핵심요소기술