1 |
1
상부가 개방된 하우징;상기 하우징 내에 배치되는 기판거치대; 및상기 기판거치대와 결합하여 상기 기판거치대의 높낮이를 조절하는 높이조절부를 포함하는 콜로이드 광결정막 제조장치
|
2 |
2
청구항 1에 있어서, 상기 높이조절부와 연결되어 상기 하우징 외측부에 형성되는 높이제어부를 더 포함하고, 상기 높이제어부의 조작에 따라 상기 높이조절부가 작동하여 상기 기판거치대의 높낮이를 조절하는 콜로이드 광결정막 제조장치
|
3 |
3
청구항 1에 있어서, 상기 기판거치대와 결합하여 상기 기판거치대의 기울기를 조절하는 기울기조절부를 더 포함하는 콜로이드 광결정막 제조장치
|
4 |
4
청구항 3에 있어서, 상기 기울기조절부와 연결되어 상기 하우징 외측부에 형성되는 기울기제어부를 더 포함하고, 상기 기울기제어부의 조작에 따라 상기 기울기조절부가 작동하여 상기 기판거치대의 기울기를 조절하는 콜로이드 광결정막 제조장치
|
5 |
5
청구항 1에 있어서, 상기 하우징에는 적어도 하나의 개폐가능한 배수구가 형성되는 콜로이드 광결정막 제조장치
|
6 |
6
청구항 1에 있어서, 상기 하우징 하부에 형성되는 적어도 하나의 다리부를 더 포함하고, 상기 다리부는 높이조절이 가능하도록 형성되는 콜로이드 광결정막 제조장치
|
7 |
7
청구항 1에 있어서, 상기 하우징은 투명한 재질로 형성되는 콜로이드 광결정막 제조장치
|
8 |
8
청구항 1에 따른 콜로이드 광결정막 제조장치를 이용하는 콜로이드 광결정막 제조방법에 있어서, 상기 기판거치대에 기판을 거치하고 상기 기판이 잠기도록 상기 하우징 내부에 액체를 채우는 1단계;상기 액체 계면에 콜로이드 광결정을 형성하는 2단계; 및 상기 기판거치대를 상승시켜 상기 콜로이드 광결정막을 상기 액체 계면으로부터 분리하는 3단계를 포함하는 콜로이드 광결정막 제조방법
|
9 |
9
청구항 3에 따른 콜로이드 광결정막 제조장치를 이용하는 콜로이드 광결정막 제조방법에 있어서,상기 기판거치대에 기판을 거치하고 상기 기판이 잠기도록 상기 하우징 내부에 액체를 채우는 1단계;상기 액체 계면에 콜로이드 광결정을 형성하는 2단계; 및 상기 기판거치대의 기울기를 조절하여 상기 콜로이드 광결정의 적어도 일부를 상기 액체 계면으로부터 분리하는 3단계를 포함하는 콜로이드 광결정막 제조방법
|
10 |
10
청구항 5에 따른 콜로이드 광결정막 제조장치를 이용하는 콜로이드 광결정막 제조방법에 있어서,상기 기판거치대에 기판을 거치하고 상기 기판이 잠기도록 상기 하우징 내부에 액체를 채우는 1단계;상기 액체 계면에 콜로이드 광결정을 형성하는 2단계; 및상기 배수구를 개방하여 상기 액체의 수위를 상기 기판의 높이보다 낮도록 낮추는 3단계를 포함하는 콜로이드 광결정막 제조방법
|
11 |
11
청구항 8 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서, 상기 2단계는,나노입자를 분산매에 분산시켜 콜로이드를 제조하는 2-1단계; 및상기 콜로이드를 상기 액체 계면상에 배열하여 자기조립에 의해 콜로이드 광결정막을 형성하는 2-2단계를 포함하는 콜로이드 광결정막 제조방법
|
12 |
12
청구항 11에 있어서, 상기 나노입자는 나노크기의 고분자 입자, 반도체 입자, 금속입자 또는 금속산화물 입자이고,상기 고분자 입자는 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리알파메틸스티렌,폴리아크릴레이트, 폴리벤질메타크릴레이트, 폴리페닐메타크릴레이트, 폴리-1-메틸시클로헥실메타크릴레이트, 폴리시클로헥실메타크릴레이트, 폴리클로로벤질메타크릴레이트, 폴리-1-페닐에틸메타크릴레이트, 폴리-1,2-디페닐에틸메타크릴레이트, 폴리디페닐메틸메타크릴레이트, 폴리퍼퓨릴메타크릴레이트, 폴리-1-페닐시클로헥실메타크릴레이트, 폴리펜타클로로페닐메타크릴레이트, 폴리펜터브로모페닐메타크릴레이트, 폴리디메틸실록산 및 폴리-N-이소프로필아크릴아미드로 구성되는 군에서 1종 이상 선택되는 것이고,상기 반도체 입자는 Si, CdS, CdSe, GaAs 및 GaN으로 구성되는 군에서 1종 이상 선택되는 것이고,상기 금속 입자는 Ag, Au, Al, Pt, Pd 및 Ni로 구성되는 군에서 1종 이상 선택되는 것이고,상기 금속산화물 입자는 실리콘 옥사이드, 철 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 징크 옥사이드, 세륨 옥사이드, 틴 옥사이드, 탈륨 옥사이드, 바륨 티타네이트, 알루미늄 옥사이드, 이트륨 옥사이드, 지르코늄 옥사이드 및 쿠퍼 옥사이드로 구성되는 군에서 1종 이상 선택되는 콜로이드 광결정막 제조방법
|
13 |
13
청구항 11에 있어서, 상기 분산매는 물, 메탄올, 에탄올, 아세톤, 톨루엔, 자이렌, 에틸렌글리콜, 글리세롤, 퍼플루오로데칼린, 퍼플루오르메틸데칼린, 퍼플루오르노난, 퍼플루오르이소산, 퍼플루오르시클로헥산, 퍼플루오르1,2-디메틸시클로헥산, 퍼플루오르2-메틸2-펜텐 및 퍼플루오르케로센으로 구성되는 군에서 선택되는 콜로이드 광결정막 제조방법
|
14 |
14
청구항 11에 있어서, 상기 2-2단계는 상기 콜로이드를 상기 액체 계면상에 배열한 후에 추가적으로 계면활성제 및 염기액 중 적어도 1 이상을 첨가하는 단계를 더 포함하는 콜로이드 광결정막 제조방법
|
15 |
15
청구항 8 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 따른 콜로이드 광결정막 제조방법에 의해 제조되는 콜로이드 광결정막
|
16 |
16
청구항 15에 있어서, 상기 콜로이드 광결정막은 레이저, 센서, 압전센서, 액츄에이터, 크로마토그라피 분리막, 촉매 담지체, 광학집적회로, 광학필터, 액정배향막, 초친수막, 초발수막, 포토마스크, 반사방지막, 디스플레이 소자, 바이오센서, 또는 자성 메모리 소자에 적용되는 콜로이드 광결정막
|