| 1 |
1
백색광의 빔을 방출하는 광원부;
상기 빔을 평행광으로 시준하는 시준부;
상기 시준된 빔의 강도를 균일한 에너지 분포로 형성하는 호모다이저부;
상기 빔에 대해 편광축과 평행한 선형 편광된 빔을 통과시키는 선형 편광부;
상기 선형 편광된 빔의 진행 축과 늦은 축(slow axis)이 이루는 각을 조절하여 상기 백색광의 간섭 무늬의 콘트라스트를 최대화 하는 반파장판부;
상기 선형 편광된 빔을 기준광과 측정광으로 분할하는 편광 광분할부;
상기 기준광을 반사시켜 상기 편광 광분할부에 입사시키며 표면 굴곡부를 갖는 기준 미러부; 및
상기 기준 미러부로부터 반사된 기준광과, 측정면의 샘플로부터 반사된 상기 측정광의 광경로차에 의해 발생가능한 2차원 간섭 무늬에 대한 광세기 정보로부터 2차원 형상 정보 또는 3차원 형상 정보를 측정하는 광검출부
를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,
상기 편광 광분할부는
상기 기준광을 상기 기준 미러부의 상기 표면 굴곡부에 입사되도록 하고, 상기 측정광을 상기 측정면의 상기 샘플에 입사되도록 하며, 상기 표면 굴곡부로부터 반사된 상기 기준광과 상기 샘플로부터 반사된 측정광을 수집하여 상기 2차원 간섭 무늬를 생성하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 3 |
3
제1항에 있어서,
상기 광검출부는
상기 측정면의 상기 샘플을 기준으로 하는 광축 방향과 수직인 횡방향 스캔 모션(X-scan)에 의해 발생하는 복수의 2차원 간섭 무늬에 대한 복수의 광세기 정보로부터 상기 3차원 형상 정보를 측정하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,
상기 광검출부는 상기 광세기 정보를 광학적으로 영상 처리하여 상기 2차원 형상 정보 또는 상기 3차원 형상 정보를 측정하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,
상기 기준 미러부는
상기 표면 굴곡부가 리트로우(Littrrow)형으로 구성된 계단식 전반사 거울, 리트로우(Littrow) 배치 구조를 가진 블레이즈형(blazed type) 회절격자 및 평면 거울 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,
상기 기준 미러부가 상기 표면 굴곡부가 상기 리트로우 형으로 구성된 계단식 전반사 거울이고,
상기 광검출부는 복수의 픽셀을 포함하는 CCD 또는 CMOS 센서부인 경우,
상기 리트로우 형으로 구성된 계단식 전반사 거울의 복수의 계단면에서 각각 반사된 상기 기준광과, 상기 기준광에 대응되는 상기 샘플로부터 반사된 상기 측정광으로부터, 백색광 간섭에 의해 생성된 백색광 간섭무늬가 상기 CCD 또는 CMOS 센서부의 상기 복수의 픽셀에 결상되는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,
상기 광원부는 펄스 파형을 갖는 상기 백색광의 빔을 방출하고,
상기 기준 미러부가 상기 평면 거울인 경우,
상기 광검출부는
스트로보스코픽(stroboscopic) 원리를 이용하여 상기 측정면의 상기 샘플을 기준으로 하는 횡방향 스캔 모션(X-scan)에 의해 발생하는 복수의 2차원 간섭 무늬에 대한 복수의 광세기 정보로부터 대면적 2차원 형상 정보를 측정하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 8 |
8
제1항에 있어서,
상기 선형 편광부로부터의 상기 선형 편광된 빔을 상기 반파장판부로 유도하기 위한 광유도부
를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,
상기 광유도부는 전반사 거울인 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 10 |
10
시준부를 통하여 광원부로부터 방출된 백색광의 빔을 평행광으로 시준하는 단계;
호모다이저부를 통하여 상기 시준된 빔의 강도를 균일한 에너지 분포로 형성하는 단계;
선형 편광부를 통하여 상기 빔에 대해 편광축과 평행한 선형 편광된 빔을 통과시키는 단계;
반파장부를 통하여 상기 선형 편광된 빔의 진행 축과 늦은 축(slow axis)이 이루는 각을 조절하는 단계;
편광 광분할부를 통하여 상기 선형 편광된 빔을 기준광과 측정광으로 분할하는 단계;
기준 미러부에 형성된 표면 굴곡부를 통하여 상기 기준광을 반사시켜 상기 편광 광분할부에 입사시키는 단계; 및
광 검출부를 통하여 상기 기준 미러부로부터 반사된 측정광과, 측정면의 샘플로부터 반사된 상기 기준광의 광경로차에 의해 발생가능한 2차원 간섭 무늬에 대한 광세기 정보로부터 2차원 형상 정보 또는 3차원 형상 정보를 측정하는 단계
를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 방법
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,
편광 광분할부를 통하여 상기 선형 편광된 빔을 기준광과 측정광으로 분할하는 상기 단계는,
상기 기준광을 상기 기준 미러부의 상기 표면 굴곡부에 입사되도록 하고, 상기 측정광을 상기 측정면의 상기 샘플에 입사되도록 하며, 상기 표면 굴곡부로부터 반사된 상기 기준광과 상기 샘플로부터 반사된 측정광을 수집하여 상기 2차원 간섭 무늬를 생성하는 것임을 특징으로 하는 표면 형상 측정 방법
|
| 12 |
12
제10항에 있어서,
2차원 형상 정보 또는 3차원 형상 정보를 측정하는 상기 단계는,
상기 측정면의 상기 샘플을 기준으로 하는 광축 방향과 수직인 횡방향 스캔 모션(X-scan)에 의해 발생하는 복수의 2차원 간섭 무늬에 대한 복수의 광세기 정보로부터 상기 3차원 형상 정보를 측정하는 것임을 특징으로 하는 표면 형상 측정 방법
|
| 13 |
13
제10항에 있어서,
2차원 형상 정보 또는 3차원 형상 정보를 측정하는 상기 단계는,
상기 광검출부를 통하여 상기 광세기 정보를 광학적으로 영상 처리하여 상기 2차원 형상 정보 또는 상기 3차원 형상 정보를 측정하는 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 장치
|
| 14 |
14
제10항에 있어서,
상기 기준 미러부는
상기 표면 굴곡부가 리트로우(Littrrow)형으로 구성된 계단식 전반사 거울, 리트로우(Littrow) 배치 구조를 가진 블레이즈형(blazed type) 회절격자 및 평면 거울 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 표면 형상 측정 방법
|
| 15 |
15
제10항 내지 제14항 중 어느 한 항의 방법을 수행하는 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능 기록 매체
|
