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하기 [화학식 2]로 표시되는 화합물;과 하기 [화학식 3] 또는 3,4-디히드로피란;을 디메틸설폭사이드 용매하에서 80-200 ℃로 반응시킴으로써 하기 [화학식 1]로 표시되는 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 퀴나졸리논 유도체의 제조방법:[화학식 1][화학식 2][화학식 3] [3,4-디히드로피란] 상기 [화학식 1] 내지 [화학식 3]에서,R1, R2 및 R3는 서로 동일하거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소, 할로겐, C1-C10의 직쇄상, 분쇄상 또는 고리상의 탄소사슬을 포함하는 알킬기, 페닐기, 페닐프로페닐기, C7-C14의 알킬페닐기, C7-C14의 알콕시페닐기, 니트로페닐기, 메톡시카보닐페닐, 에톡시카보닐페닐, 아미노페닐기, 시아노페닐, 할로페닐기, 디할로페닐, 트리할로페닐, 퍼할로페닐, 나프틸기, 안트라세닐기 및 C4-C12의 헤테로아릴기 중에서 선택된다
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제1항에 있어서, 상기 반응은 산소 및 공기 중에서 선택되는 1종 이상의 산소원을 산화제로 사용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 퀴나졸리논 유도체의 제조방법
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 반응은 1-60시간 동안 반응시킴으로써 수행되는 것을 특징으로 하는 퀴나졸리논 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 알킬기는 메틸, 에틸, 노말프로필, 이소프로필, 노말부틸, 이소부틸, tert-부틸, 노말헥실, 이소헥실, 시클로헥실, 노말헵틸, 이소헵틸 및 시클로헵틸로 이루어진 군 중에서 선택되고, 상기 알킬페닐기는 메틸페닐, 에틸페닐, 프로필페닐, 디메틸페닐, 디에틸페닐 및 메틸에틸페닐로 이루어진 군 중에서 선택되며, 상기 알콕시페닐기는 메톡시페닐 및 에톡시페닐로 이루어진 군중에서 선택되고, 상기 헤테로아릴기는 퓨라닐기, 메틸퓨라닐, 에틸퓨라닐, 디메틸퓨라닐, 디에틸퓨라닐, 티오펜일(thiophenyl)기, 메틸티오펜일, 에틸티오펜일, 디메틸티오펜일, 디에틸티오펜일 및 피리디닐기로 이루어진 군 중에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 퀴나졸리논 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 반응은 물을 부산물로 생산하는 것을 특징으로 하는 퀴나졸리논 유도체의 제조방법
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제1항에 있어서, 상기 반응은 물을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 퀴나졸리논 유도체의 제조방법
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