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유전체층;상기 유전체층 위에 위치되며, 슬릿이 형성되어 있는 금속 필름;상기 금속 필름과 이격되어 형성되어 있으며, 상기 슬릿을 기준으로 제1 방향에 배치되는 제1 회절 격자들과 상기 슬릿을 기준으로 제2 방향에 배치되는 제2 회절 격자들을 포함하는 복수의 회절 격자들을 포함하고,상기 제1 회절 격자들과 상기 금속 필름 사이의 제1 거리와, 상기 제2 회절 격자들과 상기 금속 필름 사이의 제2 거리가 조절되는, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 장치
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제1항에 있어서,상기 금속 필름의 슬릿으로 입사되는 입사광에 의하여 상기 슬릿의 양측면에 표면 플라즈몬이 여기되고 상기 금속 필름과 회절 격자들 사이의 거리에 따라 비밍(beaming)이 발생하며, 상기 제1 및 제2 거리에 따라 상기 비밍의 각도가 달라지는, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 거리에 따라 상기 제1 회절 격자들에 의하여 발생되는 비밍의 각도와, 상기 제2 거리에 따라 상기 제2 회절 격자들에 의하여 발생되는 비밍의 각도가 서로 동일한, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 장치
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제2항에 있어서,상기 제1 거리가 상기 제2 거리보다 큰 경우에는 상기 제1 및 제2 회절 격자들이 회절시키는 빛의 방향이 제1 회절 방향이고, 상기 제1 거리가 상기 제2 거리보다 작은 경우에는 상기 제1 및 제 2 회절 격자들이 회절시키는 빛의 방향이 제2 회절 방향이며, 상기 제1 회절 방향과 제2 회절 방향은 서로 반대인, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 장치
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제1항에 있어서,상기 복수의 회절 격자들에 포함되는 각각의 회절 격자는, 유전체와, 상기 유전체 위에 형성된 박막의 금속층으로 이루어지며, 상기 금속 필름에 대응하는 상단 금속층, 공기층, 상기 각각의 회절 격자의 유전체에 대응하는 유전체층, 상기 각각의 회절 격자의 금속 박막에 대응하는 하단 금속층, 그리고 공기층으로 이루어지는 5층 도파로 구조가 형성되는, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 장치
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제5항에 있어서,상기 5층 도파로 구조 상에 상기 각각의 회절 격자와 상기 금속 필름에 여기되는 플라즈모닉 모드들 중에서, 회절 각도를 변하게 하는 플라즈모닉 모드가 아닌 플라즈모닉 모드는 소멸되는, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 장치
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7
제2항에 있어서상기 비밍의 각도가 상기 제1 거리 및 제2 거리를 조절하는 거리 조절부를 더 포함하는, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 장치
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유전체층 위에 슬릿이 형성되어 있는 금속 필름이 위치되는 구조에서, 플라즈모닉 비밍 각도를 조절하는 방법에서, 원하는 플라즈모닉 비밍 각도에 따라 제1 거리 및 제2 거리를 설정하는 단계;상기 제1 거리에 따라 상기 금속 필름과 제1 회절 격자들의 사이의 거리를 조절하는 단계;상기 제2 거리에 따라 상기 금속 필름과 제2 회절 격자들의 사이의 거리를 조절하는 단계; 및상기 금속 필름의 슬릿으로 입사광을 조사하여 상기 슬릿의 양측면에 표면 플라즈몬을 여기시켜서, 상기 제1 및 제2 회절 격자들에 의하여 회절되는 빔을 발생시키는 단계를 포함하는, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 방법
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제8항에 있어서상기 제1 회절 격자들은 상기 슬릿을 기준으로 제1 방향에 배치되며, 상기 제2 회절 격자들은 상기 슬릿을 기준으로 제2 방향에 배치되며, 상기 제1 방향과 제2 방향을 서로 반대 방향인, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 방법
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제8항에 있어서상기 회절되는 빔을 발생시키는 단계에서, 상기 제1 거리가 상기 제2 거리보다 큰 경우에는 상기 제1 및 제2 회절 격자들이 회절시키는 빛의 방향이 제1 회절 방향이고, 상기 제1 거리가 상기 제2 거리보다 작은 경우에는 상기 제1 및 제2 회절 격자들이 회절시키는 빛의 방향이 제2 회절 방향이며, 상기 제1 회절 방향과 제2 회절 방향은 서로 반대인, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 방법
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제8항에 있어서상기 입사광의 편광 상태는 전기장이 상기 금속 필름의 슬릿에 수직한 방향 성분만을 가지는 TE(transverse electric)로 이루어지는, 플라즈모닉 비밍 각도 조절 방법
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