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플렉서블한 기판의 표면에 부착된 시료에 광을 조사하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 정량 분석 시스템에 있어서,외측면의 적어도 일부분에 상기 기판이 부착되며, 상기 기판을 지지하고 회전축을 중심으로 회전가능하도록 제공되는 지지부 및 상기 지지부와 연결되어 상기 지지부를 회전시키는 구동부를 가지는 기판 지지 부재와;회전하는 상기 기판의 표면에 부착된 상기 시료에 광을 조사하는 광 부재와; 그리고상기 광 부재에서 조사된 상기 광이 상기 시료에 부딪히고 난 뒤 반사되는 광을 수신하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 분석 부재를 포함하되, 상기 광 부재는,상기 지지부의 회전축의 반경 방향으로 소정 간격 이격 위치하며, 상기 기판 방향으로 광을 조사할 수 있는 광조사부;상기 광조사부에 광을 공급하는 광원부;상기 광조사부에서 조사되는 광을 제어하는 광제어부를 더 포함하며,상기 광제어부는 상기 지지부가 회전하는 동안 상기 지지부에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단으로, 상기 지지부의 상기 회전축의 연장 방향과 나란한 방향으로 이동 또는 왕복하면서 광을 조사하도록 상기 광조사부를 제어하는 정량 분석 시스템
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제1항에 있어서,상기 지지부는,원통형상으로 형성되며 외측면에 상기 기판이 부착되는 지지대와;상기 지지대와 결합되며, 상기 구동부에 탈착 가능하도록 제공되는 지지체를 포함하는 정량 분석 시스템
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제2항에 있어서,상기 지지대는 복수개가 제공되며, 복수개의 상기 지지대는 그 크기가 각각 상이하게 형성되며,상기 시료의 정략 분석 시 상기 시료의 양 또는 상기 기판의 크기에 따라서 그에 대응되는 상기 지지대가 사용되는 정량 분석 시스템
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제1항에 있어서, 상기 분석 부재는,상기 광조사부와 연결되며, 상기 기판의 표면에서 반사되어 상기 광조사부를 통과한 광 중 상기 시료의 신호를 가지는 신호광을 추출하는 광추출부와;상기 광추출부로부터 공급받은 상기 신호광을 토대로 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 분석부를 포함하는 정량 분석 시스템
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제2항에 있어서,상기 광제어부는 상기 구동부의 회전 속도를 더 제어하며, 상기 광제어부는 상기 지지대의 길이 및 상기 지지대의 직경에 따라 상기 지지대의 회전 속도 또는 상기 광조사부의 이동 속도를 제어하는 정량 분석 시스템
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제1항 내지 제3항, 제5항 또는 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 광은 레이저 광을 포함하는 정량 분석 시스템
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a) 회전축을 중심으로 회전가능하도록 제공되며 지지대를 포함하는 지지부 및 상기 지지부와 연결되어 상기 지지부를 회전시키는 구동부를 가지는 기판 지지 부재를 제공하는 단계;b) 상기 지지부의 외측면의 적어도 일부분에, 시료가 표면에 부착된 플랙서블한 기판을 부착하는 단계;c) 상기 지지부의 회전축의 반경 방향으로 소정 간격 이격 위치하며, 상기 기판 방향으로 광을 조사시킬 수 있는 광 조사부를 제공하는 단계;d) 상기 지지부를 회전시키는 단계;e) 상기 지지부가 회전하는 동안 상기 지지부에 부착된 상기 기판의 일측 끝단에서 타측 끝단으로, 상기 지지부의 상기 회전축의 연장 방향과 나란한 방향으로 이동 또는 왕복하면서 광을 조사시키는 단계; 및 상기 시료에 조사된 상기 광이 상기 시료에 부딪히고 난 뒤 반사되는 광을 수신하여 상기 시료의 정량 분석을 수행하는 단계를 포함하는 정량 분석 방법
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제 10항에 있어서, 상기 광을 조사시키는 단계에서는 상기 지지대의 길이 및 상기 지지대의 직경에 따라 상기 지지부의 회전 속도 또는 상기 광 조사부의 이동 속도를 제어하는 정량 분석 방법
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