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3차원 임의 곡면으로 변형 가능한 미세 전극 어레이 및 이의 제조 방법
- 기술번호 : KST2015137478
- 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
- 전화번호 : 02-2155-3662
| 요약 | 미세 전극 어레이는, 유연한 물질로 이루어지는 기판 및 기판상에 위치하는 하나 이상의 미세 전극을 포함할 수 있다. 기판은, 기판의 일 부분에 위치하며 기판을 적어도 부분적으로 제거함으로써 기판의 두께를 감소시키도록 형성된 패턴을 포함할 수 있다. 패턴에 의하여 기판의 유연성을 증대시킴으로써 2차원 평면상에 제작된 미세 전극 어레이를 용이하게 3차원적으로 변형할 수 있다. 예컨대, 미세 전극 어레이는 곡면을 갖는 물체에 밀착될 수 있어, 생체에 이식될 경우 이식되는 대상의 형태를 따라 균일한 밀착을 제공할 수 있다. |
|---|---|
| Int. CL | H01B 5/14 (2006.01.01) H01B 1/02 (2006.01.01) H01B 1/08 (2006.01.01) H01B 3/18 (2006.01.01) H01B 13/00 (2006.01.01) |
| CPC | H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020120151123 (2012.12.21) |
| 출원인 | 서울대학교산학협력단 |
| 등록번호/일자 | 10-1476718-0000 (2014.12.19) |
| 공개번호/일자 | 10-2014-0082047 (2014.07.02) 문서열기 |
| 공고번호/일자 | (20141229) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 등록 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2012.12.21) |
| 심사청구항수 | 15 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 조동일 | 대한민국 | 서울 강남구 |
| 2 | 정흠 | 대한민국 | 서울특별시 서초구 |
| 3 | 안재현 | 대한민국 | 서울 서초구 |
| 4 | 이상민 | 대한민국 | 서울 강남구 |
| 5 | 홍석준 | 대한민국 | 서울 서초구 |
| 6 | 유형정 | 대한민국 | 대구 수성구 |
| 7 | 정석원 | 대한민국 | 경기 오산 |
| 8 | 박선길 | 대한민국 | 경기 부천시 원미구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 김영철 | 대한민국 | 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩) |
| 2 | 김 순 영 | 대한민국 | 서울특별시 종로구 종로*길 **, **층 케이씨엘특허법률사무소 (수송동, 석탄회관빌딩) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 서울대학교산학협력단 | 대한민국 | 서울특별시 관악구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2012.12.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-1066834-16 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
| 3 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2013.08.20 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 4 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2013.10.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0076957-77 |
| 5 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2014.02.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0078331-81 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2014.03.31 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0307827-84 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.03.31 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0307826-38 |
| 8 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2014.08.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0575592-59 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2014.10.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-1008685-30 |
| 10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2014.10.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1008684-95 |
| 11 | 등록결정서 Decision to grant |
2014.12.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0853450-28 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 유연한 물질로 이루어지는 기판; 및 상기 기판상에 위치하는 하나 이상의 미세 전극을 포함하되,상기 기판은, 상기 기판의 일 부분에 위치하는 패턴을 포함하며, 3차원 곡면을 따라 밀착되도록 변형 가능하고,상기 패턴은, 상기 기판을 부분적으로 제거함으로써 상기 기판의 두께를 감소시키거나 또는 상기 기판을 관통하도록 형성되며,상기 기판에서 상기 하나 이상의 미세 전극이 위치하는 영역과 상기 패턴이 형성된 영역은 서로 중첩되지 않는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이 |
| 2 |
2 제 1 항에 있어서,상기 패턴은 상기 기판을 관통하는 홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이 |
| 3 |
3 제 1 항에 있어서,상기 패턴은 상기 기판의 표면상에 형성된 함몰 영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이 |
| 4 |
4 제 1 항에 있어서,상기 패턴은, 하나 이상의 직선, 하나 이상의 꺾인 선, 또는 하나 이상의 곡선 중 하나 이상을 포함하는 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이 |
| 5 |
5 제 1 항에 있어서,상기 기판 내에 위치하며 상기 하나 이상의 미세 전극과 전기적으로 연결되는 배선부를 더 포함하되,상기 패턴은 상기 기판에서 상기 배선부 및 상기 하나 이상의 미세 전극이 위치하지 않는 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이 |
| 6 |
6 제 1 항에 있어서,상기 기판은, 폴리디메틸실록세인, 폴리카보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 사이클로올레핀공중합체, 폴리이미드, 파릴린, 젤라틴, 콜라겐, 폴리에틸렌글리콜, 폴리비닐피롤리돈, 폴리-카프로락톤, L-폴리-락타이드, 폴리-글리콜산, 폴리-D-락타이드, 폴리-락트산, 폴리-락틱-코-글리콜산, 및 이들의 2 이상의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이 |
| 7 |
7 제 1 항에 있어서, 상기 미세 전극은, 금, 백금, 니켈, 알루미늄, 구리, 이리듐, 이리듐 옥사이드, 인듐주석산화물, 폴리피롤, 불순물이 도핑된 다결정 실리콘 및 이들의 2 이상의 조합으로 이루어지는 그룹으로부터 선택된 물질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이 |
| 8 |
8 유연한 물질로 이루어지는 기판상에 하나 이상의 미세 전극을 형성하는 단계; 및상기 기판의 일 부분상에 패턴을 형성하는 단계를 포함하되,상기 패턴은, 상기 기판을 부분적으로 제거하여 상기 기판의 두께를 감소시키거나 또는 상기 기판을 관통하도록 형성되며,상기 패턴이 형성된 상기 기판은 3차원 곡면을 따라 밀착되도록 변형 가능하고,상기 기판에서 상기 하나 이상의 미세 전극이 형성된 영역과 상기 패턴이 형성된 영역은 서로 중첩되지 않는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 9 |
9 제 8 항에 있어서,상기 패턴을 형성하는 단계는, 상기 기판을 관통하는 홀을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 10 |
10 제 8 항에 있어서,상기 패턴을 형성하는 단계는, 상기 기판의 표면상에 함몰 영역을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 11 |
11 제 8 항에 있어서,상기 패턴은, 하나 이상의 직선, 하나 이상의 꺾인 선, 또는 하나 이상의 곡선 중 하나 이상을 포함하는 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 12 |
12 제 8 항에 있어서,상기 기판상에 하나 이상의 미세 전극을 형성하는 단계는,하부 기판상에 배선부를 형성하는 단계; 상기 배선부와 전기적으로 연결된 상기 하나 이상의 미세 전극을 형성하는 단계; 및상기 배선부 및 상기 하나 이상의 미세 전극이 위치하는 상기 하부 기판상에 상부 기판을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 13 |
13 제 12 항에 있어서,상기 패턴을 형성하는 단계는, 상기 하부 기판 또는 상기 상부 기판에서 상기 배선부 및 상기 하나 이상의 미세 전극이 위치하지 않는 영역에 상기 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 14 |
14 제 8 항에 있어서,상기 패턴이 형성된 상기 기판을 미리 결정된 형상에 따라 변형시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 15 |
15 제 14 항에 있어서,상기 패턴을 형성하는 단계는, 상기 미리 결정된 형상에 의해 결정되는 곡률에 기초하여 상기 패턴의 형상을 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 미세 전극 어레이의 제조 방법 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 교육과학기술부 | 서울대학교 병원 | 공공복지안전연구사업 | 시작장애인의 시각 기능 회복을 위한 인공시각 인터페이스 기술 |
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1476718-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20121221 출원 번호 : 1020120151123 공고 연월일 : 20141229 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20141212 청구범위의 항수 : 15 유별 : H01B 5/14 발명의 명칭 : 3차원 임의 곡면으로 변형 가능한 미세 전극 어레이 및 이의 제조 방법 존속기간(예정)만료일 : |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 서울대학교산학협력단 서울특별시 관악구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 315,000 원 | 2014년 12월 22일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 259,000 원 | 2017년 11월 24일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 185,000 원 | 2018년 12월 03일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 185,000 원 | 2019년 12월 03일 | 납입 |
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| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2012.12.21 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-1066834-16 |
| 2 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2013.01.14 | 수리 (Accepted) | 4-1-2013-5007213-54 |
| 3 | 선행기술조사의뢰서 | 2013.08.20 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 4 | 선행기술조사보고서 | 2013.10.10 | 수리 (Accepted) | 9-1-2013-0076957-77 |
| 5 | 의견제출통지서 | 2014.02.03 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0078331-81 |
| 6 | [명세서등 보정]보정서 | 2014.03.31 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-0307827-84 |
| 7 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.03.31 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-0307826-38 |
| 8 | 의견제출통지서 | 2014.08.25 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0575592-59 |
| 9 | [명세서등 보정]보정서 | 2014.10.22 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2014-1008685-30 |
| 10 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2014.10.22 | 수리 (Accepted) | 1-1-2014-1008684-95 |
| 11 | 등록결정서 | 2014.12.12 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2014-0853450-28 |
| 12 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.03.17 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5033829-92 |
| 13 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5062924-01 |
| 14 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.13 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5093546-10 |
| 15 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.05.23 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5101798-31 |
| 16 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2019.08.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2019-5154561-59 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345183794 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2012-0008611 |
| 연구과제명 | 신경망 구조를 반영한 고해상도 인공망막시스템 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 서울대학교 |
| 성과제출연도 | 2012 |
| 연구기간 | 201208~201507 |
| 기여율 | 1 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | BT(생명공학기술) |
특허성과
| [1020120151123] | 3차원 임의 곡면으로 변형 가능한 미세 전극 어레이 및 이의 제조 방법 | 새창보기 |
|---|
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