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플라즈마 화학 기상 증착장치 및 이를 이용한 박막 형성방법

  • 기술번호 : KST2015139666
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 플라즈마 화학 기상 증착장치 및 이를 이용한 박막 형성 방법이 개시되어 있다. 상기 장치에는 기판 상에 박막을 형성하기 위한 공간을 제공하기 위한 챔버가 구비된다. 상기 챔버로 제공되는 분위기가스 및 소스가스를 플라즈마 상태로 형성하기 위한 플라즈마 발생부가 구비된다. 상기 플라즈마 발생부 하방에 배치되고, 기판 상에 소스가스를 제공하기 위한 소스가스 제공부가 구비된다. 상기 소스가스를 열 분해하기 위한 저항 가열부가 구비된다. 그리고, 상기 기판을 가열함과 동시에 상기 열 분해된 소스가스를 플라즈마 상태로 조성하도록 네가티브 바이어스 전력이 인가되는 블록 바디가 구비된다. 또한 상기와 같은 구성요소를 포함하는 장치를 이용하여 박막을 형성하는 단계를 갖음으로서 전개방출 능력이 우수하고, 수직 배향성이 우수한 박막을 형성할 수 있다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/4558(2013.01) C23C 16/4558(2013.01) C23C 16/4558(2013.01) C23C 16/4558(2013.01)
출원번호/일자 1020020016273 (2002.03.26)
출원인 한국화학연구원
등록번호/일자 10-0478404-0000 (2005.03.14)
공개번호/일자 10-2003-0077262 (2003.10.01) 문서열기
공고번호/일자 (20050323) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.03.26)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류호진 대한민국 대전광역시 유성구
2 김광식 대한민국 충청북도청원군

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이홍길 대한민국 서울특별시 강남구 논현로 ***, *층 (역삼동, 용마빌딩)(신진국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.03.26 수리 (Accepted) 1-1-2002-0087649-33
2 공지예외적용주장대상(신규성,출원시의특례)증명서류제출서
Submission of Document Verifying Exclusion from Being Publically Known (Novelty, Special Provisions for Application)
2002.04.03 수리 (Accepted) 1-1-2002-5085339-87
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056800-64
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.07.05 수리 (Accepted) 4-1-2002-0056808-28
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2003.11.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2003.12.10 수리 (Accepted) 9-1-2003-0060198-65
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0214421-04
8 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period
2004.07.30 수리 (Accepted) 1-1-2004-0341527-33
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2004.09.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0388687-11
10 명세서 등 보정서 (심사전치)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2004.11.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2004-0016932-72
11 등록결정서
Decision to grant
2004.12.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0539588-97
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.04.16 수리 (Accepted) 4-1-2008-5059312-66
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.05.14 수리 (Accepted) 4-1-2008-5074743-27
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2008-5208083-56
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
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번호 청구항
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기판 상에 박막을 형성하기 위한 공간을 제공하기 위한 챔버와, 상기 챔버 상방에 배치되고 상기 챔버로 제공되는 분위기가스를 플라즈마 상태로 조성하도록 고주파 전력을 인가하기 위한 플라즈마 발생부와, 상기 플라즈마 발생부 하방에 배치되어 상기 기판 상에 상기 소스가스를 제공하기 위한 소스가스 제공부와, 상기 소스가스 제공부 하방에 배치되고 상기 소스가스가 지나는 경로 상에 열을 제공함으로서 상기 소스가스를 열 분해하기 위한 저항 가열부와, 상기 저항 가열부 하방에 배치되고 상기 기판이 놓여지는 상면을 갖고 상기 상면 상에 놓여진 기판을 가열함과 동시에 네거티브 바이어스 전력을 인가하여 상기 열 분해된 소스가스를 플라즈마 상태로 조성하기 위한 블록 바디를 포함하는 플라즈마 화학 기상 증착장치에 있어서, 상기 소스가스 제공부는 소스가스가 제공되는 다수개의 분사공이 천공형성되며, 소스가스 제공 라인에 연결되어 상기 기판의 직경과 유사한 직경의 크기를 갖는 링 형상으로 형성되며; 상기 저항 가열부는 텅스텐 열선을 이어주는 텅스텐 튜브, 상기 텅스텐 튜브의 열전달을 차단하기 위해 연결되어 있는 스테인레스 튜브, 상기 스테인레스 튜브에 전류를 전도하기 위해 연결되어 있는 구리봉 및 상기 구리봉과 전류 공급관을 고정하는 애자를 포함하며; 상기 전류 공급관은 상기 챔버 측벽에 관통되는 알루미늄관, 상기 챔버의 압력을 유지하기 위해 상기 알루미늄 양측부를 밀폐하는 밀폐부재 및 저항 가열부에 전류를 인가하는 구리선을 포함하며; 상기 플라즈마 발생부는 백금이 코팅된 구리 코일 및 수정체 또는 세라믹으로 이루어진 유전체 튜브를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 화학 기상 증착장치
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