맞춤기술찾기

홈으로 가기
맞춤기술찾기
이전대상기술
프린트하기

이전대상기술

루테늄 연마용 슬러리 및 그를 이용한 연마 방법

  • 기술번호 : KST2015141201
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
상담신청 PDF 받기
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 유독가스가 발생하지 않으며, 잔여물에 의한 오염도 없고, 부식이 발생하지 않으면서 주변 물질과의 선택비(selectivity)를 확보할 수 있는 루테늄의 연마를 위한 슬러리 및 주변물질과의 높은 선택비를 얻으면서 높은 연마율을 확보할 수 있는 루테늄막의 연마 방법을 제공하기 위한 것으로, 본 발명의 루테늄연마용 슬러리는 증류수, 과요오드산나트륨, 연마제(알루미나) 및 pH 조절제(pH 조절제의 첨가에 의해 pH가 5.5∼6.5 범위가 됨)를 포함하고, 상술한 본 발명은 산화제로서 과요오드산나트륨을 적용하여 루테늄을 연마하므로써, 루테늄의 높은 연마율과 함께 산화막 대비 루테늄의 우수한 선택비를 얻고 동시에 연마특성을 개선시킬 수 있으며 우수한 소자 분리 공정에 기여할 수 있다. 슬러리, 루테늄, CMP, 과요오드산나트륨, 알루미나
Int. CL C09G 1/02 (2006.01.01) C09K 3/14 (2006.01.01) H01L 21/306 (2006.01.01)
CPC C09G 1/02(2013.01) C09G 1/02(2013.01) C09G 1/02(2013.01)
출원번호/일자 1020070113859 (2007.11.08)
출원인 에스케이하이닉스 주식회사, 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0980607-0000 (2010.09.01)
공개번호/일자 10-2009-0047815 (2009.05.13) 문서열기
공고번호/일자 (20100907) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2007.11.08)
심사청구항수 11

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 에스케이하이닉스 주식회사 대한민국 경기도 이천시
2 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 박형순 대한민국 경기도 이천시
2 김진웅 대한민국 서울특별시 강동구
3 곽노정 대한민국 경기도 성남시 분당구
4 최용수 대한민국 경기도 성남시 분당구
5 신종한 대한민국 서울특별시 강동구
6 유철휘 대한민국 경기도 용인시 기흥구
7 박점용 대한민국 경기도 용인시 기흥구
8 김성준 대한민국 경기도 이천시
9 박진구 대한민국 경기도 안산시 상록구
10 김인권 대한민국 경기도 안산시 상록구
11 권태영 대한민국 경기도 수원시 영통구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 에스케이하이닉스 주식회사 대한민국 경기도 이천시
2 한양대학교 에리카산학협력단 경기도 안산시 상록구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2007.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2007-0803083-81
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2007.11.09 수리 (Accepted) 1-1-2007-5089762-53
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2008.03.11 수리 (Accepted) 4-1-2008-5037763-28
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2008.04.07 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2008.05.09 수리 (Accepted) 9-1-2008-0025937-17
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.06.24 수리 (Accepted) 1-1-2008-0453907-77
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2009.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2009-0397836-12
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2009.11.25 수리 (Accepted) 1-1-2009-0724596-84
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2009.11.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2009-0724594-93
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2010.03.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0099117-15
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2010.05.07 수리 (Accepted) 1-1-2010-0293680-47
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.05.07 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2010-0293679-01
13 등록결정서
Decision to grant		 2010.08.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0350112-54
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.04.06 수리 (Accepted) 4-1-2012-5073964-60
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.12.24 수리 (Accepted) 4-1-2012-5270171-92
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2015-5055330-26
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
증류수, 0
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에 있어서, 상기 pH 조절제는, 산성조절제 또는 염기성조절제를 포함하는 루테늄 연마용 슬러리
5 5
제4항에 있어서, 상기 산성 조절제는, 염산(HCl), 질산(HNO3), 황산(H2SO4) 또는 인산(H3PO4)을 포함하는 루테늄 연마용 슬러리
6 6
제4항에 있어서, 상기 염기성 조절제는, 수산화암모늄(NH4OH), 수산화칼륨(KOH), 수산화나트륨(NaOH), 테트라메틸아민하이드록사이드(TMAH) 또는 테트라메틸아민(TMA)을 포함하는 루테늄 연마용 슬러리
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
표면에 요부를 갖는 절연막 위에 루테늄막을 형성하는 단계; 및 증류수, 0
12 12
삭제
13 13
제11항에 있어서, 상기 pH 조절제는, 산성조절제 또는 염기성조절제를 포함하는 루테늄막의 연마방법
14 14
제13항에 있어서, 상기 산성 조절제는, 염산(HCl), 질산(HNO3), 황산(H2SO4) 또는 인산(H3PO4)을 포함하는 루테늄막의 연마 방법
15 15
제13항에 있어서, 상기 염기성 조절제는, 수산화암모늄(NH4OH), 수산화칼륨(KOH), 수산화나트륨(NaOH), 테트라메틸아민하이드록사이드(TMAH) 또는 테트라메틸아민(TMA)을 포함하는 루테늄막의 연마 방법
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
삭제
19 19
삭제
20 20
제11항에 있어서, 상기 절연막은 산화막을 포함하는 루테늄막의 연마 방법
21 21
제20항에 있어서, 상기 산화막은 테트라에틸오소실리케이트(TEOS)를 포함하는 루테늄막의 연마 방법
22 22
제11항에 있어서, 상기 연마후에 상기 절연막의 요부 내부에 잔류하는 루테늄막은 캐패시터의 전극이 되는 루테늄막의 연마 방법
지정국 정보가 없습니다
순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - 패밀리정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US20090124082 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2009124082 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.