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DNA 패턴을 형성하는 단계, 및상기 DNA 패턴 상에 그래핀을 형성하는 단계를 포함하고,상기 DNA 패턴을 형성하는 단계는, 기재 상에 금속 이온 패턴 또는 양전하 패턴을 형성하고, 상기 금속 이온 패턴 또는 양전하 패턴 상에 DNA 구조(structure)를 흡착시키고, 상기 DNA 구조 상에 금속 입자를 결합시키는 것을 포함하는 공정에 의하여 수행되는 것인,그래핀의 패턴 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 양전하 패턴은 APTMS(3-aminopropyltrimethoxysilane) 패턴, APTES (3-aminopropyltriethoxysilane) 패턴, APDES (3-aminopropylmethyldiethoxysilane) 패턴, 또는 APDMS (3-aminopropylmethyldimethoxysilane) 패턴을 포함하는 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 1 항에 있어서, 상기 금속 이온 또는 양전하 패턴은, 리소그래피 공정을 이용하여 기재 상의 패터닝하고자 하는 위치에 선택적으로 포토레지스트 물질을 도포하는 단계;상기 기재 표면에 소수성 물질을 코팅하는 단계;상기 포토레지스트 물질을 제거하는 단계; 및,상기 패터닝하고자 하는 위치에 금속 이온 또는 양전하를 띠는 물질을 증착하는 단계를 포함하는 공정에 의하여 형성된 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 3 항에 있어서,상기 소수성 물질은,옥타데실트리클로로실란(Octadecyltrichlorosilane, OTS), 폴리클로로 트리-플루오로에틸렌(PolyChloro Tri-Fluoroethylene, PCTFE), 테플론(Teflon), 비결정질 불소(CYTOP), 지르코늄 산화물, 지르코늄 질화물, 및 이들의 조합들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 1 항에 있어서,상기 DNA 구조는 DNA 모티프를 포함하는 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 5 항에 있어서,상기 금속 입자는 스트렙타비딘(streptavidin)과 결합된 것이고,상기 DNA 모티프는 비오틴(Biotin)과 결합된 것이며,상기 금속 입자와 상기 DNA 구조의 결합은, 상기 금속 입자에 결합된 스트렙타비딘과 상기 DNA 모티프에 결합된 비오틴의 결합에 의한 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 5 항에 있어서,상기 금속 입자는 DNA 가닥이 부착된 것이며,상기 금속 입자와 상기 DNA 구조의 결합은, 상기 금속 입자에 부착된 DNA 가닥과 상기 DNA 모티프의 결합에 의한 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 1 항에 있어서,상기 DNA 구조는 DNA 오리가미(origami)에 의하여 생성되는 것을 포함하는 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 8 항에 있어서,상기 DNA 오리가미에 의하여 DNA 구조 상에 금속 입자 결합 부위가 생성되며,상기 금속 입자와 상기 DNA 구조의 결합은, 상기 금속 입자 결합 부위에 상기 금속 입자가 결합된 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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제 1 항에 있어서,상기 금속 입자는 Ni, Co, Fe, Pt, Au, Al, Cr, Cu, Mg, Mn, Mo, Rh, Si, Ta, Ti, W, U, V, Zr, Ge, 황동(brass), 청동(bronze), 백동, 스테인레스 스틸(stainless steel), 및 이들의 조합들로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 금속 또는 합금을 포함하는 것인, 그래핀의 패턴 형성 방법
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