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기재 상에 형성된 나노시트, 및상기 나노시트에 형성된 메쉬 형상의 무기물 층을 포함하고, 상기 나노시트 및 상기 무기물 층이 교번하여 각각 한 층 이상 적층되어 있는 것이며, 상기 메쉬 형상의 무기물 층은 기공을 포함하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체
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제 1 항에 있어서,상기 나노시트는 그래핀, 산화 그래핀, 환원된 산화 그래핀, MoS2, WS2, NiSe2, PtS2, PdTe2, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체
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제 1 항에 있어서,상기 메쉬 형상의 무기물 층은 금속 박막, 금속 나노와이어, 금속 섬유, 나노 잉크, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체
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제 1 항에 있어서,상기 메쉬 형상의 무기물 층은 Au, Pt, Cu, TiO2, Ni, ITO, Ag, W, Al, Si, 카본, 합금, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체
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제 1 항에 있어서,상기 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체는 상기 기공에 의해 광소스의 투과도가 향상되는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체
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기재 상에 나노시트를 형성하고,상기 나노시트에 메쉬 형상의 무기물 층을 형성하는 것을 포함하며,상기 나노시트 및 상기 무기물 층을 형성하는 것을 교번하여 각각 한 층 이상 형성하는 것이며,상기 메쉬 형상의 무기물 층은 기공을 포함하는 것인,나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 기재는 유리, 쿼츠, 금속 박막, Si, SiO2, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 나노시트는 그래핀, 산화 그래핀, 환원된 산화 그래핀, MoS2, WS2, NiSe2, PtS2, PdTe2, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 것을 포함하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 무기물은 Au, Pt, Cu, TiO2, Ni, ITO, Ag, W, Al, Si, 카본, 합금, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 것을 포함하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 메쉬 형상의 무기물 층은 금속 박막, 금속 나노와이어, 금속 섬유, 나노 잉크, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택된 형상을 포함하도록 형성되는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 메쉬 형상의 무기물 층은 전자빔 증착, 잉크젯 프린팅, 스퍼터링, 진공 증착, 이온 플레이팅, 열증착, 이온빔, 펄스 레이저 증착, 원자층 증착, 원자빔 에피탁시, 나노임프린팅 리소그래피, 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는 방법에 의해 형성되는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 나노시트는 화학기상증착법, 스프레이 코팅법, 스핀 코팅법, 진공 여과법, 랑뮤어-블라젯 조립법, 또는 LBL(layer by layer) 조립법을 이용하여 형성되는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 7 항에 있어서,상기 무기물 층의 두께, 너비, 및 배열 간격을 조절함으로써 상기 메쉬 형상의 패터닝을 다양하게 형성하는 것인, 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체의 제조 방법
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제 1 항 내지 제 4 항 및 제 6 항 중 어느 한 항에 따른 나노시트-무기물 적층 다공성 나노구조체를 포함하는, 소자
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