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(a) 모델 웨이퍼에 대한 플라즈마 식각 공정 종료점까지의 공정 시간에 따른 제1 전압, 제1 전류 및 제1 위상 각각의 제N차 고조파들을 상기 식각 공정 종료점 이후, 제1 시간까지 측정하는 단계; (b) 측정된 제1 전압의 제N차 고조파들, 측정된 제1 전류의 제N차 고조파들 및 측정된 제1 위상의 제N차 고조파들을 이용하여 상기 제1 전압, 상기 제1 전류 및 상기 제1 위상의 제N차 고조파들 각각에 대한 제1 평균 및 제1 표준편차를 구하고, 상기 제1 평균 및 제1 표준편차를 이용하여 상기 제1 전압, 상기 제1 전류 및 상기 제1 위상의 제N차 고조파들을 각각 정규화(Normalization)하고, 정규화된 상기 제1 전압, 상기 제1 전류 및 상기 제1 위상에 대한 정보를 모두 포함하는 3N개의 새로운 주성분들을 생성하며, 새로운 주성분들 중 상기 모델 웨이퍼의 식각 종료점의 검출에 가장 민감한 변화를 나타내는 제1 모델주성분 및 제2 모델주성분을 선정하며, 상기 제1 모델주성분 및 제2 모델주성분과 상기 정규화된 상기 제1 전압, 상기 제1 전류 및 상기 제1 위상의 제N차 고조파들과의 관계를 각각 나타내는 제1 로딩 벡터 및 제2 로딩 벡터를 산출하는 단계; (c) 타겟 웨이퍼의 플라즈마 식각 공정 중의 제2 전압, 제2 전류 및 제2 위상 각각의 제N차 고조파들을 기 설정된 제2 시간간격으로 측정하고, 측정시간 마다 상기 제 2 전압의 제N차 고조파들, 상기 제2 전류의 제N차 고조파들 및 상기 제2 위상의 제N차 고조파들 각각에 상기 제1 전압, 상기 제1 전류 및 상기 제1 위상 각각에 대한 상기 제1 평균 및 상기 제1 표준편차를 적용하여 상기 제2 전압, 상기 제2 전류 및 상기 제2 위상의 제N차 고조파들에 대한 각각의 정규화(Normalization)값을 추정하고, 상기 추정된 정규화값들에 상기 제1 로딩 벡터 및 상기 제2 로딩 벡터를 각각 적용하여 각 측정시간에 대한 제1 타겟주성분 및 제2 타겟주성분을 산출하는 단계; (d) 상기 제1 타겟주성분 및 상기 제2 타겟주성분으로 표현되는 좌표를 이용하여, 인접한 측정시간에 대응되는 상기 좌표간의 거리를 산출하는 단계; 및 (e) 상기 좌표간의 거리 변화가 가장 큰 지점을 상기 타켓 웨이퍼의 식각 종료점으로 판단하는 단계를 포함하는 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 제1 위상은 상기 공정 시간에 따라 측정된 상기 제1 전압의 N차 고조파와 상기 제1 전류의 N차 고조파간의 위상차인 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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제1항에 있어서,상기 (a) 단계에서,상기 제1 전압, 제1 전류 및 제1 위상 각각의 제N차 고조파는 제5차 고조파인 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서,상기 3N개의 새로운 주성분들은 주성분분석(Principal Component Analysis, PCA)을 통하여 생성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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제1항에 있어서,상기 (b) 단계에서,상기 3N개의 새로운 주성분들 중 상기 모델 웨이퍼의 식각 종료점의 검출에 미치는 영향이 가장 큰 주성분을 상기 제1 모델주성분으로 선정하고, 다음으로 영향이 큰 주성분을 상기 제2 모델주성분으로 선정하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서,상기 제2 전압, 제2 전류 및 제2 위상 각각의 제N차 고조파는 제5차 고조파인 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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제1항에 있어서,상기 (c) 단계에서,상기 제2 위상은 상기 기 설정된 제2 시간간격으로 측정된 상기 제2 전압의 N차 고조파와 상기 제2 전류의 N차 고조파간의 위상차인 것을 특징으로 하는 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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제1항에 있어서, 상기 좌표간의 거리는 유클리드 거리인 플라즈마 식각 공정의 식각 종료점 검출 방법
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