1 |
1
삭제
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
삭제
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
삭제
|
6 |
6
(S1) 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 트리브로모보란을 반응시켜 화학식 3의 화합물을 얻는 단계; 및 [화학식 1][화학식 2]BBr3[화학식 3](S2) 상기 화학식 3의 화합물을 화학식 4의 화합물 및 화학식 5의 화합물과 반응시킨 후 화학식 6의 화합물을 더 첨가하여 화학식 7로 표시되는 화합물을 얻는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는, 광학활성 메틸 2-(1-하이드록시)-부타-2,3-디엔놀레이트 유도체의 비대칭 제조방법
|
7 |
7
이하의 구조식을 갖는 실본(Sylvone)의 제조방법으로서, (식 중, Me는 메틸임)(S1) 화학식 7의 화합물을 질산은(AgNO3) 촉매의 존재하에서 환류시켜 화학식 9의 화합물을 얻는 단계;[화학식 7](식 중, Me는 메틸이고, R은 C6-12 아릴 또는 C1-10 알콕시기로 치환 또는 비치환된 C1-10 알킬, C5-6 사이클로알킬 C6-12 아릴, C3-12 헤테로아릴, C2-10 알케닐, 또는 C2-10 알키닐임)[화학식 9](식 중, Me는 메틸임)(S2) 화학식 10의 화합물을 부틸리튬과 반응시킨 용액에 화학식 9의 화합물을 첨가하여 화학식 12의 화합물을 얻는 단계;[화학식 10](식 중, Me는 메틸임)[화학식 12](식 중, Me는 메틸임)(S3) 화학식 12의 화합물을 리튬알루미늄하이드라이드(LiAlH4)와 반응시켜 화학식 14의 화합물을 얻는 단계; 및[화학식 14](식 중, Me는 메틸임)(S4) 화학식 14의 화합물을 염화수은(HgCl2) 및 산화수은(Ⅱ)(HgO)의 존재 하에서 가수분해하는 단계를 포함하는 실본의 제조방법
|
8 |
8
제7항에 있어서, 상기 S1 단계에서 사용되는 화학식 7의 화합물은, 화학식 1의 화합물과 화학식 2의 트리브로모보란을 반응시켜 화학식 3의 화합물을 얻은 다음, 상기 화학식 3의 화합물을 화학식 4의 화합물 및 화학식 5의 화합물과 반응시킨 후 화학식 6의 화합물을 더 첨가하여 제조되는 것을 특징으로 하는 실본의 제조 방법
|
9 |
9
제8항에 있어서, 상기 R은 페닐, 3,4-다이메톡시페닐, PhCH2CH2, PhCH2, PhCH=CH, PhC≡C, t-부틸, 펜틸, 사이클로헥실 또는 퓨릴인 것을 특징으로 하는 실본의 제조방법
|
10 |
10
제9항에 있어서, 상기 R은 3,4-다이메톡시페닐인 것을 특징으로 하는 실본의 제조방법
|
11 |
11
제7항에 있어서, 상기 S1 단계는 화학식 7의 화합물을 질산은(AgNO3) 촉매의 존재 하에서 아세톤 용매에서 12시간 동안 환류시키는 것을 특징으로 하는 실본의 제조방법
|
12 |
12
제7항에 있어서, 상기 S2 단계는 -78℃에서 화학식 10의 화합물을 테트라하이드로퓨란과 헥사메틸포스포아마이드의 혼합 용매에서 부틸리튬을 첨가하고, -78℃에서 화학식 9의 화합물을 첨가하여 30분 동안 반응시키는 것을 특징으로 하는 실본의 제조방법
|
13 |
13
제7항에 있어서, 상기 S3 단계는 -5∼10℃에서 1∼3시간 반응시키는 것을 특징으로 하는 실본의 제조방법
|