광원;

상기 광원의 하부에 상기 광원으로부터 나온 광이 입사하는 제1 회절격자;

상기 제1 회절격자를 통과한 광은 브래그 조건에 맞는 일정한 회절각을 갖는 ±m차 회절광으로 변경되며 상기 ±m차 회절광이 입사하도록 상기 제1 회절격자의 하부에 상기 제1 회절격자에 수직하게 위치하는 두 개의 거울;

상기 거울의 하부에 상기 거울에 반사된 ±m차 회절광이 상기 회절각과 동일한 각도로 입사되고 상기 제1 회절격자와 간격이 같은 제2 회절격자; 및

상기 제2 회절격자를 통과한 ±m차 회절광은 상기 제2 회절격자에 수직하게 회절되어 ±m'차 회절광으로 변경되며 상기 제2 회절격자의 하부에 상기 ±m'차 회절광의 위상차이로 인한 간섭광의 발생 및 세기 변화를 측정하는 광전센서를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 변위측정장치

제1항에 있어서, 상기 광원의 하부에 상기 광원으로부터 나온 광을 평행하게 조절하는 콜리메이션 렌즈를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 변위측정장치

광원;

상기 광원의 하부에 상기 광원으로부터 나온 광이 입사하는 제1 회절격자;

상기 제1 회절격자에 반사한 광은 브래그 조건에 맞는 일정한 회절각을 갖는 ±m차 회절광으로 변경되며 상기 ±m차 회절광이 입사하도록 상기 제1 회절격자의 상부에 상기 제1 회절격자에 수직하게 위치하는 두 개의 거울;

상기 거울의 상부에 상기 거울에 반사된 ±m차 회절광이 상기 회절각과 동일한 각도로 입사되고 상기 제1 회절격자와 간격이 같은 제2 회절격자; 및

상기 제2 회절격자를 통과한 ±m차 회절광은 상기 제2 회절격자에 수직하게 회절되어 ±m'차 회절광으로 변경되며 상기 제2 회절격자의 상부에 상기 ±m'차 회절광의 위상차이로 인한 간섭광의 발생 및 세기변화를 측정하는 광전센서를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 변위측정장치

제3항에 있어서, 상기 광원의 하부에 상기 광원으로부터 나온 광을 평행하게 조절하는 콜리메이션 렌즈를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 변위측정장치

광원으로부터 광을 제1 회절격자에 입사시키는 단계;

상기 제1 회절격자에 입사된 광을 반사 또는 통과시켜 일정한 회절각을 갖는 ±m차 회절광을 생성시키는 단계;

상기 ±m차 회절광을 두 개의 거울에 입사시켜 반사시키는 단계;

상기 두 개의 거울에 반사된 ±m차 회절광을 상기 회절각과 동일한 각도로 상기 제1 회절격자와 간격이 같은 제2 회절격자에 입사시키는 단계;

상기 제2 회절격자에 입사되어 통과된 ±m차 회절광은 상기 제2 회절격자에 수직하게 간섭되어 ±m'차 회절광으로 변경시키는 단계;

상기 제1 회절격자의 움직임에 따라 발생하는 ±m'차 회절광의 위상차이로 인한 간섭광의 세기변화를 광전변환시키는 단계;

상기 광전변환된 전기신호를 1차 및 2차 미분회로를 이용하여 90도의 위상차를 갖는 두 개의 광전신호로 분리하는 단계;

상기 두 개의 광전신호를 AD 변환 및 TTL 신호변환하여 90도 위상차가 있는 두 개의 TTL 신호를 생성하는 단계; 및

상기 두 개의 TTL 신호의 엣지를 검출한 후 펄스 신호를 발생시켜 상기 제1 회절격자의 변위를 측정하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 변위측정방법