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대면적의 플라즈모닉 결정 구조 및 그 제조방법
- 기술번호 : KST2015157888
- 담당센터 : 인천기술혁신센터
- 전화번호 : 032-420-3580
| 요약 | 본 발명은 대면적의 플라즈모닉 결정(plasmonic crystal) 구조 및 그 제조방법에 관한 것이다.플라즈모닉 결정은 2차원의 나노 범프(nanobump)와 나노 우물(nanowell)로 구성되어져 있으며, NFH(Near Field Holography) 리소그래피(lithography)를 이용하여 제조되었다. 이러한 구조는 공명 파장을 제어하는 여러 구조적인 변수를 가지고 있어, 표면 플라즈몬 공명(surface plasmon resonance, SPR) 센서와 표면강화 라만산란(Surface Enhanced Raman Scattering, SERS)에 이용될 수 있다. |
|---|---|
| Int. CL | G02B 6/124 (2006.01) G01B 11/00 (2006.01) |
| CPC | G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) G02B 6/124(2013.01) |
| 출원번호/일자 | 1020110084740 (2011.08.24) |
| 출원인 | 인하대학교 산학협력단 |
| 등록번호/일자 | 10-1205392-0000 (2012.11.21) |
| 공개번호/일자 | |
| 공고번호/일자 | (20121127) 문서열기 |
| 국제출원번호/일자 | |
| 국제공개번호/일자 | |
| 우선권정보 | |
| 법적상태 | 소멸 |
| 심사진행상태 | 수리 |
| 심판사항 | |
| 구분 | 신규 |
| 원출원번호/일자 | |
| 관련 출원번호 | |
| 심사청구여부/일자 | Y (2011.08.24) |
| 심사청구항수 | 5 |
출원인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 인하대학교 산학협력단 | 대한민국 | 인천광역시 미추홀구 |
발명자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 오범환 | 대한민국 | 인천광역시 남구 |
| 2 | 이동진 | 대한민국 | 인천광역시 남구 |
대리인
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 이원희 | 대한민국 | 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 성지하이츠빌딩*차 ***호 (역삼동) |
최종권리자
| 번호 | 이름 | 국적 | 주소 |
|---|---|---|---|
| 1 | 인하대학교 산학협력단 | 인천광역시 미추홀구 |
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application |
2011.08.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0659012-98 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search |
2012.04.23 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search |
2012.05.21 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0038771-67 |
| 4 | 의견제출통지서 Notification of reason for refusal |
2012.06.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0375985-84 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment |
2012.08.16 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0654729-88 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation) |
2012.08.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0654727-97 |
| 7 | 등록결정서 Decision to grant |
2012.11.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0694303-15 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2015.07.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5098802-16 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2016.09.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2016-5127132-49 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.03.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5036549-31 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information |
2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266647-91 |
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 |
1 대면적의 플라즈모닉 결정구조의 제조방법에 있어서, 유리기판 위에 포토레지스트를 코팅하는 제 1 단계; 코팅된 상기 포토레지스트에 제 1 NFH(Near Field Holography) 리소그래피(lithography)를 수행하여 간격이 일정한 제 1 격자구조를 형성하는 제 2 단계; 상기 제 2 단계 이후, 상기 기판을 90°회전한 후에 상기 제 1 격자구조가 형성된 상기 포토레지스트에 대해 제 2 NFH(Near Field Holography) 리소그래피(lithography)를 수행하여 간격이 일정한 제 2 격자구조를 형성하는 제 3 단계; 및 상기 제 1 NFH 리소그래피 및 제 2 NFH 리소그래피가 수행된 상기 포토레지스트 위에 금속을 증착하는 제 4 단계를 포함하고, 상기 제 2 단계 및 상기 제 3 단계에서 각각 수행되는 상기 제 1 및 제 2 NFH 리소그래피는, 일정한 주기(Λ)의 격자 구조를 가지는 위상 마스크(phase mask)를 상기 유리기판에 코팅된 상기 포토레지스트 위에 위치시키고, 상기 위상 마스크에 특정 각도(θ)로 평행광을 입사시킴으로써 상기 위상 마스크를 통과한 빛이 회절되어 상기 포토레지스트에 입사되도록 수행되며, 상기 특정 각도(θ)는, 상기 위상 마스크의 주기(Λ)와 입사광의 파장(λ)에 의해 이하의 수학식으로 결정되는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 결정 구조의 제조방법 |
| 2 |
2 제 1 항에 있어서,상기 제 1 단계에서 상기 기판 위에 코팅되는 상기 포토레지스트는 스핀 코팅에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 결정 구조의 제조방법 |
| 3 |
3 제 1 항에 있어서,상기 제 3 단계에서, 상기 제 1 NFH 리소그래피가 수행된 상기 포토레지스트에 대해 상기 제 2 NFH 리소그래피를 수행함으로써, 상기 포토레지스트에 2차원의 나노 범프와 나노 우물이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 결정 구조의 제조방법 |
| 4 |
4 삭제 |
| 5 |
5 청구항 1항 내지 3항 중 어느 한 항에 기재된 플라즈모닉 결정 구조의 제조방법을 이용하여 제조되는 플라즈모닉 결정 구조에 있어서, 빛이 투과되는 기판; 상기 기판 위에 형성되며, 적어도 하나 이상의 2차원의 나노 범프와 나노 우물이 형성된 포토레지스트; 상기 나노 범프와 나노 우물이 형성된 포토레지스트의 표면에 증착된 금속면을 포함하고, 상기 금속면은 상기 기판에 형성된 상기 나노 범프 및 상기 나노 우물의 위치에 따라 금속 나노 범프 및 금속 나노 우물(metallic nanowell)이 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 결정 구조 |
| 6 |
6 제 5 항에 있어서,상기 2차원의 나노 범프와 나노 우물은 상기 기판에 스핀 코팅으로 코팅된 포토레지스트에 제 1 NFH(Near Field Holography) 리소그래피(lithography)를 수행하고, 상기 제 1 NFH 리소그래피가 수행된 포토레지스트에 대해 90°회전한 후, 제 2 NFH(Near Field Holography) 리소그래피(lithography)를 수행함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈모닉 결정 구조 |
| 지정국 정보가 없습니다 |
|---|
| 패밀리정보가 없습니다 |
|---|
| 순번 | 연구부처 | 주관기관 | 연구사업 | 연구과제 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | 교육과학기술부 | 인하대학교 산학협력단 | 중점연구소 지원사업 | 그린 생체모방형 임플란터블 전자칩 및 U-생체정보처리 플랫폼 융합기술개발 |
| 2 | 교육과학기술부 | 인하대학교 산학협력단 | 우수연구센터(ERC)사업 | O-PCB의 응용화 기술 개발 |
| 공개전문 정보가 없습니다 |
|---|
- 본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
- 데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
- 법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.
| 특허 등록번호 | 10-1205392-0000 |
|---|
권리란
| 표시번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
출원 연월일 : 20110824 출원 번호 : 1020110084740 공고 연월일 : 20121127 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20121119 청구범위의 항수 : 5 유별 : G02B 6/124 발명의 명칭 : 대면적의 플라즈모닉 결정 구조 및 그 제조방법 존속기간(예정)만료일 : 20181122 |
특허권자란
| 순위번호 | 사항 |
|---|---|
| 1 |
(권리자) 인하대학교 산학협력단 인천광역시 미추홀구... |
등록료란
| 제 1 - 3 년분 | 금 액 | 120,000 원 | 2012년 11월 22일 | 납입 |
| 제 4 년분 | 금 액 | 105,000 원 | 2015년 10월 01일 | 납입 |
| 제 5 년분 | 금 액 | 105,000 원 | 2016년 09월 12일 | 납입 |
| 제 6 년분 | 금 액 | 105,000 원 | 2017년 08월 29일 | 납입 |
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- 정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
- 해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.
| 번호 | 서류명 | 접수/발송일자 | 처리상태 | 접수/발송번호 |
|---|---|---|---|---|
| 1 | [특허출원]특허출원서 | 2011.08.24 | 수리 (Accepted) | 1-1-2011-0659012-98 |
| 2 | 선행기술조사의뢰서 | 2012.04.23 | 수리 (Accepted) | 9-1-9999-9999999-89 |
| 3 | 선행기술조사보고서 | 2012.05.21 | 수리 (Accepted) | 9-1-2012-0038771-67 |
| 4 | 의견제출통지서 | 2012.06.28 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0375985-84 |
| 5 | [명세서등 보정]보정서 | 2012.08.16 | 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) | 1-1-2012-0654729-88 |
| 6 | [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 | 2012.08.16 | 수리 (Accepted) | 1-1-2012-0654727-97 |
| 7 | 등록결정서 | 2012.11.19 | 발송처리완료 (Completion of Transmission) | 9-5-2012-0694303-15 |
| 8 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2015.07.22 | 수리 (Accepted) | 4-1-2015-5098802-16 |
| 9 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2016.09.05 | 수리 (Accepted) | 4-1-2016-5127132-49 |
| 10 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.03.02 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5036549-31 |
| 11 | 출원인정보변경(경정)신고서 | 2018.12.27 | 수리 (Accepted) | 4-1-2018-5266647-91 |
| 기술정보가 없습니다 |
|---|
| 과제고유번호 | 1345157016 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0079532 |
| 연구과제명 | O-PCB 응용화 공정기술 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 인하대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200308~201202 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1415123333 |
|---|---|
| 세부과제번호 | H0301-12-1010 |
| 연구과제명 | 고성능 LED 조명용 모듈 핵심기술개발 연구 |
| 성과구분 | 등록 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신 산업 진흥원 |
| 연구주관기관명 | 인하대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2012 |
| 연구기간 | 201106~201412 |
| 기여율 | 0.5 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1345152984 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2009-0079531 |
| 연구과제명 | VLSI형 나노 광자회로 O-PCB 요소기술 개발 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 인하대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 200308~201202 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
| 과제고유번호 | 1345154427 |
|---|---|
| 세부과제번호 | 2010-0020163 |
| 연구과제명 | 정보전자공동연구소 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 교육과학기술부 |
| 연구관리전문기관명 | 한국연구재단 |
| 연구주관기관명 | 인하대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 201009~201904 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기초연구 |
| 6T분류명 | ET(환경기술) |
| 과제고유번호 | 1415117558 |
|---|---|
| 세부과제번호 | C1090-1100-0007 |
| 연구과제명 | 고성능 LED 조명용 모듈 핵심기술개발 연구 |
| 성과구분 | 출원 |
| 부처명 | 지식경제부 |
| 연구관리전문기관명 | 정보통신산업진흥원 |
| 연구주관기관명 | 인하대학교 산학협력단 |
| 성과제출연도 | 2011 |
| 연구기간 | 201106~201412 |
| 기여율 | 0.33333334 |
| 연구개발단계명 | 기타 |
| 6T분류명 | IT(정보기술) |
특허성과
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