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전기변색층(electrochromic layer), 전해질층(electrolyte layer), 상대전극층(counterelectrod layer)을 포함하며, 상기 전기변색층 및 상대전극층과 상기 전해질층과의 계면에 고체 무기전해질막을 보호막으로 포함하여, 상기 전해질층을 중심으로, 전해질층의 상부로 고체 무기전해질막, 상대전극층, 투명전극층 및 기판이 배치되고, 전해질층의 하부로 고체 무기전해질막, 전기변색층, 투명전극층 및 기판이 배치되어 있으며,상기 고체 무기전해질막은 리튬 포스포러스 옥시나이트라이드(LixPOyNz)로 이루어지고, 두께가 30 내지 100㎚ 이며,상기 전해질층은 상기 무기전해질막 사이에 주입된 액상 전해질로 이루어지고,상기 상대전극층과 전기변색층은 상기 액상 전해질의 주입 전에 이온 주입 또는 이온 탈착을 실행하여 전하 균형(charge balance)이 이루어져 있는 전기변색소자
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제 1항에 있어서, 상기 고체 무기 전해질막은 R-F 마그네트론 스퍼터링에 의해 형성되는 전기변색소자
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제 1항에 있어서, 상기 전해질층은 리튬이온 전도성 전해질을 포함하는 전기변색소자
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제 1항에 있어서, 상기 상대전극층은 VxOy, NixOy, IrxOy, FexOy, MnxOy, RhxOy, CoxOy (이때, x는 1 내지 3이고, y는 1 내지 6 이다)로 이루어진 군에서 선택되는 변색물질을 포함하는 전기변색소자
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제 1항에 있어서, 상기 전기변색층은 WxOy, MoxOy, TaxOy, NbxOy, TixOy, CrxOy(이때, x는 1 내지 3 이고, y는 1 내지 6 이다)로 이루어진 군에서 선택되는 변색물질을 포함하는 전기변색소자
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a) 투명전극층이 형성된 기판에 전기변색층을 증착한 후, 상기 전기변색층 위에 스퍼터 공정으로 고체 무기전해질을 증착하여 보호막을 형성하는 단계;b) 투명전극층이 형성된 기판에 상대전극층을 증착한 후, 상기 상대전극층 위에 스퍼터 공정으로 고체 무기 전해질을 증착하여 보호막을 30 내지 100㎚의 두께로 형성하는 단계; 및c) 상기 a) 및 b)단계에서 형성된 고체 무기 전해질을 각각 보호막으로 포함하는 전기변색층과 상대전극층 사이에 액상 전해질을 주입하여 전해질층을 형성하는 단계를 포함하며상기 a) 및 b) 단계의 고체 무기전해질은 리튬 포스포러스 옥시나이트라이드(LixPOyNz)인 전기변색소자의 제조 방법
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제 9항에 있어서, 상기 전기변색소자의 두 전극층 사이에 액상 전해질을 주입하기 전에, 전기변색층에 전해질 이온을 주입하여 변색시키고, 상대전극층에는 전해질 이온을 탈착시켜 변색시키는 단계를 포함하는 전기변색소자의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 전기변색소자의 두 전극층 사이에 액상 전해질을 주입하기 전에, 전기변색층에 전해질 이온을 탈착하여 탈색을 시키는 과정과, 상대전극층에는 전해질 이온을 주입시켜 탈색시키는 단계를 포함하는 전기변색소자의 제조방법
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