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기판 위에 제1 금속 박막을 형성하는 단계;상기 제1 금속 박막을 어닐링함에 의해 금속 나노 입자를 자가 조립하는 단계; 및상기 금속 나노 입자 및 상기 기판 위에 제2 금속 박막을 형성하는 단계; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 금속 나노 입자가 형성된 후 상기 제2 금속 박막을 형성하기 전에, 상기 금속 나노 입자 및 상기 기판 위에 접착층을 형성하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 제조 방법
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제2항에 있어서,상기 접착층은 크롬(Cr)인 것을 특징으로 하는 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 금속 박막 및 상기 제2 금속 박막은 Au, Al, Ag, 또는 Cu 중에서 선택된 어느 하나 또는 하나 이상의 조합을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 플라즈몬 공명 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제1 금속 박막의 두께는 3 내지 5nm인 것을 특징으로 하는 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 제2 금속 박막의 두께는 20 내지 30nm인 것을 특징으로 하는 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 제조 방법
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제1항에 있어서,상기 어닐링은 400 내지 500℃의 조건에서 2분 동안 수행되는 RTA(Rapid Thermal Annealing)이고, 상기 금속 나노 입자의 지름은 20 내지 60nm인 것을 특징으로 하는 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 제조 방법
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8
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서
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제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조된 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 모듈부; 입사 파를 발생시키는 광원부; 반사파를 입력받는 수광부; 및상기 수광부에서 반사파를 분석하는 검출부를 포함하는 고감도 표면 플라즈몬 공명 센서 장치
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