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하기 화학식 1로 표시되는 화합물:[화학식 1]상기 화학식 1에서, R1은 Cl 또는 SCH3이고,R2는 SCH3이며,R3는 H, 또는 치환되지 않거나 OH 또는 OCH2COOR4으로 치환된 C6-10 아릴기이고,R4는 H, C(CH3)3 또는 숙신이미딜(succinimidyl)이다
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제1항에 있어서, 상기 화학식 1에서, R1은 Cl이고,R2는 SCH3이며,R3는 H, 또는 치환되지 않거나 OH 또는 OCH2COOR4으로 치환된 페닐기이고,R4는 H, C(CH3)3 또는 숙신이미딜(succinimidyl)인, 화합물
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제1항에 있어서, 상기 화학식 1의 화합물은 하기 화학식 3 내지 9의 화합물 중 어느 하나인, 화합물:[화학식 3][화학식 4][화학식 5][화학식 6][화학식 7][화학식 8][화학식 9]
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하기 화학식 2의 화합물, 디메틸설폭사이드(DMSO) 및 포스포러스 옥시클로라이드(POCl3)를 반응시키는 단계를 포함하는 제1항의 화합물의 제조방법
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제4항에 있어서, 상기 R3는 H, 또는 치환되지 않거나 OH 또는 OCH2COOR4으로 치환된 페닐기이고, R4는 H, C(CH3)3 또는 숙신이미딜(succinimidyl)인, 제조방법
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6
제4항에 있어서, 상기 단계 1)의 화학식 2의 화합물에 대한 DMSO의 당량은 1 내지 200 당량인, 제조방법
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7
제4항에 있어서, 상기 반응의 화학식 2의 화합물과 POCl3의 몰비는 1:1 내지 1:2인, 제조방법
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8
제4항에 있어서, 상기 반응은 용매로서 디클로로메탄 및 클로로포름으로 구성되는 군으로부터 선택되는 어느 하나 이상을 사용하여 수행되는, 제조방법
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9
제4항에 있어서, 상기 반응은 0 내지 15 ℃에서 수행되는, 제조방법
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10
제4항에 있어서, 상기 반응은 촉매로서 트리에틸아민 또는 트리메틸아민을 사용하여 수행되는, 제조방법
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11
제1항의 화합물을 포함하는 고반응성 산소종 검출용 조성물
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12
제11항에 있어서, 상기 고반응성 산소종은 차아염소산 또는 H2O2인, 고반응성 산소종 검출용 조성물
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