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기판;기판 상에 형성된 하부 클래딩층;하부 클래딩층 상에 형성된 하부 접착력 증가층;상기 하부 접착력 증가층 상에 형성된 코어층; 및상기 코어층 상에 형성된 상부 클래딩층을 포함하며,상기 하부 클래딩층 상에 수산기를 도입하고,상기 하부 접착력 증가층은 상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기 및 이중결합을 갖는 접착력 증가제를 포함하며,상기 수산기와 상기 반응기가 반응하여 하부 접착력 증가층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로
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제1항에 있어서, 상기 코어층과 상부 클래딩층 사이에 상부 접착력 증가층을 더 포함하며, 상기 코어층 상에 수산기를 도입하고,상기 상부 접착력 증가층은 상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기 및 이중결합을 갖는 접착력 증가제를 포함하며,상기 수산기와 상기 반응기가 반응하여 상부 접착력 증가층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로
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제1항 또는 제2항 어느 한 항에 있어서, 상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기는 카르복실산기, 술폰산기, 인산기 및 실옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로
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제1항 또는 제2항 어느 한 항에 있어서, 상기 하부 클래딩층 또는 상기 상부 클래딩층은아크릴계 모노머 또는 불소치환 아크릴계 모노머에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 모노머 60 내지 90 중량%;가교제 5 내지 30 중량%; 및중합개시제 1 내지 10 중량%를 포함하는 클래딩 용액을 이용하여 형성된 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로
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제1항 또는 제2항 어느 한 항에 있어서, 상기 코어층은아크릴계 모노머 또는 불소치환 아크릴계 모노머에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 모노머 60 내지 90 중량%;가교제 5 내지 30 중량%; 및중합개시제 1 내지 10 중량%를 포함하는 코어 용액을 이용하여 형성된 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로
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기판;기판 상에 형성된 하부 클래딩층;하부 클래딩층 상에 형성된 코어층;상기 코어층 상에 형성된 상부 접착력 증가층; 및상기 상부 접착력 증가층 상에 형성된 상부 클래딩층을 포함하며,상기 코어층 상에 수산기를 도입하고,상기 상부 접착력 증가층은 상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기 및 이중결합을 갖는 접착력 증가제를 포함하며,상기 수산기와 상기 반응기가 반응하여 상부 접착력 증가층을 형성하는 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로
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기판 상에 하부 클래딩층을 형성하는 단계;상기 하부 클래딩층 상에 수산기를 도입하는 단계;상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기 및 이중결합을 갖는 접착력 증가제를 상기 수산기와 반응시켜 상기 하부 클래딩층 상에 접착력 증가제를 도입하여 하부 접착력 증가층을 형성하는 단계;상기 하부 접착력 증가층 상에 코어층을 형성하는 단계; 및상기 코어층 상에 상부 클래딩층을 형성하는 단계를 포함하는 고분자 광도파로의 제조방법
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제7항에 있어서, 상기 하부 접착력 증가층 상에 코어층을 형성하는 단계와 상기 코어층 상에 상부 클래딩층을 형성하는 단계 사이에,상기 코어층 상에 수산기를 도입하는 단계; 및상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기 및 이중결합을 갖는 접착력 증가제를 상기 수산기와 반응시켜 상기 코어층 상에 접착력 증가제를 도입하여 상부 접착력 증가층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로의 제조방법
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제7항 또는 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기는 카르복실산기, 술폰산기, 인산기 및 실옥시기로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로의 제조방법
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제7항 또는 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 수산기를 도입하는 단계는 산소 플라스마 처리 공정, 자외선(Ultra Violet; UV)-오존 처리 공정 및 과산화수소 및 암모니아 혼합용액에 노출시키는 공정으로 이루어진 군에서 선택된 하나 또는 둘 이상의 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 고분자 광도파로의 제조방법
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11 |
11
기판 상에 하부 클래딩층을 형성하는 단계;상기 하부 클래딩층 상에 코어층을 형성하는 단계;상기 코어층 상에 수산기를 도입하는 단계;상기 수산기와 반응할 수 있는 반응기 및 이중결합을 갖는 접착력 증가제를 상기 수산기와 반응시켜 상기 코어층 상에 접착력 증가제를 도입하여 상부 접착력 증가층을 형성하는 단계; 및상기 상부 접착력 증가층 상에 상부 클래딩층을 형성하는 단계를 포함하는 고분자 광도파로의 제조방법
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