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3차원 CVD 장치 및 방법

  • 기술번호 : KST2015212809
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요약 본 발명은 3차원 CVD 장치 및 이를 이용한 증착 방법에 관한 것이다. 본 발명은 반응 가스가 상기 상면, 하면 및 측면의 상기 반응 가스 샤워 중 선택된 최소한 하나의 반응 가스 샤워로 반응가스가 유입되게 하고 반응 가스가 상기 상면, 하면 및 측면 중 선택된 최소한 하나의 배기관으로 배기되도록 상기 반응 가스 샤워 및 배기 기구를 제어하며, 증착 과정 중에 상기 선택된 반응 가스 샤워 또는 상기 선택된 배기 기구를 변경하는 반응가스 유출입 제어기를 포함하는 3차원 코팅 장치를 제공한다. 본 발명에 따르면, 농도구배문제, 온도구배문제 및 반응부산물 문제를 해결하여 3차원 모재의 표면에 균일한 코팅을 가능하게 한다.3차원 CVD, 농도구배, 온도구배, 반응부산물
Int. CL C23C 16/00 (2006.01)
CPC C23C 16/45563(2013.01) C23C 16/45563(2013.01) C23C 16/45563(2013.01) C23C 16/45563(2013.01)
출원번호/일자 1020060120363 (2006.12.01)
출원인 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원)
등록번호/일자 10-0824339-0000 (2008.04.16)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20080423) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2006.12.01)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국산업기술평가원(관리부서:요업기술원) 대한민국 서울특별시 강남구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 허승헌 대한민국 서울 동작구
2 류도형 대한민국 서울 금천구
3 조광연 대한민국 서울 구로구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인충정 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로***,*층(역삼동,성보역삼빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주)코멕스카본 경기도 안성시
2 한국세라믹기술원 경상남도 진주시 소호로 ***
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2006.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2006-0893172-44
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2007.06.18 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2007.07.16 수리 (Accepted) 9-1-2007-0043920-29
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2007.10.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2007-0556275-69
5 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)
2007.12.17 수리 (Accepted) 1-1-2007-0906908-81
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2008.01.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2008-0028323-66
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2008.01.14 수리 (Accepted) 1-1-2008-0028312-64
8 등록결정서
Decision to grant
2008.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2008-0055613-71
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2008.11.25 수리 (Accepted) 4-1-2008-5187618-45
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
상면, 하면 또는 측면에 의해 규정되는 내부 공간을 갖는 반응 챔버; 상기 반응 챔버의 상면, 하면 및 측면 중 최소한 두 개의 면에 설치되어 반응 가스를 유입하는 반응 가스 샤워; 상기 반응 챔버의 상면, 하면 및 측면 중 최소한 두 개의 면에 설치되며 반응 가스의 유출을 위한 배기관; 상기 반응 가스 샤워와 인접하여 상기 반응 챔버 내부에 설치되며, 상기 반응 가스 샤워로부터 유입되는 반응 가스를 무화하기 위한 다공성 분산판; 상기 다공성 분산판 내부에 설치되는 복수의 히터; 상기 배기관에 연결되어 상기 반응 챔버 내부를 배기하기 위한 배기 기구; 및 반응 가스가 상기 상면, 하면 및 측면의 상기 반응 가스 샤워 중 선택된 최소한 하나의 반응 가스 샤워로 반응가스가 유입되게 하고 반응 가스가 상기 상면, 하면 및 측면 중 선택된 최소한 하나의 배기관으로 배기되도록 상기 반응 가스 샤워 및 배기 기구를 제어하며, 증착 과정 중에 상기 선택된 반응 가스 샤워 또는 상기 선택된 배기 기구를 변경하는 반응가스 유출입 제어기를 포함하는 3차원 코팅 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 반응가스 유출입 제어기는 반응 가스 유입 및 배기를 하나의 사이클로 증착 과정 중 상기 사이클을 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 장치
3 3
제1항에 있어서, 상기 챔버 중앙부로 연장되는 가스 도입관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 장치
4 4
제3항에 있어서, 상기 가스 도입관 끝단에 다공성 가스 분배기가 부착된 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 장치
5 5
(a) 반응 챔버 내부에 3차원 코팅될 모재를 배치하는 단계; (b) 반응 챔버의 상면, 하면 및 측면 중 선택된 최소한 하나의 면으로 반응 가스를 유입하는 단계; (c) 유입된 상기 반응 가스를 상기 반응 챔버 내부에 소정 기간 유지하는 단계; (d) 반응 챔버의 상면, 하면 및 측면 중 상기 단계 (b)에서 선택된 면을 제외한 최소한 하나의 면으로 반응 가스를 유출하는 단계; 및 (e) 상기 반응 챔버의 유입면 또는 유출면을 변경하여 단계 (b) 내지 (d)를 최소한 1회 반복하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 방법
6 6
제5항에 있어서, 상기 단계 (b) 내지 (d)를 하나의 사이클로 하고 사이클을 반복 수행하는 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 방법
7 7
제5항에 있어서, 상기 단계(b)에서 선택된 면과 상기 단계(d)에서 선택된 면은 대향하는 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 방법
8 8
제5항에 있어서, 상기 단계(b)에서 선택된 면과 상기 단계(d)에서 선택된 면은 서로 수직인 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 방법
9 9
제5항에 있어서, 상기 단계 (b) 또는 단계 (d)에서 유입면 또는 유출면이 선택되는 경우, 상기 선택된 유입면 또는 유출면은 상기 단계 (b)의 유입면 또는 단계 (d)의 유출면과 대향하는 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 방법
10 10
제5항에 있어서, 상기 단계 (b) 또는 단계 (d)에서 유입면 또는 유출면이 선택되는 경우, 상기 선택된 유입면 또는 유출면은 상기 단계 (b)의 유입면 또는 단계 (d)의 유출면과 수직인 것을 특징으로 하는 3차원 코팅 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.