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계면활성제 작용기가 도입된 이니퍼터(개시제)를 이용하여제조한 단분산성 고분자 입자 및 그의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015214505
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 나노크기의 범위의 단분산성 고분자 입자를 제조하는 방법에 관한 것으로, 계면활성제 역할을 하는 작용기를 이니퍼터에 도입하여 이를 이용하여 단분산성 고분자 입자를 제조하기 때문에, 본 발명에 의하면 분산안정제나 유화제가 별도로 필요없는 무유화 중합에 의하여 단분산성 고분자 입자를 제조할 수 있다. 본 발명은 시드 중합과 같은 다단계 반응이 아닌, 한단계만으로 입자를 제조할 수 있는 편리성이 있고, 리빙라티컬 반응 중 RAFT(Riversible Addition Fragmentation Chain Transfer) 반응의 특징인 분자량 조절이 가능한 단분산성 고분자 입자의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 단분산성, 이니퍼터, 시드 중합, 리빙라티컬, 개시제, 사슬이동제, 종말제, 모너머
Int. CL C08F 2/50 (2011.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC C08F 2/48(2013.01) C08F 2/48(2013.01) C08F 2/48(2013.01) C08F 2/48(2013.01) C08F 2/48(2013.01)
출원번호/일자 1020030098957 (2003.12.29)
출원인 학교법인 성균관대학
등록번호/일자 10-0514293-0000 (2005.09.05)
공개번호/일자 10-2005-0067922 (2005.07.05) 문서열기
공고번호/일자 (20050913) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2003.12.29)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 학교법인 성균관대학 대한민국 서울 종로구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김덕준 대한민국 서울특별시강남구
2 김주성 대한민국 경기도오산
3 곽주호 대한민국 경기도김포시
4 김영철 대한민국 서울특별시송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 류명현 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 **길 ** 우영빌딩 ***호 유리안국제특허법률사무소(유리안국제특허법률사무소)
2 우광제 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 **-* (역삼동, 신도빌딩) *층(유리안국제특허법률사무소)
3 공석균 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *길 **-*, *층 (역삼동, 신도빌딩)(유리안국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 성균관대학교 산학협력단 경기 수원시 장안구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2003.12.29 수리 (Accepted) 1-1-2003-0503458-02
2 전자문서첨부서류제출서
Submission of Attachment to Electronic Document		 2003.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2003-5253446-40
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2005.07.11 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2005.08.17 수리 (Accepted) 9-1-2005-0050602-11
5 등록결정서
Decision to grant		 2005.08.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2005-0400561-85
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번호 청구항
1 1
1구 250㎖ 둥근플라스크 반응기에 물 150g과 모노머 스타이렌을 넣는 제1단계; 작용성(유화적 기능) 개시제 계면활성제가 작용기로 도입된 이니퍼터 4-Diethylthiocarbonylsulfanylmethyl benzoic acid(DTBA)를 넣는 제2단계; 이를 교반시키면서 5분간 질소퍼지 하는 제3단계; 완전히 교반시킨 후 270W UV등에 15㎝정도 이격시킨후 조사하면서 36시간 광중합 시키는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 단분산 고분자 입자의 제조방법
2 2
1구 250㎖ 둥근플라스크 반응기에 물 150g과 모노머 스타이렌을 넣는 제1단계; 작용성(유화적 기능) 개시제 계면활성제가 작용기로 도입된 이니퍼터 4- (2- Hydroxy -ethyl) piperazine-1-carbodithioicacidbenylether(HPCB)를 넣는 제2단계; 이를 교반시키면서 5분간 질소퍼지 하는 제3단계; 완전히 교반시킨 후 270W UV등에 15㎝정도 이격시킨후 조사하면서 36시간 광중합 시키는 제4단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 단분산 고분자 입자의 제조방법
3 3
제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 스타이렌은 메틸메타아크릴 레이트인 것을 특징으로 하는 단분산 고분자 입자의 제조방법
4 4
제1항 내지 제2항 중 어느 한 항에 있어서, 스타이렌은 폴리에틸렌 글리콜, 글리시딜메타아크릴레이트, 스타이렌, 메틸메타아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 디비닐벤젠, 에틸비닐벤젠, 아크릴로나이트릴, 2-에틸헥실에틸아크릴레이트, 2-에틸헥실에틸메타크릴레이트, 하이드록시에틸메틸아크릴레이트 중 어느 하나로 선택되는 군으로 공중합하는 유화 중합한 것임을 특징으로 하는 단분산 고분자 입자의 제조방법
5 5
제1항 내지 제2항중 어느 한 항의 제조방법에 의하여 생산된 단분산 고분자 입자
6 6
제3항의 제조방법에 의하여 생산된 단분산 고분자 입자
7 7
제4항의 제조방법에 의하여 생산된 단분산 고분자 입자
8 7
제4항의 제조방법에 의하여 생산된 단분산 고분자 입자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.