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그래핀/다공성 실리콘 융복합 나노 구조체를 이용한 포토 다이오드 및 그 제조방법(PHOTO DIODE USING HYBRID STRUCTURE OF GRAPHENE/POROUS SILICON AND METHOD OF MACUFACTURING THE SAME)

  • 기술번호 : KST2015230844
  • 담당센터 : 서울동부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-2155-3662
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 그래핀 및 표면에 수 나노미터(nm) 크기의 다공성 구조가 형성된 다공성 실리콘을 포함하는 융복합 나노구조체를 포함하는 포토 다이오드를 제공한다. 본 발명의 그래핀/다공성 실리콘 기반의 포토 다이오드는 광센서. 태양전지 및 LED와 같은 광소자 분야에 적용이 가능하다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) H01L 33/00 (2010.01)
CPC H01L 33/00(2013.01) H01L 33/00(2013.01) H01L 33/00(2013.01)
출원번호/일자 1020140070662 (2014.06.11)
출원인 경희대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1580740-0000 (2015.12.21)
공개번호/일자 10-2015-0142744 (2015.12.23) 문서열기
공고번호/일자 (20151229) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.06.11)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최석호 대한민국 경기도 수원시 영통구
2 김정길 대한민국 경기도 용인시 수지구
3 김성 대한민국 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김연권 대한민국 서울특별시 송파구 법원로 ***, ****/****호(문정동, 문정대명벨리온)(시안특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 경희대학교 산학협력단 대한민국 경기도 용인시 기흥구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2014.06.11 수리 (Accepted) 1-1-2014-0544642-82
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment
2014.06.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-0568648-17
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.03.09 수리 (Accepted) 4-1-2015-5029677-09
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.03.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2015.04.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0351800-63
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2015-0033361-04
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.05.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0316552-15
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.07.10 수리 (Accepted) 1-1-2015-0669323-10
9 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.10.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0738043-74
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2015-1155217-35
11 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.11.26 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-1155229-83
12 등록결정서
Decision to Grant Registration
2015.12.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0878495-36
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164254-26
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
포토 다이오드에 있어서,다공성 실리콘층 상에 형성된 단일층(single layer)의 그래핀을 포함하는 수직접합구조의 융복합 나노구조체; 및상기 융복합 나노구조체의 상하부에 각각 형성된 전극을 포함하고,상기 다공성 실리콘층은 다공성도(porosity)의 제어를 통하여 에너지 밴드 갭(energy band gap)이 조절되며, 상기 포토 다이오드는 화학적 식각(MACE, metal assisted chemical etching) 방식에서의 금속 촉매에 대한 증착 시간의 제어를 통하여 근자외선 영역에 대한 광반응도가 제어되는 것을 특징으로 하는 그래핀/다공성 실리콘 융복합 나노 구조체를 이용한 포토 다이오드
2 2
제1항에 있어서,상기 다공성 실리콘층은 실리콘 기판에 금속을 촉매로 하는 상기 화학적 식각 방식을 통하여 형성되는 것을 특징으로 하는 그래핀/다공성 실리콘 융복합 나노 구조체를 이용한 포토 다이오드
3 3
제1항에 있어서,상기 단일층의 그래핀은 촉매층을 탄소 함유 혼합가스와 반응시켜 상기 촉매층 상에 화학기상증착(CVD) 방식으로 증착되어 형성되고, 상기 융복합 나노구조체는 상기 형성된 단일층의 그래핀과 상기 다공성 실리콘층을 수직접합 공정을 통하여 형성되는 것을 특징으로 하는 그래핀/다공성 실리콘 융복합 나노 구조체를 이용한 포토 다이오드
4 4
제1항에 있어서,상기 포토 다이오드는 상기 다공성 실리콘층의 상기 다공성도(porosity)의 제어를 통하여 상기 융복합 나노구조체의 상기 에너지 밴드 갭이 조절되어, 벌크 실리콘에서보다 넓은 주파수 대역에서 높은 광효율을 가지는 것을 특징으로 하는 그래핀/다공성 실리콘 융복합 나노 구조체를 이용한 포토 다이오드
5 5
포토 다이오드 제조방법에 있어서,실리콘 기판에 금속을 촉매로 하는 화학적 식각(MACE, metal assisted chemical etching) 방식을 통하여 다공성 실리콘층을 형성시키는 단계;화학기상증착(CVD) 방식으로 형성된 단일층의 그래핀을 상기 다공성 실리콘층에 전사시켜 융복합 나노구조체를 형성시키는 단계; 및상기 융복합 나노구조체의 상하부에 각각 전극을 형성시키는 단계를 포함하고,상기 다공성 실리콘층은 다공성도(porosity)의 제어를 통하여 에너지 밴드 갭(energy band gap)이 조절되며, 상기 포토 다이오드는 상기 화학적 식각 방식에서의 금속 촉매에 대한 증착 시간의 제어를 통하여 근자외선 영역에 대한 광반응도가 제어되는 것을 특징으로 하는그래핀/다공성 실리콘 융복합 나노 구조체를 이용한 포토 다이오드 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 미래창조과학부 경희대학교 산학협력단 중견연구자 그래핀 기반 융복합 나노구조의 특성 및 소자 응용 연구