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cBN(cubic boron nitride) 분말, 코팅원소 및 활성제를 포함하는 분말 혼합물을 형성하는 단계; 및상기 혼합물을 불활성 분위기 또는 환원 분위기에서 가열함으로써 상기 cBN 분말 입자의 표면에 붕화물 및 질화물을 가지는 피복층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 코팅원소는 Al, Mn, Cr, Si, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo 및 W 로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이고,상기 활성제는 염화물, 불화물 및 요오드화물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN 입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 피복층을 형성하는 것은, 상기 코팅원소 및 활성제가 반응하여 생성된 기상의 코팅원소-활성제 화합물이, 상기 cBN 분말 입자의 표면과 반응함으로써 상기 cBN 분말 입자의 표면에 붕화물 및 질화물을 포함하는 피복층이 형성되는 것을 특징으로 하는, 기상-고상 반응을 통하여 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅원소 중 두 가지 이상으로 피복되는 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN 입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 가열 온도는 500℃ 내지 1200℃인 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 염화물로는 NaCl, KCl, LiCl, CaCl2, BaCl2 및 NH4Cl 로 이루어진 군 중에서 1종 이상을 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 불화물로는 NaF, KF, LiF, MgF2, CaF2, BaF2 및 NH4F 로 이루어진 군 중에서 1종 이상을 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 요오드화물로는 NaI, KI, LiI, MgI2, CaI2, BaI2 및 NH4I 로 이루어진 군 중에서 1종 이상을 선택하여 사용하는 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 코팅원소의 양은, 상기 cBN 분말 100 중량부 대비 0
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제1항에 있어서, 상기 활성제의 양은, 상기 코팅원소 분말 100 중량부 대비 1 내지 20중량부를 사용하는 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 가열 시간은 1분 내지 120분인 것을 특징으로 하는 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 제조하는 방법
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제1항 내지 제2항, 제4항 내지 제5항, 및 제7항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따라 제조된 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자
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제13항의 붕화물 및 질화물로 피복된 cBN입자를 포함하는 공구
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