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2차원 공정 모니터링 장치

  • 기술번호 : KST2016001164
  • 담당센터 : 서울서부기술혁신센터
  • 전화번호 : 02-6124-6930
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 2차원 공정 모니터링 장치를 제공한다. 이 장치는 탐침 기판, 탐침 기판의 일면에 이차원적으로 배열된 복수의 탐침 전극들, 탐침 기판을 관통하고 탐침 전극들과 연결되는 플러그들, 및 플러그들과 전기적으로 연결되고 탐침 기판의 타면에 배치된 내부 배선을 포함하고, 탐침 전극들은 플로팅되어, 탐침 전극들에 흐르는 전류는 변위 전류이다.플라즈마, 탐침 전극, 2차원 탐침 전극, 플로팅 탐침
Int. CL H01J 37/32 (2006.01.01) H01L 21/67 (2006.01.01)
CPC H01J 37/32935(2013.01) H01J 37/32935(2013.01)
출원번호/일자 1020090099099 (2009.10.19)
출원인 한양대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1564787-0000 (2015.10.26)
공개번호/일자 10-2011-0042430 (2011.04.27) 문서열기
공고번호/일자 (20151030) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.08.21)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정진욱 대한민국 서울시 송파구
2 장성호 대한민국 서울특별시 성동구
3 김영철 대한민국 경기도 남양주시

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유병욱 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로**길* 백년빌딩*층(세연특허법률사무소)
2 한승범 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로**길* (역삼동) 백년빌딩 *층(세연특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한양대학교 산학협력단 대한민국 서울특별시 성동구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2009-0636955-85
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.07 수리 (Accepted) 4-1-2013-5002879-79
3 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2013.01.07 수리 (Accepted) 1-1-2013-0013304-10
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.06.05 수리 (Accepted) 4-1-2014-5068294-39
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2014.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0791347-44
6 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.08.21 수리 (Accepted) 1-1-2014-0791348-90
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5022074-70
8 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2015.03.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
9 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2015.05.11 수리 (Accepted) 9-1-2015-0031369-11
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.05.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0329170-82
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2015-0695011-24
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.07.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0695010-89
13 등록결정서
Decision to grant
2015.10.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0719119-55
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.05 수리 (Accepted) 4-1-2019-5155816-75
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.06 수리 (Accepted) 4-1-2019-5156285-09
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
탐침 기판;상기 탐침 기판의 일면에 이차원적으로 배열된 복수의 탐침 전극들;상기 탐침 기판을 관통하고 상기 탐침 전극들과 연결되는 플러그들; 및상기 플러그들과 전기적으로 연결되고 상기 탐침 기판의 타면에 배치된 내부 배선을 포함하고,상기 탐침 전극들은 플로팅되어, 상기 탐침 전극들에 흐르는 전류는 변위 전류이며, 상기 탐침 전극들 상에 절연보호막이 배치되고, 상기 탐침 전극들에 인가되는 구동 전압은 적어도 2개의 기본 주파수를 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 공정 모니터링 장치
2 2
제 1 항에 있어서,상기 내부 배선들과 전기적으로 연결되고 상기 탐침 기판에 배치된 코넥터;상기 코넥터와 연결되고 상기 탐침 전극들에 적어도 하나의 기본 주파수를 가진 주기적인 구동 전압을 인가하는 구동부;상기 구동부와 상기 코넥터 사이에 배치되어 시간에 따라 상기 탐침 전극들 중에 어느 하나에 상기 구동 전압을 인가하는 아날로그 멀티플렉서;상기 구동부와 상기 아날로그 멀티플렉서 사이에 배치되어 상기 구동부를 통하여 흐르는 교류 전류를 감지하는 감지부; 및상기 감지부의 상기 교류 전류를 주파수 분석하여 상기 탐침 전극 상의 플라즈마 변수 또는 상기 탐침 전극의 표면 상태를 추출하는 신호 처리부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 공정 모니터링 장치
3 3
제 1 항에 있어서,상기 탐침 기판을 둘러싸고 있는 차폐부를 더 포함하고,상기 차폐부는 상기 탐침 전극들에 대응하는 관통홀들을 포함하고,상기 탐침 전극들은 상기 관통홀들과 정렬되어 배치되는 것을 특징으로 하는 2차원 공정 모니터링 장치
4 4
제 3 항에 있어서,상기 내부 배선들과 전기적으로 연결되고 상기 탐침 기판에 배치된 코넥터;상기 코넥터와 전기적으로 연결되고 진공 용기의 외부의 회로와 연결되는 외부 배선; 및상기 외부 배선을 감싸고 도전성의 차폐용 주름관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 공정 모니터링 장치
5 5
삭제
6 6
탐침 기판;상기 탐침 기판의 일면에 이차원적으로 배열된 복수의 탐침 전극들;상기 탐침 기판을 관통하고 상기 탐침 전극들과 연결되는 플러그들; 및상기 플러그들과 전기적으로 연결되고 상기 탐침 전극들과 상기 플러그들 사이에 배치된 내부 배선을 포함하고,상기 탐침 전극들은 플로팅되어, 상기 탐침 전극들에 흐르는 전류는 변위 전류이며, 상기 탐침 전극들 상에 절연보호막이 배치되고, 상기 탐침 전극들에 인가되는 구동 전압은 적어도 2개의 기본 주파수를 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 공정 모니터링 장치
7 7
제 6 항에 있어서,상기 플러그들과 전기적으로 연결되고 상기 탐침 기판의 타면에 배치된 연결 패드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 공정 모니터링 장치
8 8
제 7 항에 있어서,상기 탐침 기판은 기판 홀더에 장착되고,상기 연결 패드는 상기 기판 홀더에 배치된 연결핀과 전기적으로 접촉하여 교류 전압을 상기 탐침 전극들에 제공하는 것을 특징으로 하는 2차원 공정 모니터링 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.