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공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며 저압 플라즈마를 생성하여 상기 공정 챔버에서 배출되는 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기에 있어서,내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하는 유전체;상기 유전체의 양단에 각각 연결되는 제1 접지 전극과 제2 접지 전극; 및상기 유전체의 외주면에 고정되고 교류 전원부와 연결되어 교류 구동 전압을 인가받는 구동 전극을 포함하며,상기 제1 접지 전극 및 상기 제2 접지 전극 중 하나는,상기 플라즈마 반응기의 길이 방향을 따라 비균일 직경을 가지는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제1항에 있어서,상기 구동 전극과 상기 제1 접지 전극 사이의 제1 거리는,상기 구동 전극과 상기 제2 접지 전극 사이의 제2 거리보다 크게 설정되는오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제2항에 있어서,상기 유전체는 상기 플라즈마 반응기의 중앙에 배치되고,상기 제1 접지 전극은 상기 공정 챔버를 향한 상기 유전체의 전단에 연결되며,상기 제2 접지 전극은 상기 진공 펌프를 향한 상기 유전체의 후단에 연결되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 제1 접지 전극은,상기 유전체의 전단에 고정되고 상기 유전체와 동일 직경으로 형성되며,상기 제2 접지 전극은,상기 유전체의 후단에 고정되며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 축소되는 가변 직경부, 및상기 가변 직경부에 연결되며 상기 유전체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제4항에 있어서,상기 구동 전극은 상기 유전체의 외주면에 고리 모양으로 배치되는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제3항에 있어서,상기 제1 접지 전극은,상기 유전체의 전단에 고정되고 상기 유전체와 동일 직경으로 형성되며,상기 제2 접지 전극은,상기 유전체의 후단에 고정되고 상기 유전체와 동일 직경으로 형성되는 대경부, 및상기 대경부에 연결되어 상기 대경부보다 작은 직경을 가진 소경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제6항에 있어서,상기 제2 거리는 상기 구동 전극과 상기 제2 접지 전극의 상기 대경부 사이에 설정되는오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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공정 챔버와 진공 펌프 사이에 위치하며 저압 플라즈마를 생성하여 상기 공정 챔버에서 배출되는 오염 물질을 제거하는 플라즈마 반응기에 있어서,내부에 플라즈마 생성 공간을 형성하는 유전체;오염 물질이 유입 및 배출되는 상기 유전체의 양단에 각각 연결되는 제1 접지 전극과 제2 접지 전극; 및상기 유전체의 외주면에 고정되고 교류 전원부와 연결되어 교류 구동 전압을 인가받는 구동 전극을 포함하며,상기 제2 접지 전극은,상기 플라즈마 반응기의 길이 방향을 따라 비균일 직경을 가지며,상기 구동 전극과 상기 제1 접지 전극 사이의 제1 거리는,상기 구동 전극과 상기 제2 접지 전극 사이의 제2 거리보다 크게 설정되는오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 제1 접지 전극은,상기 유전체의 전단에 고정되고 상기 유전체와 동일 직경으로 형성되며,상기 제2 접지 전극은,상기 유전체의 후단에 고정되며 오염 물질의 흐름 방향을 따라 직경이 점진적으로 축소되는 가변 직경부, 및상기 가변 직경부에 연결되며 상기 유전체보다 작은 직경을 가진 균일 직경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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제8항에 있어서,상기 제1 접지 전극은,상기 유전체의 전단에 고정되고 상기 유전체와 동일 직경으로 형성되며,상기 제2 접지 전극은,상기 유전체의 후단에 고정되고 상기 유전체와 동일 직경으로 형성되는 대경부, 및상기 대경부에 연결되어 상기 대경부보다 작은 직경을 가진 소경부를 포함하는 오염 물질 제거용 플라즈마 반응기
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