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플라즈마 아크를 발생시켜 토출하는 플라즈마 발생기; 및상기 플라즈마 발생기의 토출 측에서 토출되는 플라즈마 아크를 향하여 과불화합물과 파우더를 포함하는 공정가스 또는 고농도의 휘발성유기화합물(VOC)을 포함하는 처리기체를 공급하여 화염을 형성하는 반응기를 포함하며,상기 반응기는,상기 플라즈마 발생기의 토출 측에 확장 연결되고 일측으로 공정가스 또는 처리기체를 유입하는 연소실 벽체,상기 연소실 벽체의 외측에 배치되어 제1가스 공급구를 통하여 공정가스 또는 처리기체를 상기 연소실 벽체의 내부로 공급하는 공정가스 외측 챔버, 및상기 공정가스 외측 챔버에 대응하여 상기 연소실 벽체의 내측에 배치되어 제2가스 공급구로 공정가스 또는 처리기체를 상기 플라즈마 아크에 공급하는 반응대를 포함하는 스크러버
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제1항에 있어서,상기 플라즈마 발생기는,하우징에 삽입되고 전원에 연결되는 전극, 및상기 하우징에 연결되고 접지되어 상기 전극과의 사이에 방전갭을 형성하고 플라즈마 아크를 토출하도록 좁은 통로로 형성되는 목을 포함하는 스크러버
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제1항에 있어서,상기 제1가스 공급구는 상기 연소실 벽체에 형성되고,상기 제1가스 공급구의 유입 방향은,상기 연소실 벽체의 접선 방향에 대하여 제1각도로 설정되는 스크러버
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제3항에 있어서,상기 제1가스 공급구는,복수로 구비되어 상기 연소실 벽체의 원주를 따라 등간격으로 배치되는 스크러버
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제1항에 있어서,상기 제2가스 공급구는 상기 반응대에 형성되고,상기 반응대는,상기 플라즈마 발생기의 인접측에서 제1직경으로 설정되고,상기 플라즈마 발생기의 반대측에서 상기 제1직경보다 큰 제2직경으로 설정되고 상기 연소실 벽체의 내경에 대응하는 스크러버
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제5항에 있어서,상기 제2가스 공급구는,복수로 구비되어 상기 반응대의 원주를 따라 등간격으로 배치되는 스크러버
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제6항에 있어서,상기 제2가스 공급구는,상기 반응대에서 부분적으로 타발되고 절곡되어 상기 제2가스 공급구의 개구량과 개구 방향으로 설정하는 플랩을 구비하는 스크러버
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제7항에 있어서,상기 플랩은,상기 반응대의 원주 접선 방향에 대하여 제21각도로 절곡 설정되는 스크러버
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제7항에 있어서,상기 제2가스 공급구의 유입 방향은상기 반응대의 상기 제2직경으로 설정되는 평면에 제22각도로 설정되는 스크러버
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제1항에 있어서,상기 연소실 벽체는상기 반응대의 반대측에서 좁아지는 최종 토출구를 형성하는 스크러버
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삭제
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제1항에 있어서,상기 반응기는 화염이 형성되는 내부에 구비되어 공정가스 또는 처리기체에 촉매산화 가능 물질을 산화 촉진시키는 촉매를 더 포함하는 스크러버
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