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탄소 재질로 형성되는 판상의 탄소 기판을 준비하는 탄소 기판 준비 단계와,상기 탄소 기판의 상면에 산화막 또는 질화막을 증착하여 배리어막을 형성하는 배리어막 형성 단계와,상기 배리어막의 상부에 전기 전도성 물질을 코팅하여 후면 전극을 형성하는 후면 전극 형성 단계와,상기 후면 전극의 상부에 제 1 도전형 실리콘층을 형성하는 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계와,상기 제 1 도전형 실리콘층의 상부에 제 2 도전형 실리콘층을 형성하는 제 2 도전형 실리콘층 형성 단계와, 상기 제 2 도전형 실리콘층의 상면에 전면 투명 전도막을 형성하는 전면 투명 전도막 형성 단계 및상기 투명 전도막의 상면에 상기 제 2 도전형 실리콘층과 전기적으로 연결되는 전면 전극을 형성하는 전면 전극 형성 단계를 포함하며,상기 배리어막 형성 단계 후에,상기 배리어막의 상면에 투명 전도막을 형성하는 투명 전도막 형성 단계를 더 포함하며,상기 투명 전도막은 ITO(Indium Tin Oxide), AZO(Aluminium-doped Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)로 형성되며,상기 투명 전도막은 적어도 100nm의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 후면 전극 형성 단계 후에,상기 후면 전극의 상면에 중간 투명 전도막을 형성하는 중간 투명 전도막 형성 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 3 항에 있어서,상기 중간 투명 전도막은 ITO(Indium Tin Oxide), AZO(Aluminium-doped Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)로 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전형 실리콘층과 P형 또는 N형 실리콘층이며, 상기 제 2 도전형 실리콘층은 N형 또는 P형 실리콘층인 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 제 1 도전형 실리콘층 형성 단계후에,상기 제 1 도전형 실리콘층의 상면에 진성 실리콘층을 형성하는 진성 실리콘층 형성 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 배리어막은 SiOx, SiNx 또는 SiON막으로 형성되며, 단일층 또는 적어도 2개의 층으로 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 배리어막은 적어도 400nm의 두께를 가지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지의 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 전면 투명 전도막은 ITO(Indium Tin Oxide), AZO(Aluminium-doped Zinc Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)로 형성되는 것을 특징으로 하는 탄소 기판을 이용한 태양 전지 제조 방법
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