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a) 희생층이 형성된 반도체 기판에 광활성층을 형성하는 단계;b) 상기 광활성층 상부에 제1전면전극을 형성하고 상기 제1전면전극 상부에 제1투명기판을 부착하여 광활성층-전극 복합체를 제조하는 단계;c) 상기 희생층을 제거하여, 상기 광활성층-전극 복합체를 상기 반도체 기판으로부터 분리하는 단계; 및d) 상기 광활성층-전극 복합체의 제1투명기판과 대향하는 대향면에 제2전면전극을 형성하고 상기 제2전면전극 상부에 제2투명기판을 부착하는 단계;를 포함하되,상기 a) 단계는 상기 반도체 기판에 제1 밴드갭 에너지를 갖는 제1광활성층을 형성하는 단계;상기 제1광활성층 상부에 제2 밴드갭 에너지를 갖는 제2광활성층을 형성하는 단계; 상기 제2광활성층 상부에 제3 밴드갭 에너지를 갖는 제3광활성층을 형성하는 단계;상기 제3광활성층 상부에 제2 밴드갭 에너지를 갖는 제4광활성층을 형성하는 단계; 및상기 제4광활성층 상부에 제1 밴드갭 에너지를 갖는 제5광활성층을 형성하는 단계;를 포함하며,상기 제1 내지 제3 밴드갭 에너지 중, 상기 제3 밴드갭 에너지가 상대적으로 가장 작은 밴드갭을 가지며, 상기 제1 밴드갭 에너지가 상기 제2 밴드갭 에너지보다 큰 밴드갭을 갖는 양면수광형 태양전지 셀의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 a) 단계는상기 반도체 기판에 제1도전형 불순물로 도핑된 제1도전형불순물층을 형성하는 단계; 및 상기 반도체 기판에 상기 제1도전형 불순물에 대해 상보적인 불순물인 제2도전형 불순물로 도핑된 제2도전형불순물층을 형성하는 단계;를 포함하는 양면수광형 태양전지 셀의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 a) 단계 후 및 b) 단계 전, 상기 a) 단계의 광활성층을 부분식각하여, 상기 제3광활성층의 일부를 표면으로 노출시키는 단계; 및상기 표면 노출된 제3광활성층 영역에 공통전극을 형성하는 단계;를 더 포함하는 양면수광형 태양전지 셀의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 a) 단계는 반도체 기판에 희생층을 형성하는 단계; 및상기 희생층 상부에 광활성층을 형성하는 단계;를 단위 공정으로 하여,상기 단위 공정이 2회 이상 반복 수행되는 양면수광형 태양전지 셀의 제조방법
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제 5항에 있어서,상기 단위 공정의 반복에 의해 형성된 광활성층 별로 상기 b) 단계가 수행되며, 상기 단위 공정의 반복에 의해 형성된 희생층 별로 상기 c) 단계가 수행되는 양면수광형 태양전지 셀의 제조방법
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제 1항 내지 제 2항 및 제 4항 내지 제 6항에서 선택된 어느 한 항의 제조방법으로 제조되어, 제1투명기판, 제1전면전극, 광활성층, 제2전면전극 및 제2투명기판이 순차적으로 적층되고, 상기 제1투명기판 및 상기 제2투명기판을 통해 상기 광활성층으로 광이 입사되며,상기 광활성층은 적어도 제1광활성층, 제2광활성층, 제3광활성층, 제4광활성층 및 제5광활성층이 적층된 탠덤구조를 가지며, 상기 제1 내지 제5광활성층의 밴드갭 에너지는 하기 식 1, 식 2 및 식 3을 만족하는 양면 수광형 태양전지 셀
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삭제
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제 7항에 있어서,상기 양면 수광형 태양전지 셀은 상기 제3광활성층과 접속하는 공통전극을 더 포함하는 양면 수광형 태양전지 셀
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제 9항에 있어서,상기 양면 수광형 태양전지 셀은 상기 제1투명기판을 통해 입사된 광은 상기 제1광활성층에서 제5광활성층으로 유입되며, 상기 제2투명기판을 통해 입사된 광은 상기 제5광활성층에서 제1광활성층으로 유입되어, 상기 제1투명기판 및 제2투명기판을 통해 입사된 광을 제1광활성층 내지 제5광활성층 모두에서 흡수하는 양면 수광형 태양전지 셀
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제 7항에 있어서,상기 양면 수광형 태양전지 셀은 제n광활성층(1≤n≤4인 자연수)과 제n+1광활성층(1≤n≤4인 자연수)사이에 터널접합층이 더 구비되는 양면 수광형 태양전지 셀
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제 7항에 있어서,상기 광활성층은 양자점을 함유하는 양면 수광형 태양전지 셀
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