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기판 상에 그라파이트 층을 형성하고,상기 그라파이트 층 상에 지지 층을 형성하고,상기 기판을 제거하고,상기 그라파이트 층 및 상기 지지 층의 스택을 프레임 상에 전사하고, 및상기 지지 층을 제거하는 것을 포함하는 펠리클 제조하는 방법
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제1항에 있어서, 상기 지지 층은 PMMA (polymethylmetacrylate)를 포함하는 펠리클 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 그라파이트 층을 형성하는 것은: 챔버 내의 스테이지 상에 상기 기판을 로딩하고, 및CVD 공정을 수행하는 것을 포함하고,상기 CVD 공정은:메탄(CH4) 또는 에탄(C2H6) 중 적어도 하나를 포함하는 전구체를 이용하고, 및상기 기판 및 상기 전구체를 가열 램프를 이용 하여 2분 내에 상온으로부터 1,000℃까지 온도를 상승시키는 것을 포함하는 펠리클 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 기판을 제거하는 것은:FeCl3 또는 CAN(ceric ammunium nitrate), 및 물을 포함하는 금속 식각액 내에 상기 그라파이트 층 및 상기 지지 층이 형성된 상기 기판을 담그는 것을 포함하는 펠리클 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 그라파이트 층 및 상기 지지 층의 스택을 상기 프레임 상에 전사하는 것은:물을 포함하는 용액 상에 상기 스택을 띄우고, 및상기 용매의 내부로부터 표면으로 상기 프레임을 상기 스택과 수직하게 상승시키는 것을 포함하는 펠리클 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 그라파이트 층과 상기 프레임이 직접적으로 접착되는 펠리클 제조 방법
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제1 기판 상에 제1 지지 층을 형성하고,제2 기판 상에 그라파이트 층을 형성하고,상기 제1 기판 및 상기 2 기판을 각각 제거하여 상기 제1 지지 층, 및 상기 그라파이트 층을 상기 제1 기판 및 상기 제2 기판으로부터 각각 분리하고,프레임 상에 상기 제1 지지 층을 전사하고,상기 프레임 상에 전사된 상기 제1 지지 층 상에 상기 그라파이트 층을 전사하고, 및상기 프레임의 개구부 내에 노출된 상기 제1 지지 층을 부분적으로 제거하는 것을 포함하는 펠리클 제조하는 방법
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제7항에 있어서,상기 제1 지지 층과 상기 프레임이 직접적으로 접착되고, 및상기 프레임과 접착된 상기 제1 지지 층의 일부는 제거되지 않는 펠리클 제조 방법
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제7항에 있어서,상기 제2 기판 상의 상기 그라파이트 층 상에 제2 지지 층을 형성하고, 및상기 제2 지지 층을 제거하는 것을 더 포함하고,상기 제1 지지 층의 상기 일부를 제거하는 것과 상기 제2 지지 층을 제거하는 것은 각각 독립적으로 수행되는 펠리클 제조 방법
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제1 기판 상에 제1 지지 층을 형성하고,제2 기판 상에 그라파이트 층을 형성하고,상기 제2 기판 상의 그라파이트 층 상에 제2 지지 층을 형성하고,상기 제1 기판으로부터 상기 제1 지지 층을 분리하고,상기 제2 기판으로부터 상기 그라파이트 층 및 상기 제2 지지 층의 스택을 분리하고,프레임 상에 상기 제1 지지 층을 전사하고,상기 프레임 상의 상기 제1 지지 층 상에 상기 그라파이트 층 및 상기 제2 지지 층의 스택을 전사하고, 및상기 제1 지지 층의 일부 및 상기 제2 지지 층을 제거하는 것을 포함하는 펠리클 제조 방법
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