1 |
1
구 형상의 코어(core); 및상기 코어를 둘러싸도록 형성되는 것으로, 그래핀을 포함하는 그래핀 셸(graphene shell)을 포함하며, 상기 코어는 구 형상의 제1 코어와 상기 코어를 둘러싸는 제2 코어를 포함하며, 상기 제1 코어는 절연체 또는 금속을 포함하며, 상기 제2 코어는 게르마늄(Ge)을 포함하는 그래핀 볼 구조체
|
2 |
2
삭제
|
3 |
3
제 1 항에 있어서,상기 코어는 1nm ~ 10㎛ 의 직경을 가지는 그래핀 볼 구조체
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
삭제
|
6 |
6
삭제
|
7 |
7
다수의 제 1 항 또는 제 3 항에 기재된 그래핀 볼 구조체가 서로 결합하여 형성된 그래핀 볼 네트워크(graphene ball network)
|
8 |
8
반도체 물질을 포함하는 구 형상의 코어와, 상기 코어를 둘러싸도록 형성되는 것으로 그래핀을 포함하는 그래핀 셸을 포함하는 그래핀 볼 구조체를 제조하는 방법에 있어서,반도체 물질을 포함하는 가스와 탄소를 포함하는 가스를 이용한 화학기상증착법(CVD)에 의해 상기 그래핀 볼 구조체를 합성하며, 상기 코어는 게르마늄(Ge)를 포함하며, 상기 반도체 물질을 포함하는 가스는 GeH4를 포함하는 그래핀 볼 구조체의 제조방법
|
9 |
9
제 8 항에 있어서, 상기 반도체 물질을 포함하는 가스와 상기 탄소를 포함하는 가스를 반응챔버 내에 흘려주는 단계; 및상기 반도체 물질을 포함하는 코어가 구 형상으로 형성되고, 상기 코어의 외면 상에 그래핀이 성장하여 상기 그래핀 셸이 형성되는 단계;를 포함하는 그래핀 볼 구조체의 제조방법
|
10 |
10
삭제
|
11 |
11
제 9 항에 있어서,상기 코어는 1nm ~ 10㎛ 의 직경을 가지도록 형성되는 그래핀 볼 구조체의 제조방법
|
12 |
12
제 9 항에 있어서,상기 그래핀 셸은 하나 이상의 층 구조를 가지도록 형성되는 그래핀 볼 구조체의 제조방법
|
13 |
13
제 9 항에 있어서,상기 그래핀 셸을 형성한 다음, 상기 코어를 제거하는 단계를 더 포함하는 그래핀 볼 구조체의 제조방법
|
14 |
14
제 9 항에 있어서,상기 탄소를 포함하는 가스는 CH4를 포함하는 그래핀 볼 구조체의 제조방법
|
15 |
15
제 9 항에 있어서,상기 반응챔버 내는 200 ~ 900℃의 온도로 유지되는 그래핀 볼 구조체의 제조방법
|
16 |
16
제 9 항에 있어서,상기 반응챔버 내는 0
|