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식각, 증착, 및 세정 중 적어도 하나의 작업이 이루어지는 공정 챔버(10);진공 배관(20)을 통해 상기 공정 챔버(10)와 연결되어 상기 공정 챔버(10)에서 사용된 공정 가스를 배출시키는 진공 펌프(30);상기 진공 배관(20)에 설치되며, 압력 감지를 위한 제1 센서(42)와, 기체 성분 감지를 위한 제2 센서(42)와, 상기 제1 센서(41) 및 상기 제2 센서(42)의 하류에 위치하는 압력 조절용 밸브(43)를 포함하는 진공 부품들(40); 및상기 진공 배관(20) 중 상기 공정 챔버(10)와 상기 진공 부품들(40) 사이에 설치되고, 상기 진공 배관(20)의 내부로 플라즈마 제트(51)를 분사하여 상기 공정 챔버(10)에서 배출되는 입자 부산물을 세정하는 아크 플라즈마 반응기(50)를 포함하는 저압 공정 설비
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제1항에 있어서,상기 아크 플라즈마 반응기(50)는,내부에 반응 공간(52)을 형성하며 상기 진공 배관(20)에 연결되는 접지 전극(53);상기 반응 공간(52)에 노출된 뾰족한 선단부(541)를 구비하는 구동 전극(54);상기 구동 전극(54)에 연결되며 수십 kHz 주파수의 교류 전원 또는 직류 전원으로 구성되는 전원부(55); 및상기 구동 전극(54)과 상기 접지 전극(53)을 절연시키며, 상기 선단부(541)의 상류에 가스 주입구(56, 561)를 형성하는 절연체를 포함하는 저압 공정 설비
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제3항에 있어서,상기 반응 공간(52)은 상기 진공 배관(20)의 내부와 바로 이어지는 제1 공간(52a)과, 제1 공간(52a)보다 큰 직경으로 형성되며 상기 선단부(541)를 둘러싸는 제2 공간(52b)을 포함하고,상기 절연체(57)는 상기 선단부(541)를 제외한 상기 구동 전극(54)의 표면을 덮는 제1 절연체(571) 및 제2 절연체(572)를 포함하는 저압 공정 설비
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제4항에 있어서,상기 제1 절연체(571)는 상기 제2 절연체(572)보다 상기 선단부(541)에 가깝게 위치하고, 상기 제2 공간(52b)에서 상기 접지 전극(53)에 둘러싸이며, 세라믹으로 제조되는 저압 공정 설비
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제4항에 있어서,상기 절연체(57)는 상기 제2 절연체(572)를 둘러싸면서 상기 제2 절연체(572)와의 사이에 상기 제2 공간(52b)과 이어지는 제3 공간(52c)을 형성하는 제3 절연체(573)를 포함하고,상기 가스 주입구(56, 561)는 상기 제3 절연체(573)에 형성되어 상기 제3 공간(52c)과 이어지는 저압 공정 설비
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제6항에 있어서,상기 가스 주입구(56)는 가스 공급부(58)와 연결되어 가스 공급부(58)로부터 방전 가스와 세정 가스의 혼합물을 제공받는 저압 공정 설비
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제6항에 있어서,상기 제3 절연체(573)에 형성된 가스 주입구(561)는 방전 가스 주입을 위한 제1 주입구이고, 상기 접지 전극(53)은 상기 선단부(541)의 하류에 세정 가스 주입을 위한 제2 주입구(562)를 형성하며,상기 제1 주입구(561)와 상기 제2 주입구(562)는 가스 공급부(58)와 연결되어 가스 공급부(58)로부터 방전 가스와 세정 가스를 각각 제공받는 저압 공정 설비
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