1 |
1
일 방향으로 연장형성되어 폭발성 배기가스가 유입 및 배출되는 하전용 챔버;상기 하전용 챔버와 연통되도록 설치되는 연통배관과, 상기 연통배관의 외측 단부에 설치되어 이온을 생성하도록 고전압이 인가되는 방전부를 포함하여, 상기 하전용 챔버 내부의 폭발성 배기가스가 하전되도록 생성한 이온을 상기 연통배관을 통해 상기 하전용 챔버로 주입시키는 이온주입부;상기 하전용 챔버의 내부 일 측에 길이방향을 따라 설치되는 고전압 인가판;상기 하전용 챔버의 내부에 상기 고전압 인가판과 마주보도록 설치되며, 상기 고전압 인가판에 고전압 인가시, 상기 고전압 인가판과의 사이에 상기 하전용 챔버의 길이방향과 교차하는 방향으로 전기장이 형성되어 상기 이온주입부의 이온에 의해 하전된 폭발성 배기가스 입자가 상기 전기장을 따라 이동하여 포집되는 이온포집판; 및,상기 하전용 챔버에서 하전된 배기가스가 유입되어 포집되는 정전집진부;를 포함하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
2 |
2
제 1항에 있어서,상기 이온주입부는 상기 하전용 챔버 외부에 배치되며, 상기 하전용 챔버의 내부와 연통되는 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
3 |
3
제 2항에 있어서,상기 이온주입부는,상기 방전부와 인접하여 외부로부터 이송유체를 유입하도록 설치되어 상기 방전부에 의해 생성되는 이온을 상기 연통배관을 따라 상기 하전용 챔버로 주입되도록 하는 유체유입부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
4 |
4
제 1항에 있어서,상기 이온주입부는 상기 연통배관 내부에 장착되어 상기 연통배관 내벽과의 사이에서 슬릿을 형성하는 슬릿형성부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
5 |
5
제 1항에 있어서,상기 연통배관은 상기 고전압 인가판에 관통결합되는 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
6 |
6
제 5항에 있어서,상기 방전부와 상기 연통배관의 외측 단부 사이에는 절연부재가 설치되는 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
7 |
7
제 1항에 있어서,상기 정전집진부는 상기 하전용 챔버로부터 단극 하전된 배기가스 입자를 전달받는 집진용 챔버와, 상기 집진용 챔버 내부에 설치되어 고전압이 인가되어 방전되는 방전판과, 상기 방전판과 이격배치되어 상기 단극 하전된 배기가스 입자가 포진되는 포집판을 포함하는 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
8 |
8
제 7항에 있어서,상기 방전판은 다수 개로 마련되어 이격배열되며, 상기 포집판은 다수 개로마련되어 상기 방전판과 교번되어 위치하도록 배열되고, 이웃하는 방전판과 포집판은 적어도 일부가 상호 대향되도록 설치되는 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
9 |
9
제1항에 있어서,상기 이온주입부는 상기 하전용 챔버의 길이방향을 따라 복수 개가 이격설치되며, 상기 이온주입부의 방전부와 상기 이온포집판 간의 거리는 상기 방전부 간의 거리보다 작은 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
10 |
10
제1항에 있어서,상기 이온주입부에서 생성되는 이온의 극성과 상기 고전압 인가판에 인가되는 고전압의 극성은 동일한 것을 특징으로 하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
11 |
11
제10항에 있어서,상기 이온주입부에서 생성되는 이온은 하전용 챔버 내부로 주입시, 상기 이온에 의해 단극 하전된 폭발성 배기가스 입자는 상기 고전압 인가판과의 척력과 상기 이온포집판과의 인력에 의해 상기 이온포집판으로 이동하여 포집되고, 포집되지 않은 나머지 단극 하전된 폭발성 배기가스 입자는 상기 정전집진부로 배출되어 포집되는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 장치
|
12 |
12
일 방향으로 연장형성된 하전용 챔버 내부에 상기 하전용 챔버의 길이방향과 교차하는 방향으로 이격배치되는 고전압 인가판과 이온포집판 사이에 전기장이 형성되도록 고전압을 인가하는 단계;하전용 챔버의 외부로부터 고전압 방전에 의해 이온을 생성하여 상기 하전용 챔버 내부로 주입하는 이온주입부를 통해 하전용 챔버 내부의 폭발성 배기가스 입자를 하전시키고, 하전된 폭발성 배기가스 입자는 상기 고전압 인가판과 상기 이온포집판 사이에 형성된 전기장을 따라 이동하여 상기 이온포집판에 포집되는 단계; 및,정전집진부의 집진용 챔버에 상기 이온포집판에 포집되지 않은 나머지 폭발성 배기가스가 유입되고, 유입된 폭발성 배기가스 입자는 고전압이 인가되는 상기 집진용 챔버 내의 방전판과 상기 방전판과 이격배치되는 포집판 사이에 형성된 전기장을 따라 이동하여 상기 포집판에 포집되는 단계;를 포함하는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 방법
|
13 |
13
제12항에 있어서,상기 고전압 인가판에 인가하는 고전압의 극성은 상기 이온주입부에서 생성하는 이온의 극성과 동일한 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 방법
|
14 |
14
제13항에 있어서,상기 이온주입부에서 생성되는 이온은 하전용 챔버 내부로 주입시, 상기 이온에 의해 단극 하전된 폭발성 배기가스 입자는 상기 고전압 인가판과의 척력과 상기 이온포집판과의 인력에 의해 상기 이온포집판으로 이동하여 포집되고, 포집되지 않은 나머지 단극 하전된 폭발성 입자는 상기 정전집진부로 배출되어 포집되는 폭발성 배기가스 입자의 정전 제거 방법
|