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2차원 고분자 광도파로 제작 방법

  • 기술번호 : KST2017003739
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 단일의 임프린트 원형 마스터(original master)를 사용하여 단순화된 공정으로 2차원 광도파로를 제조할 수 있도록 한 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법에 관한 것으로, 단일의 원형 마스터를 이용하여 열가소성 고분자 쉬트에 1차 핫엠보싱 공정으로 패턴을 복제하는 단계;상기 복제된 패턴의 표면에 버퍼층을 형성하는 단계;상기 버퍼층이 형성되지 않은 반대면에 상기 원형 마스터를 이용한 2차 핫엠보싱 공정으로 클레드용 패턴이 존재하는 고분자 금형을 제작하는 단계;상기 고분자 금형을 탄성체 물질로 몰딩하여 패턴을 복제하고 탄성체 물질을 상하로 분리하여 상부 탄성체 금형과 하부 탄성체 금형을 형성하는 단계;상기 상하부 탄성체 금형을 이용하여 중간 클레드를 형성하고 중간 클레드 상하부의 패턴에 코어 레진을 충진하고 상,하부 클레드를 적층한후 경화 공정을 진행하여 2차원 광도파로를 형성하는 단계;를 포함한다.
Int. CL G02B 6/13 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100048077 (2010.05.24)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-1114469-0000 (2012.02.02)
공개번호/일자 10-2011-0128560 (2011.11.30) 문서열기
공고번호/일자 (20120224) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.05.24)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류진화 대한민국 울산광역시 남구
2 오승훈 대한민국 부산광역시 남구
3 이태호 대한민국 부산광역시 남구
4 조상욱 대한민국 경상남도 함양군
5 김창석 대한민국 부산광역시 남구
6 정명영 대한민국 부산광역시 금정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정기택 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)
2 오위환 대한민국 서울특별시 서초구 강남대로**길 **, *층 (반포동, 새로나빌딩)(스카이특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 부산광역시 금정구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.05.24 수리 (Accepted) 1-1-2010-0329376-50
2 [대리인해임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Dismissal of Sub-agent] Report on Agent (Representative)		 2011.06.14 수리 (Accepted) 1-1-2011-0449977-06
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2011.06.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2011.07.15 수리 (Accepted) 9-1-2011-0060909-08
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2011.07.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0409787-47
6 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2011.09.26 수리 (Accepted) 1-1-2011-0748264-41
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.09.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0757622-05
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2011.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-0757621-59
9 등록결정서
Decision to grant		 2011.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0702855-05
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
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번호 청구항
1 1
단일의 원형 마스터를 이용하여 열가소성 고분자 쉬트에 1차 핫엠보싱 공정으로 패턴을 복제하는 단계;상기 복제된 패턴의 표면에 버퍼층을 형성하는 단계;상기 버퍼층이 형성되지 않은 반대면에 상기 원형 마스터를 이용한 2차 핫엠보싱 공정으로 클레드용 패턴이 존재하는 고분자 금형을 제작하는 단계;상기 고분자 금형을 탄성체 물질로 몰딩하여 패턴을 복제하고 탄성체 물질을 상하로 분리하여 상부 탄성체 금형과 하부 탄성체 금형을 형성하는 단계;상기 상하부 탄성체 금형을 이용하여 중간 클레드를 형성하고 중간 클레드 상하부의 패턴에 코어 레진을 충진하고 상,하부 클레드를 적층한후 경화 공정을 진행하여 2차원 광도파로를 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 1차 핫엠보싱 공정으로 패턴을 복제하는 단계는,상기 원형 마스터와 열가소성 고분자인 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl Methacrylate;PMMA)쉬트를 사용하여 1차 핫엠보싱 공정을 진행하여 고분자 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 버퍼층을 형성하는 단계에서,핫엠보싱 공정에 의하여 복제된 패턴의 변형을 제어하기 위하여 복제된 패턴의 표면위에 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane;PDMS) 금형을 적층하여 버퍼층으로 사용하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 금형을 제작하는 단계는,상기 버퍼층이 존재하지 않는 폴리메틸 메타크릴레이트(polymethyl Methacrylate;PMMA) 쉬트 면에 원형 마스터에 의한 2차 핫엠보싱 공정을 진행하고,이 단계에서 원형 마스터 내부에 존재하는 정렬키와 1차 핫엠보싱 공정으로 복제된 패턴 내부에 존재하는 정렬키를 일치시켜 층간 위치 정밀도를 제어하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 상부 탄성체 금형과 하부 탄성체 금형을 형성하는 단계는,상기 고분자 금형을 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane;PDMS)으로 몰딩하여 탄성체 금형을 형성하는 공정과,상기 탄성체 금형 내부의 고분자 금형이 존재하는 영역에서 상부의 영역만 절단하고 절단된 탄성체 금형 부분을 또 다른 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane;PDMS) 쉬트 또는 글래스 플레이트(glass plate)에 부착하여 상부 탄성체 금형을 형성하는 공정과,남아있는 하부의 탄성체 금형에서 고분자 금형을 분리하여 하부 탄성체 금형을 형성하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
6 6
제 5 항에 있어서, 상기 탄성체 금형을 절단하여 만들어진 상부 탄성체 금형 및 하부 탄성체 금형 사이에 자외선 경화 수지를 충진하고 경화시켜 만들어진 고분자 패턴을 중간 클레드로 사용하는 것에 의해,탄성체 금형의 형성 공정시에 결정된 탄성체 금형의 윗면과 아랫면의 두께가 최종적인 2차원 광도파로의 중간 클레드 두께를 좌우하게 되는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 중간 클레드를 형성하는 공정은,상기 하부 탄성체 금형의 캐비티(cavity) 내부에 자외선 경화 수지를 충진하고 상부 탄성체 금형으로 덮어 접합시키는 공정과,상기 상부 탄성체 금형과 하부 탄성체 금형이 접합된 상황에서 자외선 노광하는 공정과,상기 노광 공정으로 액체 상태의 자외선 경화 수지가 고체 상태로 경화되면 상,하부 탄성체 금형과 분리하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 2차원 광도파로를 형성하는 공정은,상기 중간 클레드의 양쪽 면의 각각의 코어 영역부에 중간 클레드보다 고굴절율의 자외선 경화 수지를 충진하고,상하부 각각에 중간 클레드와 동일한 굴절율을 가지는 상,하부 클레드를 적층한후 경화 공정을 진행하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 금형을 2차원 고분자 광도파로 제작을 위한 중간 클레드로 직접 사용하여,상기 고분자 금형의 양쪽면의 코어 채널 내부에 코어 레진의 충진 공정을 진행하고 상부 하부 클레드를 적층하여 2차원 고분자 광도파로를 형성하는 것을 특징으로 하는 2차원 고분자 광도파로의 제조 방법
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8 US9278490 US 미국 DOCDBFAMILY
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1 지식경제부 한국광기술원 차세대신기술개발사업 고온,고신뢰성 다채널 광도파로 기술 개발