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다층 고분자 광회로의 제작 방법

  • 기술번호 : KST2015172337
  • 담당센터 : 부산기술혁신센터
  • 전화번호 : 051-606-6561
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 다층 고분자 광회로의 제작 방법에 관한 것으로서, 핫 엠보싱 공정을 이용하여 하부 클래드를 제작하는 제1단계와, 상기 핫 엠보싱 공정에 의해 중간 클래드를 제작하는 제2단계와, 소프트 리소그래피 공정을 이용하여 상기 중간 클래드의 후면에 코어를 형성시키는 제3단계와, 상기 제3단계에 의해 코어가 형성된 중간 클래드의 후면과 상기 하부 클래드의 전면을 정합시키는 제4단계와, 상기 하부 클래드와 정합된 상기 중간 클래드의 후면에 상부 클래드를 정합하는 제5단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다. 상기와 같이 구성되고 작용하는 본 발명의 다층 고분자 광회로의 제작 방법은 저렴한 비용으로 단시간 내에 제작할 수 있으므로, 지속적으로 증가하는 광신호의 처리를 위하여 요구되는 광회로를 고집적화로 극복할 수 있는 장점이 있다. 또한, 광분배 결합기(Optical Splitter), 광 커플러(Optical Coupler), 광 스위치(Optical Switch) 등과 같이 광회로에 사용되는 광소자를 구조적인 제약 및 광회로의 크기에 제약받지 않는 다층 고분자 광회로를 제작할 수 있는 장점이 있다. 광회로, 핫 엠보싱, 소프트 리소그래피, 코어, 클래드, 열가소성 고분자
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/0002(2013.01) G03F 7/0002(2013.01)
출원번호/일자 1020080102978 (2008.10.21)
출원인 부산대학교 산학협력단
등록번호/일자 10-0988300-0000 (2010.10.11)
공개번호/일자 10-2010-0043791 (2010.04.29) 문서열기
공고번호/일자 (20101018) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2008.10.21)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 류진화 대한민국 울산광역시 남구
2 오승훈 대한민국 부산광역시 남구
3 조상욱 대한민국 경상남도 함양군
4 김창석 대한민국 부산광역시 남구
5 정명영 대한민국 부산광역시 금정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인부경 대한민국 부산광역시 연제구 법원남로**번길 **, *층 (거제동, 대한타워)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 부산대학교 산학협력단 대한민국 부산광역시 금정구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2008.10.21 수리 (Accepted) 1-1-2008-0729285-16
2 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2008.11.11 수리 (Accepted) 1-1-2008-0780385-14
3 등록결정서
Decision to grant		 2010.09.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2010-0418295-62
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2014-0000027-56
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.01.13 수리 (Accepted) 4-1-2016-5004891-78
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.09 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004005-98
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2017-5004797-18
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번호 청구항
1 1
단일모드와 다중모드를 포함하는 광회로를 핫 엠보싱 공정과 소프트 리소그래피 공정을 이용하여 제작할 수 있는 다층 고분자 광회로의 제작 방법에 있어서, 핫 엠보싱 공정을 이용하여 하부 클래드(4a)를 제작하는 제1단계; 상기 핫 엠보싱 공정에 의해 중간 클래드(4b)를 제작하는 제2단계; 소프트 리소그래피 공정을 이용하여 상기 중간 클래드(4b)의 후면에 코어(1)를 형성시키는 제3단계; 상기 제3단계에 의해 코어(1)가 형성된 중간 클래드(4b)의 후면과 상기 하부 클래드(4a)의 전면을 정합시키는 제4단계; 및 상기 하부 클래드(4a)와 정합된 상기 중간 클래드(4b)의 후면에 상부 클래드(4c)를 정합하는 제5단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 고분자 광회로의 제작 방법
2 2
제 1항에 있어서, 코어(1)가 형성된 중간 클래드(4b)를 다수개 제작할 수 있도록 상기 제2단계 및 제3단계를 소정의 횟수만큼 반복하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 고분자 광회로의 제작 방법
3 3
제 1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제4단계에 의해 제작된 광회로의 전면에는 상기 제3단계에 의해 제작된 다수개의 중간 클래드(4b)를 소정의 횟수만큼 추가로 정합하는 단계를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 다층 고분자 광회로의 제작 방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 제1단계 및 제2단계는 소정의 패턴이 형성된 양각 금형(2)을 열가소성 고분자(4)의 전면에 가압하는 (가)단계 및 상기 열가소성 고분자(4)에 가압시킨 상기 양각 금형(2)을 분리하는 (나)단계를 포함하여 이루어지며, 상기 각 단계에 의해 제작된 하부 클래드(4a) 및 중간 클래드(4b)의 전면에는 상기 양각 금형(2)에 형성된 패턴에 의해 소정 간격의 얼라인 키(5)가 형성되는 것을 특징으로 하는 다층 고분자 광회로의 제작 방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 제3단계는 원형 금형(6)을 소프트 리소그래피의 복제 공정에 의하여 탄성체 금형(8)으로 복제하는 (가)단계와, 상기 제2단계에 의해 제작된 중간 클래드(4b)의 후면과 상기 탄성체 금형(8)의 전면을 정합 접촉시키는 (나)단계와, 상기 중간 클래드(4b)와 탄성체 금형(8) 사이에 형성된 캐비티 내에 코어(1) 수지를 충진하는 (다)단계와, 상기 코어(1) 수지가 충진된 탄성체 금형(8)의 후면을 노광한 후 상기 탄성체 금형(8)을 분리하는 (라)단계를 포함하여 이루어지 것을 특징으로 하는 다층 고분자 광회로의 제작 방법
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 교육과학기술부, 지식경제부 부산대학교 산학협력단 특정기초연구사업, 지역산업공통기술개발사업 Nano optical antenna/Optical wire기반의 신개념 광 연결 연구, 8채널 Multi-mode splitter 설계 및제작