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기판;상기 기판 상에 형성되는 광도파로;상기 광도파로 상에 형성되는 결합기; 및제1 그래핀을 발광시켜 광 신호를 발생하는 그래핀 광원을 포함하고,상기 그래핀 광원으로부터 발생된 광 신호는 상기 결합기를 통해 상기 광도파로로 전달되는 광결합 시스템
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제1항에 있어서, 상기 그래핀 광원은, 상기 제1 그래핀과 상기 기판이 서로 이격되도록, 상기 제1 그래핀을 지지하는 그래핀 지지부; 및상기 제1 그래핀의 적어도 일부 영역 상에 형성되는 전극을 포함하는 광결합 시스템
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제2항에 있어서,상기 광 신호는, 상기 전극에 인가되는 전기 신호에 대응하여 상기 제1 그래핀으로부터 발생되는 광결합 시스템
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제1항에 있어서,상기 광도파로의 굴절율은 상기 기판의 굴절율보다 큰 광결합 시스템
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제1항에 있어서,상기 광도파로 상에 형성되며, 상기 제1 그래핀으로부터 발생되는 광 신호의 세기를 조절하는 광 신호 조절부를 더 포함하는 광결합 시스템
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제5항에 있어서,상기 광 신호 조절부는,제2 그래핀;상기 제2 그래핀의 적어도 일부 영역 상에 형성되는 전극을 포함하는 광결합 시스템
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복수의 서브 광결합 시스템을 포함하며,상기 복수의 서브 광결합 시스템 각각은,기판;상기 기판 상에 형성되는 광도파로;상기 광도파로 상에 형성되는 결합기; 및그래핀을 발광시켜 광 신호를 발생하는 그래핀 광원을 포함하고,상기 그래핀 광원으로부터 발생된 광 신호는 상기 결합기를 통해 상기 광도파로로 전달되며, 상기 복수의 서브 광결합 시스템 각각은 서로 다른 파장을 갖는 광 신호를 출력하는 광결합 시스템
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제7항에 있어서,상기 그래핀 광원은, 상기 그래핀과 상기 기판이 서로 이격되도록, 상기 그래핀을 지지하는 그래핀 지지부; 및상기 그래핀의 적어도 일부 영역 상에 형성되는 전극을 포함하는 광결합 시스템
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제8항에 있어서, 상기 복수의 서브 광결합 시스템에 포함된 상기 그래핀 각각은 서로 다른 파장을 갖는 광 신호를 발생시키는 광결합 시스템
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제8항에 있어서, 상기 복수의 서브 광결합 시스템에 포함된 상기 그래핀 광원 각각에는 서로 다른 전기 신호가 인가되는 광결합 시스템
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제7항에 있어서,상기 복수의 서브 광결합 시스템은 파장 분할 다중 시스템(wavelength division multiplexing system)을 형성하는 광결합 시스템
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제7항에 있어서, 상기 복수의 서브 광결합 시스템 중 적어도 어느 하나는, 상기 광도파로 상에 형성되며, 상기 그래핀 광원으로부터 발생되는 광 신호의 세기를 조절하는 광 신호 조절부를 더 포함하는 광결합 시스템
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기판 상에 유전체층을 적층하는 단계;상기 유전체층의 일부를 식각하여 광도파로를 형성하는 단계;상기 광도파로 상에 결합기를 형성하는 단계;상기 기판의 일부 영역 상에 그래핀 지지부를 형성하는 단계;상기 그래핀 지지부 상에 그래핀을 전사하는 단계; 및 상기 그래핀의 일부 영역 상에 전극 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 광결합 시스템의 제조 방법
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제13항에 있어서,상기 그래핀 지지부는, 상기 광도파로의 양 측에 한 쌍으로 형성되며, 상기 그래핀이 상기 결합기와 이격되도록 상기 결합기의 높이보다 높도록 형성되는 광결합 시스템의 제조 방법
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제13항에 있어서, 상기 전극 패턴은 소정의 간격만큼 이격되어 상기 그래핀의 양측 영역에 형성되는 광결합 시스템의 제조 방법
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